CN101582365A - 用于增加x射线管中的辐射传热的装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法。一种用于产生X射线(14)的靶组件(56),包括靶基体(57)以及施加到靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98),辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包含碳化物和碳氮化物中的一种或多种。
Description
技术领域
一般来说,本发明涉及x射线管,更具体来说,涉及x射线管的靶面和/或靶轴上的高辐射涂层(emissive coating)。
背景技术
X射线系统通常包括x射线管、检测器以及支承x射线管和检测器的轴承组件。在操作中,其上放置对象的成像台位于x射线管与检测器之间。x射线管通常向对象放射射线、如x射线。该射线通常穿过成像台上的对象并照射到检测器上。当射线穿过对象时,对象的内部结构引起在检测器所接收的射线的空间变化。然后,检测器传送所接收的数据,以及系统将射线变化转换成图像,它可用于评估对象的内部结构。本领域的技术人员知道,对象可包括但不限于医疗成像过程中的患者以及例如计算机层析X射线照相(CT)包裹扫描仪的包裹中的无生物。
X射线管包括包含靶的阳极结构,电子束照到靶上以及从靶上生成x射线。x射线管阴极提供聚焦电子束,它在穿过阴极-阳极真空间隙被加速,并且在与阳极靶碰撞时产生x射线。由于当电子束撞击靶时所产生的高温,所以阳极组件通常以高转速旋转,以便散发在焦点所产生的热量。阳极通常由感应电动机来转动,其中感应电动机具有内置于支承盘形阳极靶的悬轴的鼓形转子以及带有围绕x射线管的延长颈的铜绕组的铁定子结构。旋转阳极组件的转子由定子来驱动。
新一代x射线管增加了对于提供更高峰值功率的需求。但是,更高峰值功率引起在靶组件中出现更高峰值温度,特别是在靶“轨道(track)”或者电子束碰撞靶的点处。因此,由于所施加的增加的峰值功率,关于靶存在使用寿命和可靠性问题。
辐射涂层可施加到x射线管靶,以便增强辐射传热,并且降低其中的部件、如靶和轴承组件的工作温度。但是,这类涂层通常基于氧化物、如ZrO2-TiO2-Al2O3的混合物,它们趋向于不稳定并且在例如1200℃或以上时脱气。脱气通常包括一氧化碳(CO),它产生于氧化物成分(例如TiO2)在其工作温度下与靶基体的还原组分(例如TZM-Mo中的Mo2C相)的不良化学稳定性。CO和其它脱气产物损害x射线管的高真空环境,从而使这类反应产物不合需要。
因此,希望具有一种在减少脱气放出的同时改进x射线靶和轴承的热性能和稳定性的方法及装置。
发明内容
本发明提供一种用于改进x射线管靶的热性能的装置,它克服了上述缺点。
根据本发明的一个方面,用于生成x射线的靶组件包括靶基体以及施加到靶基体的一部分的辐射涂层,辐射涂层包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
根据本发明的另一个方面,制造x射线管靶组件的方法包括形成包含Mo及其合金的靶基体以及在该基体上形成辐射涂层,其中辐射涂层包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
本发明的又一个方面包括具有x射线检测器和x射线放射源的成像系统。X射线源包括阴极和阳极。阳极包括靶基底材料(basematerial)以及加在靶基底材料、具有包含碳化物和碳氮化物中之一或多种的分子化合物的辐射涂层。
通过以下详细描述和附图,本发明的其它各种特征和优点将会非常明显。
附图说明
附图示出当前考虑用于实现本发明的一个优选实施例。
附图包括:
图1是可获益于结合本发明的一个实施例的成像系统的框图。
图2是根据本发明的实施例并且与图1所示系统可配合使用的x射线管的截面图。
图3是可获益于结合本发明的一个实施例、与非侵犯式包裹检查系统配合使用的CT系统的图示。
具体实施方式
图1是根据本发明、设计成获取原始图像数据以及处理该图像数据供显示和/或分析的成像系统10的一个实施例的框图。本领域的技术人员会理解,本发明可适用于实现x射线管的许多工业和医疗成像系统,例如x射线或乳房x射线照相系统。获取体积的三维数据的其它成像系统、如计算机层析X射线照相(computed tomography)系统和数字x射线照相系统也获益于本发明。X射线系统10的以下论述只是一种这样的实现的示例,而不是要在形态方面进行限制。
如图1所示,x射线系统10包括配置成发出穿过对象16的x射线束14的x射线源12。对象16可包括人对象、行李件或者希望扫描的其它对象。X射线源12可以是产生范围通常从30keV至200keV的能谱的x射线的常规x射线管。x射线14穿过对象16,并且被对象16衰减之后照射到检测器18上。检测器18中的各检测器产生表示照射x射线束强度因而表示穿过对象16时的衰减束的模拟电信号。在一个实施例中,检测器18是基于闪烁的检测器,但是,还可设想也可实现直接转换类型检测器(例如CZT检测器等)。
处理器20从检测器18接收模拟电信号,并且生成与被扫描对象16对应的图像。计算机22与处理器20进行通信,以便使得使用操作员控制台24的操作员能够控制扫描参数以及查看生成图像。也就是说,操作员控制台24包括某种形式的操作员界面,例如键盘、鼠标、语音激活控制器或者允许操作员控制x射线系统10以及在显示单元26查看来自计算机22的重构图像或其它数据的任何其它适当的输入装置。另外,控制台24允许操作员将生成图像存储在存储装置28中,其中存储装置28可包括硬盘驱动器、软盘、光盘等。操作员还可使用控制台24向计算机22提供命令和指令,用于控制向x射线源12提供功率和定时信号的源控制器30。
此外,还将针对在x射线中的使用来描述本发明。但是,本领域的技术人员还会理解,本发明同样可适用于包括用于产生x射线的靶的其它系统。
图2示出结合本发明的一个实施例的x射线管12的截面图。X射线管12包括框架或外壳50,其中形成了x射线窗口52。框架50包含真空54,并且容纳阳极或靶组件56、轴承盒(bearing cartridge)58、阴极60和转子62。靶组件56包括靶基体57,其中靶轴59连到靶基体57。在CT应用的情况下,当高速电子经由阴极60与靶基体57之间例如6万伏或更高的电位差从阴极60导向靶基体57而被减速时,产生x射线14。电子在焦点61碰撞靶轨道材料86,并且x射线14从其中放射。X射线14通过x射线窗口52放射到检测器阵列、如图1的检测器18。为了避免电子使靶轨道材料86过热,靶组件56以例如90-250Hz绕中心线64高速旋转。
轴承盒58包括前轴承组件63和后轴承组件65。轴承盒58还包括在中心轴66的第一端68连到转子62的中心轴66以及连在中心轴66的第二端70的轴承毂77。前轴承组件63包括前内座圈(race)72、前外座圈80以及以滚动方式与前座圈72、80接合的多个前滚珠76。后轴承组件65包括后内座圈74、后外座圈82以及以滚动方式与后环74、82接合的多个后滚珠78。轴承盒58包括由x射线管12支承的套筒(stem)83。定子(未示出)径向设置在转子62的外部并且驱动转子62,转子62以旋转方式驱动靶组件56。在一个实施例中,受体73设置成围绕套筒83,并且在背板75处连到x射线管12。受体73延伸到靶轴59与轴承毂(bearing hub)77之间所形成的间隙79中。
靶轨道材料86通常包括钨或者钨合金,以及靶基体57通常包括钼或钼合金。热存储介质90、如石墨可用于吸收和/或驱散在焦点61附近积累的热量。本领域的技术人员会知道,靶轨道材料86和靶基体57可包括本领域已知为全金属靶的相同材料。
在操作中,电子碰撞焦点61并产生x射线,其中所产生的热量使靶基体57的温度增加,因而使热量主要经由辐射传热传递到周围部件,例如且主要为框架50。靶基体57中产生的热量也通过靶轴59和轴承毂77以传导方式传递到轴承盒58,从而引起轴承盒58的温度的增加。
没有辐射涂层或其它表面改性,靶基体57可具有例如0.18的辐射率。因此,来自靶组件56的辐射传热可受到限制,因而促进轴承盒58和靶组件56的其它部件增加的工作温度。因此,为了减小到轴承盒58的热传导以及增加到周围部件的辐射传热量,辐射涂层92可施加到靶轴59的外表面93。此外,辐射涂层97可施加到靶基体57的表面99,而辐射涂层94也可施加到靶基体57的外周边95。此外,辐射涂层89可施加到靶基体57的表面91。
此外,辐射涂层可施加到框架50内包含的其它表面,并且通常以辐射方式与靶组件56交换热量。例如,辐射涂层85可在外周边表面84施加到框架50,或者辐射涂层81可施加到轴表面88。另外,辐射涂层98可施加到转子62的表面69,或者辐射涂层67可在表面96施加到受体73。另外,虽然辐射涂层67、81、84、85和98仅在其相应表面的一小部分上示出,但是本领域的技术人员会知道,辐射涂层67、81、84、85和98与辐射涂层89、94和97一样可施加在它们所施加到的相应的整个表面。
根据本发明的一个实施例,辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98基于周期表中的族4、5和6元素(以现代IUPAC命名)的耐火碳化物、碳氮化物和硼化物(例如TiC、ZrC、HfC、TaC、Mo2C、ZrB2、HfB2、TiCxNy、ZrCxNy和HfCxNy)。在碳化物的情况下,辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98还可包括Mo。在另一个实施例中,辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98包括碳化硼(B4C)。在又一个实施例中,辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98是耐火碳化物、碳氮化物和硼化物与稳定氧化物(包括但不限于Al2O3、La2O3、Y2O3、ZrO2和HfO2)的组合。可通过例如包括化学汽相沉积(CVD)、物理汽相沉积(PVD)、热/等离子体喷涂、冷喷涂、反应钎焊(reacivebrazing)、钎焊(brazing)和覆层(cladding)的工艺来施加辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98。
辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98可以是单相结构或多相结构。为了增强涂层的健壮性,这类涂层可包括多层、分级的(graded)和/或复合微结构。此外,在复合涂层的情况下,成分可以是具有高辐射率的非氧化物或者是包括氧化物基材(matrix)(例如Al2O3、La2O3、Y2O3、ZrO2和HfO2)中的至少一种热辐射非氧化物(例如ZrC或TiC)的复合物,它在高温下与Mo合金是稳定的。由于其有利的介电性质,这种氧化物增加有效辐射表面面积,因而增加来自其中的辐射传热。
为了增强长期稳定性,薄扩散阻挡层可施加在辐射涂层与它们所施加到的相应表面之间。因此,辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98可包括设置在辐射涂层67、81、85、89、92、94、97、98与其相应表面96、88、84、91、93、95、99、69之间的扩散阻挡层。根据本发明的实施例,扩散阻挡层可包含Ti、Zr和Hf的氮化物和碳氮化物,以及优选候选物包括TiN、ZrN、HfN、TiCN、ZrCN和HfCN。
因此,根据本文所述的本发明的实施例,通过表面96、88、84、91、93、95、99、69上增加的辐射率(emssivity),经由辐射从靶轴59以及从靶基体57所传递出的热量的增加因而减小经由传导从靶轴59所传递出的热量。因此,可降低靶组件56(包括靶轴59、轴承毂77和轴承盒58)的工作温度。
图3是与非侵犯式包裹检查系统配合使用的CT系统的图示。包裹/行李检查系统100包括可旋转台架102,其中具有包裹或行李件可通过的开口104。可旋转台架102容纳高频电磁能量源106以及具有由闪烁器单元组成的闪烁器阵列的检测部件108。还提供了传送系统110,它包括传送带112,由结构114支承以便自动连续地通过开口104传递待扫描的包裹或行李件116。对象116由传送带112通过开口104馈送,然后获取成像数据,以及传送带112以可控且连续的方式从开口104取下包裹116。因此,邮政检查人员、行李搬运人员和其它安全人员可通过非侵犯式检查包裹116的内含物中的炸药、刀、枪支、违禁品等。
根据本发明的一个实施例,用于生成x射线的靶组件包括靶基体以及施加到靶基体的一部分的辐射涂层,辐射涂层包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
根据本发明的另一个实施例,制造x射线管靶组件的方法包括形成包含Mo及其合金的靶基体以及在该基体上形成辐射涂层,其中辐射涂层包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
本发明的又一个实施例包括具有x射线检测器和x射线放射源的成像系统。X射线源包括阴极和阳极。阳极包括加到靶基底材料、具有包含碳化物和碳氮化物中之一或多种的分子化合物的辐射涂层。
通过优选实施例描述了本发明,大家知道,除非明确阐述,否则,其它等效方案、备选方案和修改方案是可能的,并且处于所附权利要求书的范围之内。
部件列表
10 成像系统 20 处理器
12 X射线源 22 计算机
14 X射线束 24 使用操作员控制台的操作员
16 对象 26 显示单元
18 检测器 28 存储装置
50 框架或外壳 60 阴极
52 X射线窗口 61 焦点
54 真空 62 转子
56 阳极或靶组件 63 前轴承组件
58 轴承盒 64 中心线
57 靶基体 65 后轴承组件
59 靶轴 66 中心轴
67 辐射涂层 74 后内座圈
68 第一端 75 背板
69 表面 76 多个前滚珠
70 第二端 77 轴承毂
72 前内座圈 78 多个后滚珠
73 受体 79 间隙
81 辐射涂层 80 前外座圈
82 后外座圈 89 辐射涂层
83 套筒 91 表面
84 外周边表面 92 辐射涂层
85 辐射涂层 93 外表面
86 靶轨道材料 94 辐射涂层
88 轴面 95 外周边
97 辐射涂层 96 表面
99 表面 108 检测器组件
98 辐射涂层 110 传送系统
100 包裹/行李检查系统 112 传送带
102 可旋转台架 114 结构
104 开口 116 包裹或行李件
106 高频电磁能量源
Claims (10)
1.一种用于产生x射线(14)的靶组件(56),包括:
靶基体(57);以及
施加到所述靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98),所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
2.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)还包含稳定氧化物,其包括Al2O3、La2O3、Y2O3、ZrO2和HfO2中之一。
3.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包括碳化物,所述辐射涂层还包括Mo。
4.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包括多层的、分级的和复合微结构其中之一。
5.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)是单相材料和多相材料中之一。
6.如权利要求1所述的靶(56),其中,经由化学汽相沉积(CVD)工艺、物理汽相沉积(PVD)工艺、热/等离子体喷涂工艺、冷喷涂工艺、反应钎焊工艺、钎焊工艺和覆层工艺其中之一来施加所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)。
7.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述碳化物和碳氮化物中之一包括族4元素、族5元素、族6元素和硼其中之一。
8.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)是B4C、TiC、ZrC、HfC、TaC、Mo2C、ZrB2、HfB2、TiCxNy、ZrCxNy和HfCxNy其中之一。
9.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述靶基体(57)包括靶面(99)和外缘(94),以及其中所述靶组件(56)还包括连到所述靶基体(57)的轴(59),以及其中所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)施加到所述靶面(99)、所述外缘(94)和所述轴(59)其中之一。
10.如权利要求1所述的靶(56),其中,所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包括碳化物,所述靶组件(56)还包括设置在所述碳化物与所述靶基体(57)之间的扩散阻挡层,所述扩散阻挡层是Ti、Zr、Hf的氮化物和碳氮化物中之一。
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