CN101603197A - 电抛光用电解液配方及电解方法 - Google Patents
电抛光用电解液配方及电解方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101603197A CN101603197A CNA2008100678137A CN200810067813A CN101603197A CN 101603197 A CN101603197 A CN 101603197A CN A2008100678137 A CNA2008100678137 A CN A2008100678137A CN 200810067813 A CN200810067813 A CN 200810067813A CN 101603197 A CN101603197 A CN 101603197A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- electropolishing
- electrolytic
- weight percent
- electrolytic solution
- percent component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
本发明涉及一种电抛光用电解液配方及电解方法，包括电解液按一定脉冲频率冲击电解表面，使电解表面凸凹位置恰到好处地变换趋于平滑，提高产品表面质量和铬铁比，电解液配方包括有重量百分比组分为55－68％的磷酸，重量百分比组分为15－17％硫酸，以及重量百分比组分为8－19％的去离子水；电解方法为采用直流电源进行电解，被抛光工件与直流电负极连接作为阴极，电解阳极与直流电正极连接作为阳极，电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动。
Description
技术领域
本发明涉及一种电解液和电解方法，尤其涉及一种能够电解抛光元件以达到高光洁度的电抛光用电解液配方及电解方法。
背景技术
半导体及高洁净产业一直需要使用高精度调节器及相关流体控制仪器，为达到高精度和高抗腐蚀能力，调节器或控制仪对于流道内表面光洁度有非常高的要求，其内表面要经过电解来完成高光洁度的需要，通常是采用目前常见的电解方法，虽然满足了通常的使用需求，但其表面仍然容易产生加工的缺陷(如流纹和麻点)，而用于衡量电解表面抗腐蚀指标的Cr/Fe(铬铁比)仍然偏低。
人们试验多种方法来提高电抛光质量，而电解的抛光过程主要是阳极电极过程和表面磷酸盐膜共同的作用的结果，从阳极溶解下来的金属离子与抛光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大，扩散速度低的磷酸盐，并粘着在阳极表面，形成粘性较大的电解层，这些电解层受电解电流的影响，通常在被电解产品附着的并不均匀，电流大的地方附着的厚，电流小的地方就附着的薄，很容易造成电解表面电解层分布的不均匀，影响了产品表面的电解质量。
发明内容
本发明的技术目的之一是在电解过程中使电解液对电解表面进行脉冲性冲刷，达到电解层分布更均匀以提高电解的质量。
本发明的又一技术目的是提供一种具有更好的抛光后表面质量的电解液。
为达上述技术目的，本发明电抛光电解液的配方包括有重量百分比组分为55-68％的磷酸，重量百分比组分为15-17％硫酸，以及重量百分比组分为8-19％的去离子水；该电解液的配方各成分最佳组分为：重量百分比组分为67％的磷酸，重量百分比组分为17％的硫酸，以及重量百分比组分为16％的去离子水。
本发明用作对工件进行电抛光的电解方法包括，1)、使用直流电源进行电解，被抛光工件与直流电负极连接作为阴极，电解阳极与直流电正极连接作为阳极，2)电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动；其中电解液以冲击阴极被抛光面的脉冲频率为60Hz。
同时，用于电解的直流电电压也以脉冲方式变化，通常该电解直流电电压脉冲变化频率为60Hz，该电抛光电解过程中电解液的温度范围为60-65摄氏度，通常电抛光过程中电解液温度为62摄氏度。
有益效果：本发明的电解方法，电解液按一定频率的脉冲冲击电解表面，对堆积过厚的粘结电解层有冲刷抑制作用，使凸凹位置恰到好处地变换，粗糙表面逐渐平整，流道表面因此被抛光达到高光洁度，从而有效提高产品表面质量，在此过程中Fe离子由于电位势的影响而脱离，配合本发明配方的电解液，能有效提高铬铁比(Cr/Fe)，使被抛光物表面在电抛光后的具有更好的表面质量。
有关本发明的详细内容及技术，兹就配合附图说明如下。
附图说明
图1、为本发明电解方法的结构原理图；
图2、本发明电抛光方法处理前流道表面3500倍电子扫描图；
图3、本发明电抛光方法处理后流道表面3500倍电子扫描图。
具体实施方式
本发明是对现有的电抛光用的电解液配方和电解的方法进行改进，以达到具有更光滑电解表面和更高铬铁比的电解抛光效果。
请参照图1所示，为本发明电解方法结构原理图，电抛光电解方法包括，1)、使用直流电源进行电解，被抛光工件与直流电负极连接作为阴极，电解阳极与直流电正极连接作为阳极，2)电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动。
实施例：应用本发明方法，对高精度调节器1的金属表面内流道10进行电抛光，的连接方式，电解阳极2与直流电正极连接作为阳极，电解阳极2具有空心管20，精度调节器1与直流电负极连接作为阴极，使用12V直流电源电解，而电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动，对精度调节器1的内表面进行电抛光，在本实施例中，电解液冲击阴极被抛光面的脉冲频率采用60Hz，所用的电解液的配方组分则包括有重量百分比组分为55-68％的磷酸，重量百分比组分为15-17％硫酸，以及重量百分比组分为8-19％的去离子水；该电解液的配方各成分最佳组分为：重量百分比组分为67％的磷酸，重量百分比组分为17％的硫酸，以及重量百分比组分为16％的去离子水。
在以上的实施例中，为了达到更好的电解抛光效果，该12V的直流电源也可以使用脉冲电流，
采用本发明的电解方法，与传统的电解方法相比具有抛光更效果更好，采用上述实施例的电解方法，电解液控制在60摄氏度，对316L不锈钢表面进行40秒的电解抛光，所得的产品表面3500倍电子扫描图对比如图2和图3所示。
以下表1为对调节器1内流道10电抛光，被电抛光前后内流道10表面的精度对比(该调节器材质为不锈钢316L)：
表1：电抛光前后被抛光件表面质量对比：
以上对比表明，采用本发明电解抛光方法和电解液，被抛光产品的表面质量相对传统电抛光方法能够得到明显改善。
Claims (8)
1、一种电抛光用电解液的配方，其特征在于，该电抛光电解液配方包括有重量百分比组分为55-68％的磷酸，重量百分比组分为15-17％硫酸，以及重量百分比组分为8-19％的去离子水。
2、如权利要求1所述的电抛光用电解液的配方，其特征在于，该电解液的配方各成分最佳组分为：重量百分比组分为67％的磷酸，重量百分比组分为17％的硫酸，以及重量百分比组分为16％的去离子水。
3、一种电抛光电解方法，用作对工件进行电抛光，其特征在于，电解用电源为直流电，被抛光工件与直流电负极连接作为阴极，电解阳极与直流电正极连接作为阳极，电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动。
4、如权利要求3所述的电抛光电解方法，其特征在于，电解液以冲击阴极被抛光面的脉冲变化频率为60Hz。
5、如权利要求3所述的电抛光电解方法，其特征在于，电解用直流电的电压以脉冲方式变化。
6、如权利要求3所述的电抛光电解方法，其特征在于，电解用直流电电压的脉冲变化频率为60Hz。
7、如权利要求3所述的电抛光电解方法，其特征在于，该电抛光电解过程中电解液的温度为60-65摄氏度。
8、如权利要求3所述的电抛光电解方法，其特征在于，该电抛光电解过程中电解液的温度为62摄氏度。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNA2008100678137A CN101603197A (zh) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 电抛光用电解液配方及电解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNA2008100678137A CN101603197A (zh) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 电抛光用电解液配方及电解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101603197A true CN101603197A (zh) | 2009-12-16 |
Family
ID=41469091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNA2008100678137A Pending CN101603197A (zh) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 电抛光用电解液配方及电解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101603197A (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101864590A (zh) * | 2010-04-26 | 2010-10-20 | 南京三乐电子信息产业集团有限公司 | 一种钼栅网电解抛光用的电解液及其制备方法和应用 |
| US20110272288A1 (en) * | 2010-05-05 | 2011-11-10 | Lin Chuen-Chang | Method for fabricating carbon nanotube aluminum foil electrode |
| CN102837089A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-12-26 | 天津大学 | 一种用于工程机械材料电解加工的电解液及其制备方法 |
| CN103528873A (zh) * | 2013-10-24 | 2014-01-22 | 国家电网公司 | 自力式高压电触头材料尾部铬青铜金相试样的抛光方法 |
| CN106337189A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-01-18 | 贵州安吉航空精密铸造有限责任公司 | 一种熔模精密铸件表面处理方法 |
-
2008
- 2008-06-10 CN CNA2008100678137A patent/CN101603197A/zh active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101864590A (zh) * | 2010-04-26 | 2010-10-20 | 南京三乐电子信息产业集团有限公司 | 一种钼栅网电解抛光用的电解液及其制备方法和应用 |
| CN101864590B (zh) * | 2010-04-26 | 2012-02-22 | 南京三乐电子信息产业集团有限公司 | 一种钼栅网电解抛光用的电解液及其制备方法和应用 |
| US20110272288A1 (en) * | 2010-05-05 | 2011-11-10 | Lin Chuen-Chang | Method for fabricating carbon nanotube aluminum foil electrode |
| CN102837089A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-12-26 | 天津大学 | 一种用于工程机械材料电解加工的电解液及其制备方法 |
| CN103528873A (zh) * | 2013-10-24 | 2014-01-22 | 国家电网公司 | 自力式高压电触头材料尾部铬青铜金相试样的抛光方法 |
| CN103528873B (zh) * | 2013-10-24 | 2016-06-01 | 国家电网公司 | 自力式高压电触头材料尾部铬青铜金相试样的抛光方法 |
| CN106337189A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-01-18 | 贵州安吉航空精密铸造有限责任公司 | 一种熔模精密铸件表面处理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105420805B (zh) | 电解质溶液和电抛光方法 | |
| Rosenkranz et al. | The surface structure during pulsed ECM of iron in NaNO3 | |
| CN104593830A (zh) | 带测量反馈的电化学增材制造方法及装置 | |
| Swain et al. | Use of coated microtools in advanced manufacturing: An exploratory study in electrochemical machining (ECM) context | |
| CN101603197A (zh) | 电抛光用电解液配方及电解方法 | |
| CN102168298B (zh) | 一种实验室用金相样品电解腐蚀装置及电解腐蚀方法 | |
| US20120181179A1 (en) | Method of electrochemical machining | |
| Peng et al. | Effects of electrodeposited Zn nuclei on tunnel etching behavior of aluminum foil | |
| Kim et al. | Pulse electrochemical machining on Invar alloy: Optical microscopic/SEM and non-contact 3D measurement study of surface analyses | |
| CN107541768A (zh) | 一种用于制备镁合金ebsd样品的电解抛光液及电解抛光方法 | |
| CN106637377B (zh) | 镍基合金电解抛光液及其抛光方法 | |
| CN101851770A (zh) | 阳极氧化物涂层和阳极氧化方法 | |
| CN110184641A (zh) | 电镀装置的电镀方法 | |
| Li et al. | Electrochemical properties and dissolved behavior of laser solid formed Ti6Al4V alloy in NaCl solution with different current densities | |
| CN113661276A (zh) | 电抛光方法 | |
| Yang et al. | Localized Ni deposition improved by saccharin sodium in the intermittent MAGE process | |
| US10704159B2 (en) | Method of metal polishing and oxidation film process and system thereof | |
| WO2012071345A3 (en) | Electrolyte solution and method of removing hydrogen from metals | |
| CN104911686A (zh) | 提高304l不锈钢耐点蚀性能的磁调控表面处理方法 | |
| EP3105369B1 (en) | Method of forming metal coating | |
| CN104439573A (zh) | 硝酸钠电解液掩模电解加工tc4钛合金的加工工艺 | |
| TWI755999B (zh) | 不銹鋼工件之電解拋光處理方法 | |
| TWI281519B (en) | Electrolyzing polishing process system and method thereof | |
| CN103147114A (zh) | 箔式应变计调阻方法 | |
| Pa | Mechanism Design of Rotational Magnetic Assistance Electrochemical Finishing on Freeform Surface |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| C53 | Correction of patent for invention or patent application | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Sun Guangyu Inventor before: Zhang Guangyu |
|
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: ZHANG GUANGYU TO: SUN GUANGYU |
|
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20091216 |