CN101673010B - 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

液晶显示器的彩膜基板及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101673010B
CN101673010B CN2008102220797A CN200810222079A CN101673010B CN 101673010 B CN101673010 B CN 101673010B CN 2008102220797 A CN2008102220797 A CN 2008102220797A CN 200810222079 A CN200810222079 A CN 200810222079A CN 101673010 B CN101673010 B CN 101673010B
Authority
CN
China
Prior art keywords
planarization film
membrane substrates
color membrane
lcd
color
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2008102220797A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101673010A (zh
Inventor
宋省勋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Gaochuang Suzhou Electronics Co Ltd
Original Assignee
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN2008102220797A priority Critical patent/CN101673010B/zh
Publication of CN101673010A publication Critical patent/CN101673010A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101673010B publication Critical patent/CN101673010B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明公开了一种液晶显示器的彩膜基板,包括,基板;彩色树脂,形成于基板之上;平坦化膜,形成于所述彩色树脂之上,覆盖整个基板,所述平坦化膜的表面具有由数个凹槽组成的图形,所述形成在平坦化膜的表面上的凹槽沿第一方向延长;取向膜,形成于平坦化膜之上,且所述取向膜的表面沿所述第一方向形成取向。本发明减少了各种原因引起的摩擦不良所导致的液晶分子取向与偏光板的透光轴方向不能完全平行或垂直的缺陷的产生几率,提高了液晶显示器的对比度。本发明还公开了该彩膜基板的制造方法。

Description

液晶显示器的彩膜基板及其制造方法 
技术领域
本发明涉及液晶显示器的彩膜基板及其制造方法,尤其是涉及具有形成图形的平坦化膜的彩膜基板及其制造方法。 
背景技术
液晶显示器由液晶面板、偏光板及背光模组构成,其中,背光模组向液晶面板提供平面光,液晶面板由阵列基板、彩膜基板及阵列基板和彩膜基板之间的液晶层构成,液晶面板的上下方各设有一个偏光板,偏光板的作用是将光变成偏极光,两个偏光板的透光轴可按照需要设置成相互垂直或水平。 
液晶层是向阵列基板和彩膜基板之间注入液晶而得的,注入之前需要先在阵列基板和彩膜基板上分别形成取向膜,对盒彩膜基板和阵列基板,并注入液晶,使得注入的液晶分子根据取向膜以一定的取向来排列。 
取向膜通过摩擦辊(rubbing roll)摩擦透明基板制造,基板被摩擦后,随摩擦的方向形成取向,注入的液晶分子根据这种取向来排列,也就是说摩擦的方向即为液晶分子的取向方向。 
现有的几种液晶显示器具有对比度较低的缺点,其产生原因之一为取向膜的摩擦不良引起的液晶分子的取向与偏光板的透光轴不能达到完全平行或垂直。理论上为了得到最大的对比度,需要将液晶分子的取向与偏光板的透光轴完全平行或垂直,即摩擦方向要与偏光板的透光轴垂直或平行,但是摩擦时可能由于基板的不平整或取向膜或摩擦辊的材料等原因,导致液晶分子的取向发生一些偏移,不能完全与偏光板的透光轴平行或垂直,这种摩擦不良可通过显示低灰度的图形时出现的漏光现象来判断。 
现有技术中,为了尽量使液晶取向与偏光板的透光轴平行或垂直,通过 在取向膜下增加一层平坦化膜,使得取向膜整体平整,这样解决了基板不平整导致的摩擦不良的发生。 
但是,由于还有其他很多原因,如取向膜的材料、摩擦辊的材料等还是会导致摩擦不良,进而引起液晶显示器的对比度降低的问题。 
发明内容
本发明的目的是提供一种液晶显示器的彩膜基板及其制造方法,使其能够减少摩擦不良的发生,进而提高液晶显示器的对比度。 
为实现上述目的,本发明提供了一种液晶显示器的彩膜基板,包括:基板;彩色树脂,形成于基板之上;平坦化膜,形成于所述彩色树脂之上,覆盖整个基板,所述平坦化膜的表面形成有由数个凹槽组成的图形,所述形成在平坦化膜的表面上的凹槽沿第一方向延长;取向膜,形成于平坦化膜之上,且通过摩擦辊在所述取向膜的表面沿所述第一方向进行摩擦取向。 
为实现上述目的,本发明还提供了一种液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其包括: 
步骤1、提供具有彩色树脂的基板; 
步骤2、以平坦化膜覆盖具有彩色树脂的基板; 
步骤3、在平坦化膜的表面形成由数个凹槽组成的图形,且所述凹槽沿第一方向延长; 
步骤4、以取向膜覆盖平坦化膜的表面; 
步骤5、通过摩擦辊在所述取向膜的表面沿所述第一方向进行摩擦取向。 
由上述技术方案可知,本发明具有以下有益效果: 
本发明的彩膜基板及其制造方法,由于在平坦化膜的表面形成了与取向膜的摩擦方向相同的由多个凹槽组成的图形,在平坦化膜上形成取向膜之后,用摩擦辊摩擦取向膜上表面时,促使取向膜上沿着平坦化膜表面上的凹槽形成取向,减少了发生液晶取向偏移的可能性,即减少了由各种原因引起的摩擦 不良所导致的液晶分子取向与偏光板的透光轴方向达不到平行或垂直的缺陷的产生几率,提高了液晶显示器的对比度。 
下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。 
附图说明
图1为本发明液晶显示器的彩膜基板的结构剖面图; 
图2为本发明液晶显示器的彩膜基板的平坦化膜的示意图; 
图3为本发明液晶显示器的彩膜基板的制造方法的流程图。 
具体实施方式
请参阅图1,其为本发明液晶显示器的彩膜基板的结构剖面图,本发明的彩墨基板1包括基板10、彩色树脂12及取向膜14。其中,彩色树脂12覆盖于基板10上,彩色树脂12包括可随意排列的红绿蓝(RGB)三种颜色的树脂(resin),每个彩色树脂12皆与阵列基板上的像素电极相对应;平坦化膜13覆盖在彩色树脂12上,平坦化膜13的材料为有机树脂或光固化树脂;平坦化膜13上形成有取向膜14,取向膜14沿第一方向形成取向,该第一方向为与偏光板的透光轴平行或垂直的方向。 
另外,还可以在基板10上形成黑矩阵(未图示),达到阻挡一些非必要光线的作用,所述黑矩阵与所述彩色树脂可交叉形成在基板的上部。另外,TN型或VA型液晶显示器的彩膜基板还包括一层透明导电层(未图示),该透明导电层起到公共电极的作用,该透明导电层通常形成在平坦化膜和取向膜之间。 
请一并参阅图1及图2,图2为本发明液晶显示器的彩膜基板的平坦化膜的示意图,在本发明的彩膜基板1中,平坦化膜13的表面形成有由数个凹槽11组成的图形,所述形成在平坦化膜13的表面上的凹槽11沿第一方向延长。
当沿着第一方向(图1中为垂直于纸面的方向,图2中为从纸的左侧到右侧的方向)摩擦取向膜14进行取向时,会促使取向膜14上沿着平坦化膜13表面上的凹槽11形成取向,由此,减少了发生液晶取向偏移的可能性,即减少了由各种原因引起的摩擦不良所导致的液晶分子取向与偏光板的透光轴方向达不到平行或垂直的缺陷的产生几率,提高了液晶显示器的对比度。 
另外,这些凹槽11的宽度小于或等于10μm。但是,对于边缘电场型液晶显示器(FFS LCD)而言,其像素电极上形成有狭缝图形,此狭缝的宽度通常为5-7μm,如果上述平坦化膜13的凹槽11宽度大于狭缝的宽度或狭缝之间的宽度时,有可能在显示画面时被使用者看出平坦化膜上的图形的情况发生,因此,平坦化膜13上的凹槽11的宽度要小于狭缝的宽度或狭缝之间的宽度,即要小于4μm。 
这些凹槽11的深度为0.5μm以下,但是由于平坦化膜13上的取向膜14的厚度通常为0.1μm,因此为了不让取向膜14将平坦化膜13上的图形弄平,这些凹槽11的深度要大于取向膜14的厚度,即凹槽11的深度应为0.1μm以上。 
下面参照附图举例说明本发明彩膜基板的制造方法,图3为本发明彩膜基板的制造方法的流程图。 
如图3所示,本发明液晶显示器的彩膜基板的制造方法,包括: 
步骤1、提供具有彩色树脂的基板,本实施例中在基板上通过掩膜工艺形成彩色树脂图形,具体为,在基板上沉积彩色树脂后,涂光刻胶,并通过刻画有图形的掩膜板曝光并显影、蚀刻及剥离光刻胶而得到彩色树脂图形; 
步骤2、以平坦化膜覆盖具有彩色树脂的基板,所述平坦化膜的材料为有机树脂或光固化树脂; 
步骤3、在平坦化膜的表面形成由数个凹槽组成的图形,且所述凹槽沿第一方向延长,该第一方向为与偏光板的透光轴平行或垂直的方向; 
步骤4、以取向膜覆盖平坦化膜的表面,
步骤5、将所述取向膜的表面沿所述第一方向形成取向,取向膜的取向方法可以采用现有的以摩擦辊沿第一方向进行摩擦的方法。 
上述步骤3中,当平坦化膜是由有机树脂构成时,可通过喷射板(plate)沿所述第一方向喷射粒子(例如固体二氧化碳等),在所述平坦化膜的表面划出(scratch)凹槽的方法形成图形,凹槽的参数可通过喷射的粒子的参数得以精确控制。当然,也可以采用普通的掩膜工艺来得到图形。 
上述步骤3中,当平坦化膜是由光固化树脂构成时,可通过掩膜板对平坦化膜的表面进行曝光处理,并显影得到所述凹槽。 
本发明的彩膜基板的制造方法,由于对形成在表面上具有图形的平坦化膜上的取向膜的表面进行摩擦,促使了取向膜上沿着平坦化膜表面上的凹槽形成取向减少了发生液晶取向偏移的可能性,即减少了由各种原因引起的摩擦不良导致的液晶分子取向与偏光板的透光轴方向达不到平行或垂直的情况的发生,提高了液晶显示器的对比度。 
另外,上述步骤1中形成彩色树脂之前还可以先形成黑矩阵。进而起到阻挡一些非必要光线。 
另外,为了满足TN型、VA型等液晶显示器的需要,在本发明的彩膜基板的制造方法中的步骤3和步骤4之间,还可以增加形成透明导电层的步骤,具体为,在所述平坦化膜上通过掩膜工艺形成透明导电层的,所述步骤4所述中的取向膜覆盖在所述透明导电层上。透明导电层即起到公共电极的作用。 
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (15)

1.一种液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,包括:
基板;
彩色树脂,形成于基板之上;
平坦化膜,形成于所述彩色树脂之上,覆盖整个基板,所述平坦化膜的表面形成有由数个凹槽组成的图形,所述形成在平坦化膜的表面上的凹槽沿第一方向延长;
取向膜,形成于平坦化膜之上,且通过摩擦辊在所述取向膜的表面沿所述第一方向进行摩擦取向。
2.根据权利要求1所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽的宽度小于或等于10μm。
3.根据权利要求1所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽的宽度小于4μm。
4.根据权利要求1所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽的深度为0.1-0.5μm。
5.根据权利要求1所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,所述平坦化膜的材料为有机树脂。
6.根据权利要求1所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,所述平坦化膜的材料为光固化树脂。
7.根据权利要求1-6中任一权利要求所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,还包括黑矩阵,所述黑矩阵与所述彩色树脂交叉形成在基板的上部。
8.根据权利要求1-6中任一权利要求所述的液晶显示器的彩膜基板,其特征在于,还包括透明导电层,所述透明导电层位于所述平坦化膜与所述取向膜之间。
9.一种液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于包括:
步骤1、提供具有彩色树脂的基板;
步骤2、以平坦化膜覆盖具有彩色树脂的基板;
步骤3、在平坦化膜的表面形成由数个凹槽组成的图形,且所述凹槽沿第一方向延长;
步骤4、以取向膜覆盖平坦化膜的表面;
步骤5、通过摩擦辊在所述取向膜的表面沿所述第一方向进行摩擦取向。
10.根据权利要求9所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述平坦化膜的材料为有机树脂。
11.根据权利要求10所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述步骤3具体为,通过喷射板沿所述第一方向喷射粒子,在所述平坦化膜的表面划出凹槽。
12.根据权利要求9所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述平坦化膜的材料为光固化树脂。
13.根据权利要求12所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述步骤3具体为,通过掩膜板对平坦化膜的表面进行曝光处理,并显影得到所述凹槽。
14.根据权利要求9-13中任一权利要求所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述步骤1中提供的基板上形成黑矩阵。
15.根据权利要求9-13中任一权利要求所述的液晶显示器的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述步骤3和步骤4之间还包括:在所述平坦化膜上形成透明导电层的步骤,所述步骤4中的所述取向膜覆盖在所述透明导电层上。
CN2008102220797A 2008-09-08 2008-09-08 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法 Active CN101673010B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008102220797A CN101673010B (zh) 2008-09-08 2008-09-08 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008102220797A CN101673010B (zh) 2008-09-08 2008-09-08 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101673010A CN101673010A (zh) 2010-03-17
CN101673010B true CN101673010B (zh) 2011-03-23

Family

ID=42020299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008102220797A Active CN101673010B (zh) 2008-09-08 2008-09-08 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101673010B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102253521B (zh) * 2011-08-08 2013-11-06 信利半导体有限公司 一种液晶显示装置及制造方法
JP5837832B2 (ja) * 2012-01-20 2015-12-24 富士フイルム株式会社 光硬化性樹脂層が形成された基板とその形成方法、静電容量型入力装置及び画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101673010A (zh) 2010-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102799029B (zh) 液晶显示基板和液晶显示装置
CN100568065C (zh) 液晶显示器及制造该显示器的方法
US20190219865A1 (en) Bps array substrate and manufacturing method thereof
CN104865754A (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
CN104280958B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
US20060274220A1 (en) Liquid crystal display panel having a constant cell gap and method of making the same
CN103033978A (zh) 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN103676293A (zh) 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置
US10488710B2 (en) Array substrate and method for manufacturing the same, and display apparatus
CN105093693A (zh) 显示母板及其制作方法、显示面板、显示装置
US20070059868A1 (en) Thin film transistor manufacturing method and substrate structure
CN104614893A (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示装置
CN106405922A (zh) 显示面板、显示面板的制造方法及显示装置
CN101673010B (zh) 液晶显示器的彩膜基板及其制造方法
KR100755750B1 (ko) 인식표를 포함하는 컬러필터 기판 및 그의 제조 방법
US20070121045A1 (en) Liquid crystal display panel and method of fabricating the same
US7952665B2 (en) Substrate for LCD device and method for manufacturing the same
US7406915B2 (en) Method for forming black matrix of liquid crystal display device
KR101112064B1 (ko) 액정표시장치용 컬러필터 기판의 제조방법
CN102466922A (zh) 彩膜基板及其制造方法、液晶显示器
US8284334B2 (en) Display device and method of fabricating the same
JP2015166817A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
CN1916111B (zh) 有机组合物,包含该有机组合物的液晶显示器和制造液晶显示器的方法
CN103021941B (zh) 一种制造阵列基板的方法、阵列基板及液晶显示设备
US7485483B2 (en) Methods of fabricating active device array substrate and fabricating color filter substrate

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: JINGDONGFANG SCIENCE AND TECHNOLOGY GROUP CO., LTD

Free format text: FORMER OWNER: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY CO., LTD.

Effective date: 20141210

Owner name: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY

Effective date: 20141210

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 100176 DAXING, BEIJING TO: 100015 CHAOYANG, BEIJING

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20141210

Address after: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No.

Patentee after: BOE Technology Group Co., Ltd.

Patentee after: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd.

Address before: 100176 Beijing economic and Technological Development Zone, West Central Road, No. 8

Patentee before: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20201126

Address after: 215200 No. 1700, Wujiang economic and Technological Development Zone, Suzhou, Jiangsu, Zhongshan North Road

Patentee after: Gaochuang (Suzhou) Electronics Co.,Ltd.

Patentee after: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd.

Address before: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No.

Patentee before: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd.

Patentee before: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY Co.,Ltd.