CN101652029B - 清洗装置及清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种清洗装置，其包括清洗槽、与清洗槽相连通的过滤装置与循环泵。该过滤装置固定于该清洗槽的侧壁，该循环泵分别与清洗槽底部及过滤装置相连通，用于自清洗槽抽取混有沉淀物的清洗液，并将该清洗液送至过滤装置过滤，该侧壁还开设有贯穿的注入孔，该过滤装置包括过滤槽，该过滤槽的侧槽壁开设有通孔，该注入孔与所述通孔相连通，经过滤装置过滤后的清洗液经由该注入孔与所述通孔被重新注入清洗槽内以供清洗使用。该清洗装置具有于提高清洗效率，本发明还提供一种清洗系统。
Description
技术领域
本发明涉及电路板制作技术领域，特别涉及一种电路板清洗装置及清洗系统。
背景技术
印刷电路板(Printed Circuit Board，简写为PCB)是电子产品中传输信号的主要器件，特别是具有体积小，重量轻，可做立体组装及动态可挠曲等优点的软性电路板，被越来越广泛的应用于各种便携式电子产品中，参见文献Takao Yamazaki，Yoshimichi Sogawa，Rieka Yoshino，Keiichiro Kata，Ichiro Hazeyama，and Sakae Kitajo，Real Chip Size Three-Dimensional Stacked Package，IEEETransactions on Advanced Packaging，2005，28(3)，397-403。
目前，为降低电路板的废品率，对最外侧保护层品质不合格的电路板，采用超声波清洗的方法，将压合于该电路板最外侧的保护层(如防焊层等)从电路板上剥离，使遮盖于该保护层下的内层电路板可以重新进行保护层制作，从而获得良品率较高的电路板。超声波清洗是通过超声波的振动引起清洗槽中液体(化学药液、水等)振荡，进而由该振荡的液体与放置于清洗槽液体内的待清洗物体发生化学反应及物理地相互作用，从而获得清洗效果。
通常采用化学药液清洗电路板的防焊层时，需要将电路板浸入化学药液中，电路板表面的防焊层与化学药液发生化学反应，从而生成呈粘稠状的沉淀。清洗过程中需要将废液经排污管道排出清洗槽，并向清洗槽内注入新鲜的清洗液，以保证清洗效果。然而，由于该排污管道是用于排出液体，该粘稠状的沉淀如果进入该排污管道可能会阻塞排污管道。如果将排污管道的孔径增加至沉淀可顺利通过的要求，将会使大量可以继续使用的清洗液迅速排出，浪费清洗液，提高清洗成本。
发明内容
因此，有必要提供一种清洗装置及清洗系统，以解决前述问题，提高清洗效果。
以下将以实施例说明一种清洗装置及清洗系统。
一种清洗装置，其包括清洗槽、与清洗槽相连通的过滤装置与循环泵。该过滤装置固定于该清洗槽的侧壁，该循环泵分别与清洗槽底部及过滤装置相连通，用于自清洗槽抽取混有沉淀物的清洗液，并将该清洗液送至过滤装置过滤，所述侧壁还开设有贯穿的注入孔，所述过滤装置包括过滤槽，所述过滤槽的侧槽壁开设有通孔，所述注入孔与所述通孔相连通，经过滤装置过滤后的清洗液经由所述注入孔与所述通孔被重新注入清洗槽内以供清洗使用。
一种清洗系统，其包括清洗装置、挂架及传送装置。所述挂架用于放置待清洗物体，所述传送装置与所述挂架相连，用以吊起挂架并分别放置于清洗装置的清洗液中进行清洗。该清洗装置包括清洗槽、与清洗槽相连通的过滤装置与循环泵。该循环泵分别与清洗槽底部及过滤装置相连通，用于自清洗槽抽取混有沉淀物的清洗液，并将该清洗液送至过滤装置过滤，经过滤装置过滤后的清洗液被重新注入清洗槽内以供清洗使用。
与现有技术相比，该清洗装置的循环泵抽取的混有沉淀物的清洗液经过滤装置过滤后，将过滤后不含沉淀物的清洗液重新注入清洗槽，使清洗液实现循环使用，从而提高清洗槽内清洗液的利用率，提高清洗效率。
附图说明
图1是本技术方案第一实施例提供的清洗装置的结构示意图。
图2是本技术方案第二实施例提供的清洗系统的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图及实施例，对本技术方案提供的清洗装置及清洗系统作进一步的详细说明。
请参阅图1，本技术方案第一实施例提供的清洗装置10，其包括清洗槽11、过滤装置12与循环泵13。该过滤装置12与循环泵13设置于清洗槽11，并与该清洗槽11相连通。
该清洗槽11用于收容化学药液、水或其他清洗液，以供清洗时使用。该清洗槽11可为一个槽体，也可由多个槽体组合而成。本实施例中，清洗槽11为具有开口端111的一个敞开槽体，其具有侧壁112。该清洗槽11靠近开口端111开设有贯穿侧壁112的注入孔113。该注入孔113与过滤装置12相连通，用于将过滤装置12过滤后的清洗液通过该注入孔113注入清洗槽11。该清洗槽11为超声波清洗槽，该侧壁112内设置有超声波发生器(图未示)，用于产生超声波使收容于清洗槽11内的液体发生振荡，从而使液体产生冲击力将待清洗物体表面的污物从该物体表面移去。当然，清洗槽11也可在开口端111设置盖子形成封闭体，或者其内可用于收容清洗前或清洗时所需使用的具有清洗能力的气体或固体物质，以满足不同待清洗物体的清洗需要。
本实施例中，清洗装置10的清洗槽11内为碱液(如氢氧化钾)，用以与电路板表面的防焊层发生化学反应，使防焊层脱落。
该循环泵13固定于清洗槽11的侧壁112，并分别与清洗槽11的底部及过滤装置12相连通，用于从清洗槽11抽取混有沉淀物的清洗液，并将该清洗液送至过滤装置12过滤。本实施例中，循环泵13通过抽取管道101与清洗槽11的底部相连通，该抽取管道101中间设置第一阀门102，以控制抽取管道101的开启与闭合。该循环泵13通过输送管道103与过滤装置12相连通，用于将抽取管道101抽取的清洗液输送至过滤装置12。该循环泵13可为离心泵或其他可抽取沉淀物的装置。
该过滤装置12用于将循环泵13输入的清洗液中的沉淀物滤掉。该过滤装置12可为各种设计，只要能将清洗液中的沉淀物与清洗液分离开即可。本实施例中，过滤装置12直接固定于侧壁112，其具有被盖体121遮盖的过滤槽122及设置于过滤槽122内的两个过滤单元123。该过滤槽122具有侧槽壁124。该两个过滤单元123的两端分别固定于相对设置的侧槽壁124，使两个过滤单元123平行设置。该过滤单元123可为网状过滤膜、实心膜或其他可将沉淀过滤掉的过滤单元123。本实施例中，过滤单元123为网状过滤膜。优选地，在自过滤槽122的底部向开口的延伸方向上，该过滤单元123的高度小于侧槽壁124的高度，用于当过滤后的清洗液液面高于过滤单元123时，可自过滤单元123上方流过。
该两个过滤单元123将过滤槽122分隔为第一槽体122a、与第一槽体122a相邻的第二槽体122b及与第二槽体122b相邻的第三槽体122c。该第一槽体122a的侧槽壁124开设有第一通孔125a。该第一通孔125a与输送管道103连通，并通过输送管道103与循环泵13连通。该第三槽体122c面对侧壁112的侧槽壁124开设第三通孔125c。该第三通孔125c与清洗槽11的注入孔113相连通，以供过滤后的清洗液注入清洗槽11。该第一槽体122a与第二槽体122b底部分别开设通孔，该通孔与排污管道104相连通，用于排出沉淀于第一槽体122a与第二槽体122b底部的污物。该排污管道104中间设置第二阀门105，以控制排污管道104的开启与闭合。
该过滤装置12的原理为：循环泵13将清洗槽11抽取的含沉淀物的清洗液由第一通孔125a注入第一槽体122a内进行第一次静置沉淀。沉淀后的清洗液高于放置于第一槽体122a与第二槽体122b之间的过滤单元123时，清洗液流入第二槽体122b内进行第二次静置沉淀。沉淀后的清洗液高于放置于第二槽体122b与第三槽体122c之间的过滤单元123时，再次沉淀后的清洗液流入第三槽体122c。第三槽体122c内的清洗液由第三通孔125c注入清洗槽11，从而实现清洗液的循环使用。沉淀于第一槽体122a与第二槽体122b的污物可自排污管道104排出，进行废液处理。
该清洗装置10还设置有清洗液注入装置14。该清洗液注入装置14与中央控制器(图未示)相连，用于根据清洗槽11内清洗液的质量及浓度变化向清洗槽11内注入新鲜的清洗液。
请参阅图2，本技术方案第二实施例提供的清洗系统20，其包括清洗装置10、水洗装置21、挂架22以及与挂架22相连的传送装置23。该水洗装置21包括水洗槽211及注水装置212。该水洗槽211内设有超声波发生器(图未示)，以使水洗槽211内的清水振荡并清洗物体。该清洗装置10与水洗装置21相邻设置。该挂架22用于放置待清洗物体，该传送装置23与挂架22相连，用以吊起挂架22并分别放置于清洗装置10的清洗槽11与水洗装置21的水洗槽211内的清洗液中进行清洗。
当然，清洗系统20也可不包括挂架22，只要传送装置23直接吊起待清洗物体并放置于清洗装置10与水洗装置21的清洗液中即可。另外，清洗系统20也可包括多个清洗装置10，并在不同清洗装置10的清洗槽11内注入相应的清洗液体即可实现使用不同清洗液对物体进行多次清洗。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种清洗装置，其包括清洗槽，所述清洗槽具有侧壁，其特征在于，其还包括与清洗槽相连通的过滤装置与循环泵，所述过滤装置固定于所述侧壁，所述循环泵分别与清洗槽底部及过滤装置相连通，用于自清洗槽抽取混有沉淀物的清洗液，并将该清洗液送至过滤装置过滤，所述侧壁还开设有贯穿的注入孔，所述过滤装置包括过滤槽，所述过滤槽的侧槽壁开设有通孔，所述注入孔与所述通孔相连通，经过过滤装置后的清洗液从所述通孔及所述注入孔被重新注入清洗槽内以供清洗使用。
2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述过滤槽内设有过滤单元，以使清洗液从过滤单元的一侧由循环泵注入，流经过滤单元后从过滤单元的另一侧流出。
3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述过滤单元为网状过滤膜。
4.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述过滤单元为实心膜，在自过滤槽的底部向开口的延伸方向上，所述过滤单元的高度小于侧槽壁的高度。
5.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，其还设置有清洗液注入装置，所述清洗液注入装置与中央控制器相连，用于根据清洗槽内清洗液的质量及浓度变化向清洗槽内注入新鲜的清洗液。
6.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽为超声波清洗槽。
7.一种清洗系统，其特征在于，其包括如权利要求1至6任意一项所述的清洗装置、挂架及传送装置，所述挂架用于放置待清洗物体，所述传送装置与所述挂架相连，用以吊起挂架并放置于清洗装置中的清洗液中进行清洗。
8.如权利要求7所述的清洗系统，其特征在于，其还包括与清洗装置相邻设置的水洗装置，用于继续清洗自清洗装置清洗后的物体。
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