CN101654334B - 离线浅绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种离线高透低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上设有依次设有氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法为：在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中，使其基础真空达到103Pa，线速度为2米/分钟时，对玻璃基片依次溅射氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。本发明具有在不使用绿玻为基片的情况下，可以使镀膜玻璃的a*值≤-8，且价格低廉，工艺稳定的优点。
Description
技术领域：
本发明涉及一种玻璃及其制备方法，特别是一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术：
现有的普通透明玻璃应用很广泛，其透射范围正好与太阳辐射光谱区域重合，因此，在透过可见光的同时，阳光中的红外线热能也能大量透过玻璃，而3～5um中红外波段的热能又被大量的吸收，对暖气发出的波长5um以上的热辐射，普通玻璃不能直接透过而是近乎完全吸收，并通过传导、辐射及与空气对流的方式将能热传递到室外，使室内的温度降低，另外，普通玻璃不能阻挡紫外线，易使室内的家俱和织物褪色，目前还有一种浅绿色的低辐射镀膜玻璃，基本上都是以绿玻为基片来生产，以白玻为基片所生产出来的镀膜玻璃a*值为-5左右(a*值可通过分光仪检测出)只有在绿玻上镀膜的产品a*值才能达到-7左右。由于色玻价格高(相对同规格的白玻)和其工艺的不稳定性(不同批次的色玻很容易有色差出现)造成镀膜玻璃最终产品的价格偏高和出现色差的现象。
发明内容：
本发明的目的是为了克服以上的不足，提供一种达到在白玻上镀膜后a*值≤-8，完全可以替代绿玻镀膜的效果，价格低廉，工艺稳定的离线浅绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上设有依次设有氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。
离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：
A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基片进行清洗；
B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为103Pa，线速度设置为2米/分钟；
C：将玻璃基片送入镀膜室，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～22KW，在玻璃基片上溅射第一层15nm～25nm的氧化钛TiOx；
D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为16KW～20KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm～25nm的氧化锡SnOx；
E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7KW～8KW，在玻璃基片上溅射第三层18nm～22nm的金属银Ag；
F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.5KW～8.5KW，在玻璃基片上溅射第四层23nm～27nm的氧化镍铬NiCrOx；
G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为70KW～74KW，在玻璃基片上溅射第五层55nm～65nm的氧化锡SnOx；
H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为63KW～67KW，在玻璃基片上溅射第六层35nm～45nm的氮化硅SiNx。
本发明与现有技术相比具有以下优点：在不使用绿玻为基片的情况下，可以使镀膜玻璃的a*值≤-8，且价格低廉，工艺稳定。
具体实施方式：
为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。
本发明离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的一种实施方式为：离线浅绿色低辐射镀膜玻璃包括玻璃，3mm～15mm玻璃基片上依次设有15nm～25nm的氧化钛TiOx、15nm～25nm的氧化锡SnOx、18nm～22nm的金属银Ag层、23nm～27nm的氧化镍铬NiCrOx、55nm～65nm的氧化锡SnOx、35nm～45nm的氮化硅SiNx。
离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：
A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基片进行清洗；
B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为103Pa，线速度设置为2米/分钟；
C：将玻璃基片送入镀膜室，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～22KW，在玻璃基片上溅射第一层15nm～25nm的氧化钛TiOx；
D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为16KW～20KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm～25nm的氧化锡SnOx；
E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7KW～8KW，在玻璃基片上溅射第三层18nm～22nm的金属银Ag，可以使玻璃起到低辐射的作用，在溅射金属银Ag之前还可以溅射金属NiCr，可以保护金属银Ag不被氧化；
F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.5KW～8.5KW，在玻璃基片上溅射第四层23nm～27nm的氧化镍铬NiCrOx，保护金属银Ag不被氧化；
G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为70KW～74KW，在玻璃基片上溅射第五层55nm～65nm的氧化锡SnOx；
H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为63KW～67KW，在玻璃基片上溅射第六层35nm～45nm的氮化硅SiNx，保护各层物质不被外界环境污染和腐蚀。
本发明具有在不使用绿玻为基片的情况下，可以使镀膜玻璃的a*值≤-8，且价格低廉，工艺稳定的优点。
实施例1：
在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中，使其基础真空达到103Pa，线速度为2米/分钟时，在6mm玻璃基片上溅射：功率为20KW时溅射的氧化钛TiOx厚度为20nm，功率为18KW时溅射的氧化锡SnOx厚度为15nm，功率为7.5KW时金属银Ag的厚度为20nm，功率为8KW时溅射的氧化镍铬NiCrOx厚度为25nm，功率为72KW时溅射的氧化锡SnOx厚度为60nm，功率为65KW时溅射的氮化硅SiNx厚度为40nm。此时玻璃的厚度最佳，颜色也为最佳，同样能达到低辐射的效果。
Claims (3)
1.一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片上依次设有氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag层、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx，所述玻璃基片的厚度为3～15mm，所述氧化钛TiOx的厚度为15nm～25nm，所述氧化锡SnOx的厚度为15nm～25nm，所述金属银Ag的厚度为18nm～22nm，所述氧化镍铬NiCrOx的厚度为23nm～27nm，所述氧化锡SnOx的厚度为55nm～65nm，所述氮化硅SiNx的厚度为35nm～45nm。
2.一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基片进行清洗；
B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa，线速度设置为2米/分钟；
C：将玻璃基片送入镀膜室，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW～22KW，在玻璃基片上溅射第一层15nm～25nm的氧化钛TiOx；
D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为16KW～20KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm～25nm的氧化锡SnOx；
E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7KW～8KW，在玻璃基片上溅射第三层18nm～22nm的金属银Ag；
F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.5KW～8.5KW，在玻璃基片上溅射第四层23nm～27nm的氧化镍铬NiCrOx；
G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为70KW～74KW，在玻璃基片上溅射第五层55nm～65nm的氧化锡SnOx；
H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为63KW～67KW，在玻璃基片上溅射第六层35nm～45nm的氮化硅SiNx。
3.根据权利要求2所述离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤A中，玻璃基片的厚度为6mm；；
所述步骤C中，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20KW，在玻璃基片上溅射第一层20nm的氧化钛TiOx；
所述步骤D中，设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为18KW，在玻璃基片上溅射第二层15nm的氧化锡SnOx；
所述步骤E中，设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.5KW，在玻璃基片上溅射第三层20nm的金属银Ag；
所述步骤F中，设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为8KW，在玻璃基片上溅射第四层25nm的氧化镍铬NiCrOx；
所述步骤G中，设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为72KW，在玻璃基片上溅射第五层60nm的氧化锡SnOx；
所述步骤H中，设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为65KW，在玻璃基片上溅射第六层40nm的氮化硅SiNx。
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