CN101609133B - 使局部线圈与信号单元接触的系统和方法及磁共振设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种使磁共振局部线圈(3)与磁共振断层造影设备(7)的信号继续处理单元(5)相接触的接触系统(1)。该系统具有多个与磁共振局部线圈电连接的线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)，和设置在磁共振断层造影设备上并与信号继续处理单元电连接的设备耦合器元件(13a；13b；13c)。线圈耦合器元件和设备耦合器元件构造成，使得当局部线圈在磁共振断层造影设备中沿着运动路线运动时至少在特定的路线段上使至少一部分线圈耦合器元件与设备耦合器元件连续接触。此外本发明还涉及一种使磁共振局部线圈与信号继续处理单元相接触的方法以及一种具有这样的接触系统的磁共振断层造影设备。

Description

使局部线圈与信号单元接触的系统和方法及磁共振设备
技术领域
本发明涉及一种用于使磁共振局部线圈与磁共振断层造影设备的信号继续处理单元相接触的接触系统和方法以及具有这样的接触系统的磁共振断层造影设备。
背景技术
为了检查人的身体部分公知的是，将待检查的身体部分送入均匀的磁场、即所谓的基本场。磁场导致身体部分中原子核、特别是与水相关的氢原子核(质子)的原子核的核自旋的对齐。借助高频激励脉冲将这些核激励为进动运动。在激励脉冲结束之后原子核以取决于基本场强度的频率进动，并且然后由于其自旋在预定的弛豫时间之后又回到由基本场规定的择优磁化方向。在此原子核发送高频信号、即所谓的磁共振信号。
通过对完整的磁共振信号进行计算的或者测量技术的分析，可以由空间自旋密度或者弛豫时间在身体层内的分布来产生图像。通过应用线性场梯度可以将由于进动运动而可探测的磁共振信号与产生其的相应位置相对应。为此将相应的梯度场与基本场叠加并进行控制，使得仅在待成像的层中对核进行激励。基于该物理效应的图像显示作为“磁共振断层造影”是公知的。
为了接收检查对象的磁共振信号目前大多使用局部表面线圈(局部线圈)、所谓的“环形天线”以及在上面构建的阵列装置作为接收天线。
通过激励的原子核产生的磁共振信号在接收天线中感应出电压，该电压然后作为接收的磁共振信号在低噪的前置放大器中被放大并经过电缆传输到另一个放大装置。然后这样被两次放大的磁共振信号经过另一条导线被传输到信号继续处理单元，磁共振信号通过该信号继续处理单元被进一步处理。这样的信号继续处理单元也就是接收电子电路，其获取由局部线圈接收的信号并进行处理，特别是放大和解调，使得从中产生合适形式的原始图像数据，然后基于该数据(通常是借助其它处理单元)可以重建检查对象的立体图像数据和/或截面图像数据。
如所提到的、目前通常在每个磁共振局部线圈中设有用于放大信号的前置放大器，信号经过导线和插头被传输到继续处理单元。在从上到下用多个磁共振局部线圈覆盖较大的检查对象时和/或在使用多通道阵列时需要相应多数量的导线和插头以及信号继续处理单元或者说在多通道信号继续处理单元中的输入通道。信号继续处理单元或者说在多通道信号继续处理单元中的输入通道的数量通常由于成本原因受到限制。
由此优选只将那些刚好位于磁共振断层造影设备的接收场(视野)中的磁共振局部线圈被连接到继续进行的电子组件。然而由此产生的问题是，在检查对象运动期间必须将磁共振局部线圈分别耦合并且又退耦。
由此在这样的流程中必须非连续地、例如有节拍地使对象支撑装置运动，以便拥有耦合转换(Umkoppeln)的机会。这极大地延迟了检查过程。
发明内容
由此本发明要解决的技术问题是，提供一种简化的使磁共振局部线圈与磁共振断层造影设备的信号继续处理单元接触的可能性，，其优选还能够连续移动对象支撑装置。
上述技术问题按照本发明通过一种用于使磁共振局部线圈与磁共振断层造影设备的信号继续处理单元接触的接触系统以及一种接触方法来解决。
按照本发明的接触系统具有与磁共振局部线圈电连接的多个线圈耦合器元件，和设置在磁共振断层造影上并与信号继续处理单元电连接的设备耦合器元件。在此这样构造线圈耦合器元件和设备耦合器元件，使得在局部线圈在磁共振断层造影设备中沿着运动路线运动时至少在特定的路线段上使至少一部分线圈耦合器元件与设备耦合器元件连续接触。
替代如迄今为止通过固定的接触连接或者经过插头接触的接触，使得能够经过不必互相固定地机械连接的线圈耦合器元件和设备耦合器元件来进行磁共振局部线圈的测量信号至信号继续处理单元的信号传输。因此可以自动地进行接触，也就是在磁共振扫描进行期间无需外来介入到磁共振断层造影设备中，在该磁共振扫描中检查对象被移动通过患者空间并被扫描。
由此也不一定需要将前置放大器集成到局部线圈中。所以优选将前置放大器设置在设备中设备耦合器元件之后、特别是优选相对靠近地设置在设备耦合器元件之后，并且各个局部线圈也只有通过接触才接通。这是可能的，因为可以弃用用于接触局部线圈的非常长的电缆。由此也节省了局部线圈的供电。但是只要一如既往地采用具有集成的前置放大器和/或控制元件的局部线圈，就不仅是信号导线，而且还有用于前置放大器的电源线和/或用于局部线圈的其它控制导线都可以按照本发明的方式来接触。
在按照本发明的用于使磁共振局部线圈与磁共振断层造影设备的信号继续处理单元接触的方法中，借助与磁共振局部线圈电连接的线圈耦合器元件和设置在磁共振断层造影设备上并与信号继续处理单元电连接的设备耦合器元件，在磁共振局部线圈在磁共振断层造影设备中沿着运动路线运动时至少在特定的路线段上使至少一部分线圈耦合器元件与设备耦合器元件连续接触。
在本发明的范围内，运动路线优选是这样的路线，在该路线上使检查对象相对于磁共振断层造影设备被传送到磁共振断层造影设备中并在磁共振断层造影设备移动，也就是说，在测量空间(通常是患者隧道或者侧面开口的U形空间)中和穿过测量空间的具有水平运动方向的直的路线。在此既可以是检查对象在断层造影设备的方向上运动也可以是断层造影设备在检查对象的方向上运动。
本发明还涉及具有按照本发明的接触系统的磁共振断层造影设备。
本发明的其它特别具有优势的实施方式和扩展在以下的描述中给出。在此接触系统和磁共振断层造影设备还可以进一步扩展。
优选线圈耦合器元件置于对象支撑装置上，磁共振局部线圈借助该对象支撑装置在运行中一起移动。这样的对象支撑装置通常被称为患者卧榻，在此并不是说，由此只有患者可以作为检查对象被置于其上。线圈耦合器元件通常被置于检查对象上面和/或下面或者直接安装在这样的患者卧榻上，使得患者卧榻的运动还自动地导致线圈耦合器元件的运动。线圈耦合器元件可以与患者卧榻固定连接并例如经过集成在患者卧榻中的插头与可自由放置在检查对象上的磁共振局部线圈相连。
按照本发明的一种特别优选的实施方式，这样构造和设置线圈耦合器元件和设备耦合器元件，使得分别接触其对应的磁共振局部线圈在运行中位于磁共振断层造影设备的拍摄区域中的那些线圈耦合器元件。拍摄区域，也称为“视野”，是这样的区域，在该区域中断层造影设备进行用于获取图像数据的测量。通常这是患者隧道的中间区域，在该区域中用于激励和获取磁共振信号的场是特别均匀的。由此至少相当部分的磁共振局部线圈与正好位于视野中的信号继续处理单元相连。
由于位于视野以外的磁共振局部线圈对原始数据的获取没有贡献，所以它们也不必与信号继续处理单元相连。因为信号继续处理单元的通道数有限，所以优选这样构造接触系统，使得只有位于视野中的磁共振局部线圈被接触。
为此优选这样构造和设置线圈耦合器元件和/或设备耦合器元件，使得在磁共振局部线圈即将进入或正在进入磁共振断层造影设备的拍摄区域时使对应于磁共振局部线圈的线圈耦合器元件与设备耦合器元件耦合。类似的，优选替换地或补充地，这样构造和设置线圈耦合器元件和/或设备耦合器元件，使得在磁共振局部线圈从磁共振断层造影设备出来之后或者在出来之时去除对应于磁共振局部线圈的线圈耦合器元件与设备耦合器元件的耦合。
在磁共振局部线圈进入视野情况下的这样的耦合和/或在从视野中出来情况下的这样的去耦合意味着，可以最佳使用耦合电容：在视野中的耦合是重要的-就算不必一定总是在整个视野内，而在视野外的耦合则只会是耦合资源的浪费。由此当在视野外没有耦合时，资源就得到最佳的使用。
实践中这可以通过对线圈耦合器元件和/或设备耦合器元件关于磁共振局部线圈的设置合适地确定尺寸和排列来应用。如下面结合例子还要解释的，耦合器元件为此不必一定要大小相同或者具有大约为磁共振局部线圈接收区域的大小。更确切说该效果的关键在于确定耦合器元件的尺寸和排列的组合。
优选线圈耦合器元件位于垂直于运动方向的、通过磁共振局部线圈延伸的垂直线上。换言之磁共振局部线圈和线圈耦合器元件直接相叠地或者并排地排列。仅该排列还不足以实现在进入视野或者从视野出来时的耦合或者去耦合的上述效果，但是该排列本身就已经具有优势，因为由此可以将磁共振局部线圈和与其对应的线圈耦合器元件简单地对应。作为替换还可以在该排列中设置线圈耦合器元件在运动方向上或者与运动方向相反的偏移，在此优选线圈耦合器元件之间的间隔和与其对应的磁共振局部线圈之间的间隔分别保持相同。
原则上耦合器元件的接触可以任意的方式进行，例如还可以通过光信号传输。但是优选线圈耦合器元件和设备耦合器元件构造为针对电的和/或电容的和/或电感的接触。电耦合除了别的之外还具有如下优点，即无需进行转换到其它形式的信号载体的信号传输并且可以简单地通过物理接触建立接触。在最简单的变形中电耦合元件例如实施为相对于彼此运动的滑动触点，其中，可以将一种耦合器元件的形式构造成刷形的，从而使刷子可以在另一种形式的耦合器元件的表面上滑过。
相反电容和电感系统例如具有如下优点，即它们无接触地工作并且由此而不存在耦合器元件磨损和用坏的危险。
一种特殊的非常具有优势的电容接触是，线圈耦合器元件和设备耦合器元件分别具有至少两个并行起作用的电容器面或者电容器片，它们分别形成一个电容器组、特别是电容器对。在此各线圈耦合器元件的一个电容器面与和该所涉及的电容器面相对应的、相对设置的设备耦合器元件的电容器片分别形成电容器组或者电容器对的一个电容器。然后这样构造并且互相排列电容器组(或者说电容器对)的各共同起作用的电容器面或者电容器片，使得通过线圈耦合器元件和设备耦合器元件之间的垂直于电容器片的相对运动产生的电容器组的一个电容器的电容改变通过由所涉及的运动必然同样导致的电容器组的至少另一个电容器的电容改变来补偿。
这样的排列或者说连接具有如下优点，即耦合器元件在另一个耦合器元件的部分之间运动，并且由此第一耦合器元件到第二耦合器元件的两个部分的间隔不必精确地保持恒定，如否则在电容的信号传输中所必须的那样。
对于设备耦合器元件和线圈耦合器元件的连续的耦合需要磁共振断层造影设备的不同元件的运动，在此相应的运动特别优选是连续的运动，以使工作流程不会不必要地延迟。如上面提到的，当不是使所有磁共振局部线圈都固定地被接触时，这样的连续运动目前只有用按照本发明的方法才有可能。优选磁共振局部线圈与线圈耦合器元件和/或设备耦合器元件一起连续运动。然而这也意味着，对象支撑单元也同样一起连续地运动。
线圈耦合器元件和设备耦合器元件的运动原则上可以基于两种可替换的方法来进行：线圈耦合器元件和设备耦合器元件彼此相对运动或者它们共同、优选形状相同地共同或者说彼此并行地运动。第一变形意味着，设备耦合器元件驶过线圈耦合器元件或者反之。而按照第二变形两种耦合器元件在特定的路径上组合地运动。两种变形的优点主要根据各个磁共振断层造影设备的结构而不同。一般地说，耦合器元件彼此相对运动意味着接触系统的更简单的结构和更小的构造高度。而使两种形式的耦合器元件同时运动可以使接触系统的控制更简单：耦合器元件相接触并且由此一次性地对齐，从而使彼此间的基本取向不变。与之相反的是，在耦合器元件互相驶过时产生持续改变的偏移，这会影响传输质量。
耦合器元件的特殊但、由于简单而能够良好控制的具有优势的并行运动是，线圈耦合器元件和设备耦合器元件在运行中通过滚动互相耦合。这例如可以借助将耦合器元件集成在其中的轧辊进行。这样的轧辊例如可以与其它的在其中分别包含其它耦合器元件的轧辊滚动地相连。尽管耦合器元件的运动，通过滚动还是有优势地产生可靠且固定的接触，这使得用于信号传输的接触非常简单。必要时还可以使用诸如附加的中间耦合轧辊的中间耦合器元件。
通过滚动借助集成于带中、优选是环带中的线圈耦合器元件和/或设备耦合器元件实现另一种形式的接触。这样的带又优选被构造为柔性印刷电路板和/或由印刷电路板的片段构成。这样的带作为相应耦合器元件的一种载体起作用并且具有如下优点，即它可以柔性地驶过导向元件、例如也是轧辊。如果使用环带，则通过两个导向轧辊耦合器元件可以分别总是回到其运动的起点并被用于继续的接触过程。
作为通过滚动的接触的替换，按照另一种优选的、可简单地集成在磁共振断层造影设备中的接触系统的实施方式，设备耦合器元件或线圈耦合器元件设置在导向凹槽的区域中，在运行中当运动时在该导向凹槽中沿着运动路线的运动方向引导形状互补的插入导向元件，而其它耦合器元件则设置在该插入导向元件的区域中。因此这样的例如沟形或槽形的导向凹槽与例如轨道形(schienenartig)或剑形(schwertartig)的插入导向元件一起工作，在此分别将共同作用的一种耦合器元件设置在导向凹槽上或设置在插入导向元件上。也就是说，当线圈耦合器元件设置在插入导向元件上时，与之共同作用的设备耦合器元件匹配地设置在对应的导向凹槽中。导向凹槽和插入导向元件例如可以设置在患者卧榻特别是在底面并且必要时设置在患者卧榻下在磁共振断层造影设备的测量空间中。根据设计和可用空间可以将导向凹槽和插入导向元件定位在患者卧榻上或者在底面上。具有多个导向凹槽和插入导向元件的实施方式也是可能的，在这种情况下插入导向元件可以位于患者卧榻上和磁共振断层造影的底面而在患者卧榻和磁共振断层造影设备的底面的匹配位置上设置各个相应的导向凹槽。
为了稳定接触系统特别是为了保证耦合器元件之间尽可能小且恒定的间隔，非常具有优势的是，接触系统包括用于将设备耦合器元件压在线圈耦合器元件上和/或将线圈耦合器元件压在设备耦合器元件上的弹性的和/或柔性的按压元件。这例如可以通过简单的按压弹簧实现。
按照现有技术通常每个磁共振局部线圈都配备一个用于信号放大的本身的前置放大器，其通常集成在局部线圈中。但在局部线圈数增多的情况下，非常值得做的是，节省前置放大器并将其设置在视野之外。由此使得通过前置放大器引起的干扰场不会再对磁共振扫描产生影响。
为此按照优选的实施方式设置对应于多个设备耦合器元件的前置放大器，特别优选地是与用于将前置放大器在与其对应的设备耦合器元件之间进行转换的转换开关相连。以这种方式可以保证，总是只有一个设备耦合器与一个前置放大器接触，具体来说优选是比其它设备耦合器更好地与线圈耦合器接触的那个设备耦合器元件。这样可以保证，最好的触点连接产生信号传输。
附图说明
以下借助附图结合实施例再次详细解释本发明。在此在不同的图中相同的组件具有相同的附图标记。其中示出：
图1示出了具有按照本发明的接触系统的第一实施例的按照本发明的磁共振断层造影设备的示意性透视图，
图2示出了图1的磁共振断层造影设备的患者卧榻区域上的前视图，
图3示出了与图1相比稍微修改的接触系统的第二实施例的详细透视图，
图4示出了在图3中所示的实施例的示意性电路结构，
图5示出了通过类似于图3的接触系统的示意性截面图，
图6示出了按照本发明的第三实施方式的耦合器元件接触的原理图，
图7示出了在对象支撑装置和按照第四实施方式的按照本发明的接触系统的元件的斜上方的透视图，
图8示出了如图7中的同一元件的斜下方的透视图，
图9示出了按照本发明的第五实施方式的接触系统的原理透视图，以及
图10示出了按照本发明的第六实施方式为耦合器元件分配选择的前置放大器的原理图。
具体实施方式
图1示出了具有对象支撑装置11和患者隧道8的磁共振断层造影设备7的透视图。在磁共振断层造影设备7的外壳内除了别的之外设置了信号继续处理单元5。信号从磁共振局部线圈3到达该信号继续处理单元5。这通过按照本发明的接触系统1实现，该接触系统具有以下元件：
在设置在对象支撑装置11上的插入导向元件10内设置了基于电感的线圈耦合器元件9a、9b、9c、9d。与此对应地在基于电感的磁共振断层造影设备7的底面6上的导向凹槽12的区域中设置了设备耦合器元件13a、13b、13c、13d。线圈耦合器元件9a、9b、9c、9d经过连接导线27与磁共振局部线圈3经过集成于支撑装置中的一排插头(未示出)电接触。磁共振局部线圈3可以被置于对象支撑装置11的上面，例如检查对象之上或之下。设备耦合器元件13a、13b、13c、13d经过连接导线35与信号继续处理单元5电接触。
此时如果在设置的运动方向R上，此处也就是在患者空间8的方向上传送对象支撑装置11，则插入导向元件10被插入到导向凹槽12中。由此可以在例如以线圈或天线形式构造的线圈耦合器元件9a、9b、9c、9d和设备耦合器元件13a、13b、13c、13d之间产生电感接触。由此感应地传输磁共振局部线圈3的测量信号。随着对象支撑装置11和与其连接的元件的继续运动，其它耦合器元件分别彼此连续接触。在此可以将对象支撑装置11连续送进，而不会发生信号损失。
图2以前视图示出了图1的设置。然而此处为了解释还添加了一些细节。例如可以看到磁共振局部线圈3通过系住检查对象U的系紧皮带29固定于夹紧对象支撑装置11的固定套33上。来自磁共振局部线圈3的连接导线27a经过插头触点31与连接导线27b与线圈耦合器元件9相连。由此磁共振局部线圈3还可以远离对象支撑装置或者与不同的线圈耦合元件9耦合。
图3示出了接触系统1，该接触系统1与图1比较的主要不同点在于：示出的设备耦合器元件13以及线圈耦合器元件9被构造为电容耦合器元件。由此它们包括电容器片。线圈耦合器元件9由两个位于一个平面中相叠并通过绝缘体37互相分离的电容器片16a、16b组成。
设备耦合器元件13由两个分别对应于一个电容器片16a、16b的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’组成。它们各设置在导向凹槽12的两侧，并且各相互相对设置的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’分别借助连接导线35并联连接。位于相同高度的电容器片16a、16b的电容器面或者侧面以及对应的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’分别形成并联的电容器对。对于该结构，图4用示出的插入导向元件10示出了示意性电路图。
该结构具有以下效果：如果插入导向元件10在运动方向R上通过导向凹槽12行驶，则通过线圈耦合器元件9在其两个侧面上的耦合产生接触。通过对应的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’的并联连接，在那里接收的信号被累加为一个信号，该信号基本上与插入导向元件10在导向凹槽12中垂直于运动方向R的特定位置的精确保持无关。
在图4中特别可以看出在电容器片16a、16b(在电路图中分别表示为两个互相连接并且与局部线圈3的一端连接的电容器面)与相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’之间的间隔d、d’。并联连接的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’分别连接到信号继续处理单元5，从而局部线圈3的每个末端都可以经过电容器对连接到信号继续处理单元5的一个输入端。在此电容器片16a、16b的电容器面分别与与其相对设置的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’形成电容器对的一个电容器，其电容量首先取决于相对设置的电容器面以及电容器片之间的间隔d、d’。然而由于电容量的改变会使得信号传输出错。但由于在每个层面上的电容器(图4中示出的上面的电容器和下面的电容器)、也就是电容器对的电容器分别并联连接，所以只有在对应的电容器面以及电容器片之间的总间隔(即d+d’)对于并联连接的电容器的总电容是决定性的。但是该总间隔在插入导向元件10垂直于运动方向R移动时并不改变，因为间隔在一个侧面的每个改变必然会带来间隔在另一侧面的相反作用的改变。由此巧妙避免了在运动的电容耦合中的一个重要问题，也就是必须确保在电容的耦合器元件之间的精确恒定的间隔，以便最佳地保证信号接收。
图5示出保持通过耦合器元件形成的电容器的电容恒定的另一个解决方案。在此在前视图中示出类似于图3的构造的接触系统1。除了已经提到的元件，在导向凹槽12的两侧设置了弹簧39，这些弹簧在插入导向元件10的方向上压着此处运动地形成的导向凹槽12的壁以及与此相关的相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’，从而使得可以保持在线圈耦合器元件9和相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’之间的预先定义的间隔，该间隔优选为零。在此为了避免电接触，相对电容器片14a、14a’以及14b、14b’被放入导向凹槽12的壁或者至少必须朝向线圈耦合器元件9被绝缘地涂覆。
图6以示意性原理图示出磁共振局部线圈3通过磁共振断层造影设备的拍摄区域FOV的过程。线圈耦合器元件9a、9b与磁共振局部线圈3相连。设备耦合器元件13固定设置在拍摄区域FOV中。
此时优选这样确定耦合器元件9a、9b、13的尺寸并在空间中设置它们，使得在磁共振局部线圈3在进入拍摄区域FOV或者从拍摄区域FOV出来时在运动方向R上运动的情况下各个线圈耦合器元件9a、9b与设备耦合器元件13相接触或者终止接触。如所看出的，为此线圈耦合器元件9a、9b不必与设备耦合器元件13或者与磁共振局部线圈3的接收区域相同大。
图7以从上面的透视图示出了本发明的特别优选的实施方式。在此对象支撑装置11不时地在绕行的环带15上行进。
该环带15分别经过两个转向辊17回转并且经过导辊18引导。它具有作为设备耦合器元件13的印刷电路板片段21。这些印刷电路板片段通过电缆(未示出)与信号继续处理单元5(未示出)接触。这些电缆在环带运动期间卷绕或者退卷并因此而一起运动。电缆长度根据整体排列的尺寸，也就是根据整个所需的滚动长度来设置，而整个所需的滚动长度又取决于对象支撑装置的最大行驶距离和环带的长度。电缆长度优选等于环带15的二至三个周长的长度。环带15通过两个转向辊17中右边的一个、此处设置了齿轮19的转向辊驱动。
图8以从底面的视图示出了图7的装置。可以看出的是，在对象支撑装置11的底面有环带15的互补结构：一方面在那里设置了线圈耦合器元件9，它们经过连接导线(未示出)与磁共振局部线圈相连。另一方面对象支撑装置11在底面具有齿条。
如果对象支撑装置11在环带15之上被引导，则运行过程如下：第一排线圈耦合器元件9与一排设备耦合器元件13接触。同时齿轮19的齿与齿条20互相啮合，由此两个转向辊17中的一个旋转并且环带15继续运动。线圈耦合器元件9和设备耦合器元件13同时运动，直到第一排线圈耦合器元件9通过其围绕第二转向辊17的回转与环带15自动分离的点。因此产生两个耦合器元件9、13的一起运动以及借助滚动的接触。
一种类似的接触系统在图9中示出。在此也使用带15，然而该带承载线圈耦合器元件9并且经过带支撑件22与对象支撑装置11相连。对这样的带15的侧面安装的图示是为了提供更好的可视性；也可以设置在其它位置，优选在对象支撑装置11的下面。设备耦合器元件13集成于导辊18中，这些导辊18可在固定的位置上围绕其轴旋转地设置在磁共振断层造影设备中，并且带15交替穿行于其间。经过耦合器元件9、13传输的信号经过连接导线35到达前置放大器23，该前置放大器将信号放大并传输到信号继续处理单元。
与在前面的图中示出的实施方式不同，在此一方面线圈耦合器元件9和设备耦合器元件13的设置互换并且另一方面不使用环带，而是经过带15的基本上是线性的运动来进行用于接触目的的滚动。
最后，图10示出如在图3和4中的按照本发明的接触系统1的优选扩展的原理。线圈耦合器元件9沿着一排设备耦合器元件13行驶并且连续地与其电容地接触。为每一对在运动方向R上并排定位的设备耦合器元件13设置一个共同的前置放大器23。为了能够使用该系统，设置了转换开关25，这些转换开关在前置放大器23与第一和第二设备耦合器元件13的耦合之间来回接通。在此将两个对应的设备耦合器元件13中的哪一个与线圈耦合器元件9接触更好用作转换开关的转换准则。在实践中这通常意味着，线圈耦合器元件9对该设备耦合器元件13的覆盖大于对另一个设备耦合器元件的覆盖。由此总是对能够最佳传输的信号进行放大。
最后还要指出的是，前面详细描述的方法以及示出的接触系统仅仅是实施例，这些实施例可以由专业人员在不脱离本发明范围的情况下以不同的方式修改。此外使用不定冠词“一”不排除所涉及的特征也可以存在多个。

Claims (25)

1.一种用于使磁共振局部线圈(3)与磁共振断层造影设备(7)的信号继续处理单元(5)接触的接触系统(1)，具有多个与磁共振局部线圈(3)电连接的线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)，和设置在该磁共振断层造影设备(7)上并与该信号继续处理单元(5)电连接的设备耦合器元件(13a；13b；13c)，其中，这些线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)和设备耦合器元件(13，13a，13a'，13b，13b'，13c，13d)构造成，使得当局部线圈(3)在磁共振断层造影设备(7)中沿着运动路线运动时至少在一个特定的路线段上使至少一部分线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)与设备耦合器元件(13，13a，13a'，13b，13b'，13c，13d)连续接触。
2.根据权利要求1所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)置于对象支撑装置(11)上，磁共振局部线圈(3)借助该对象支撑装置(11)在运行中一起移动。
3.根据权利要求1所述的接触系统，其特征在于，这样构造和设置所述线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)和设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b'，13c，13d)，使得如下的线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)分别与设备耦合器元件(13，13a，13a'，13b，13b'，13c，13d)保持接触，这些线圈耦合器元件的对应的磁共振局部线圈(3)在运行中位于磁共振断层造影设备(7)的拍摄区域(FOV)中。
4.根据权利要求3所述的接触系统，其特征在于，这样构造和设置所述线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)和/或设备耦合器元件(13，13a，13a'，13b，13b'，13c，13d)，使得在磁共振局部线圈(3)即将进入或正在进入磁共振断层造影设备(7)的拍摄区域(FOV)时使对应于该磁共振局部线圈(3)的线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)与设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b'，13c，13d)相耦合。
5.根据权利要求3或4所述的接触系统，其特征在于，这样构造和设置所述线圈耦合器元件(9，9a，9a'，9b，9b'，9c，9d)和/或设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b'，13c，13d)，使得在磁共振局部线圈(3)从磁共振断层造影设备(7)的拍摄区域(FOV)出来之后或在出来之时去除对应于磁共振局部线圈(3)的线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)与设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)的耦合。
6.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)位于垂直于运动方向的、通过磁共振局部线圈(3)延伸的垂直线上。
7.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)被构造为用于电的接触。
8.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b，，13c，13d)被构造为用于电容的和/或电感的接触。
9.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，线圈耦合器元件(9)和设备耦合器元件(13)分别具有至少两个并行起作用的电容器面或者电容器片(14，14a，14a’，14b，14b’)，其中，线圈耦合器元件(9)的一个电容器面与设备耦合器元件(11)的与所述线圈耦合器元件(9)的一个电容器面对应且相对设置的电容器片(14，14a，14a’，14b，14b’)形成一个电容器，这样的电容器形成一个电容器组，并且其中，这样构造和互相排列电容器组的各共同起作用的电容器面或者电容器片(14，14a，14a’，14b，14b’)，使得通过线圈耦合器元件(9)和设备耦合器元件(11)之间的垂直于电容器片(14，14a，14a’，14b，14b，)的相对运动产生的电容器组的一个电容器的电容改变通过由此产生的该电容器组的至少另一个电容器的电容改变来补偿。
10.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b'，13c，13d)在运行中通过滚动互相耦合。
11.根据权利要求1所述的接触系统，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和/或设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)集成在带(15)中。
12.根据权利要求11所述的接触系统，其特征在于，所述带(15)被构造为柔性印刷电路板。
13.根据权利要求11或者12的接触系统，其特征在于，所述带(15)由印刷电路板的片段(21)构成。
14.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，所述设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)设置在导向凹槽(12)的区域中，在该导向凹槽中在运行中当运动时沿着运动路线的运动方向引导形状互补的插入导向元件(10)，
线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)设置在该插入导向元件(10)的区域中，
或者，线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)设置在导向凹槽(12)的区域中，在该导向凹槽中在运行中当运动时沿着运动路线的运动方向引导形状互补的插入导向元件(10)，
设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)设置在该插入导向元件(10)的区域中。
15.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，该接触系统包括用于将设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)压在所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)上和/或将所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)压在所述设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)上的弹性和/或柔性按压元件(39)。
16.根据上述权利要求1-4中任一项所述的接触系统，其特征在于，该接触系统包括与多个设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)对应的前置放大器(23)。
17.根据权利要求16所述的接触系统，其特征在于，该接触系统包括用于将所述前置放大器(23)在与其对应的设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)之间进行转换的转换开关(25)。
18.根据权利要求11所述的接触系统，其特征在于，所述带优选是环带。
19.一种用于使磁共振局部线圈(3)与磁共振断层造影设备(7)的信号继续处理单元(5)相接触的方法，借助与磁共振局部线圈(3)电连接的线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)，和设置在磁共振断层造影设备(7)上并与该信号继续处理单元(5)电连接的设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)，其中，当磁共振局部线圈(3)在磁共振断层造影设备(7)中沿着运动路线运动时至少在特定的路线段上使至少一部分线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)与设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)连续接触。
20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，所述磁共振局部线圈(3)与线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)一起连续运动。
21.根据权利要求19或20所述的方法，其特征在于，所述设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)连续地运动。
22.根据权利要求19或20所述的方法，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和所述设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)彼此相对运动。
23.根据权利要求19或20所述的方法，其特征在于，所述线圈耦合器元件(9，9a，9a’，9b，9b’，9c，9d)和所述设备耦合器元件(13，13a，13a’，13b，13b’，13c，13d)共同地运动。
24.根据权利要求23所述的方法，其特征在于，所述运动是形式相同的共同运动。
25.一种具有根据权利要求1至18中任一项所述的接触系统(1)的磁共振断层造影设备(7)。
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