CN101543911A - 一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法 - Google Patents

一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法 Download PDF

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于超
张俊芳
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Abstract

本发明公开一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,是通过机架上设置的可调整导向块,调整与移动横梁的铜衬板滑动接触的间隙,铜衬板是保护滑动副的;在导向块与机架的螺栓连接区间内设有调整垫片;调整液压剪移动横梁的滑动副间隙时,通过导向块与机架的分离,只需调整垫片的厚度即可实现。由于采用了导向块从机架上的分离方法,不用加工有严格公差精度要求的导向槽,不需要每次调整都需要修配铜衬板,更不需要把移动横梁取出。其加工简单,定位性能好,导向精度高,容易保证精度;调整滑动副的间隙,只需调整垫片的厚度,十分方便、可靠。

Description

一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法
技术领域
本发明涉及技术为板带材冷轧机组技术领域,特别适合于冷轧机组的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法。
背景技术
在板带材冷轧机组中都配置有液压剪,主要用于切料头和料尾。液压剪有上切式和下切式,但无论哪一种形式的液压剪都有移动横梁(1.2),都有移动横梁与其导向槽的滑动副,现有的滑动副的间隙调整是通过加工移动横梁上的铜衬板(1.3)和加工机架(1.1)上的导向槽来实现的。现有的滑动副结构存在以下缺点:
1)由于导向槽位于机架上,导向槽有严格的公差精度要求,加工较难,制造成本高;
2)滑动副的间隙不便于调整,因为每次调整都需要修配铜衬板,需要把移动横梁取出。
3)导向精度较低。
发明内容
为克服上述旧的滑动副结构的缺点,本发明提供一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法。调整滑动副的间隙十分方便,定位性能好,导向精度高,容易保证精度。
为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
所述的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其步骤如下:
1、是通过机架上设置的可调整导向块,调整与移动横梁的铜衬板滑动接触的间隙,铜衬板是保护滑动副的;
2、在导向块与机架的螺栓连接区间内设有调整垫片;
3、调整液压剪移动横梁的滑动副间隙时,通过导向块与机架的分离,只需调整垫片的厚度即可实现。
所述的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其特征在于:导向块一端通过螺栓穿过垫片与机架固定,另一端设有“V”字形导向结构。
所述的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其特征在于:移动横梁的两端设有与可调整导向块相对应的“V”字形导向结构。
由于采用如上所述的技术方案,本实用新型具有如下优越性:
一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,由于采用了导向块从机架上的分离方法,不用加工有严格公差精度要求的导向槽,不需要每次调整都需要修配铜衬板,更不需要把移动横梁取出。其加工简单,定位性能好,导向精度高,容易保证精度;调整滑动副的间隙,只需调整垫片的厚度,十分方便、可靠。
附图说明
图1是液压剪上移动横梁与机架连接的结构示意图;
图2是图1的C-C的结构示意图;
图3为本发明液压剪上调整滑动副间隙方法的结构示意图;
图中1—机架;2—垫片;3—导向块;4—铜衬板;5—移动横梁;6—螺栓。
具体实施方式
如图1、3所示:一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,是通过机架(1)上设有的可调整导向块(3),调整与移动横梁(5)的铜衬板(4)滑动接触的间隙;所述的导向块(3)一端通过螺栓穿过垫片(2)与机架(1)固定,另一端设有“V”字形导向结构。所述的移动横梁(5)的两端设有与可调整导向块(3)“V”字形相对应的结构。由于采用“V”字形导向结构,定位性能好,导向精度高。
一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,调整液压剪移动横梁(5)的滑动副间隙时,通过导向块(3)与机架(1)的分离,只需通过螺栓(6)增加或减少调整垫片(2)的厚度即可实现。铜衬板(4)是保护滑动副的。

Claims (3)

1、一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其特征在于:其步骤如下:
1)、是通过机架(1)上设置的可调整导向块(3),调整与移动横梁(5)的铜衬板(4)滑动接触的间隙,铜衬板(2.4)是保护滑动副的;
2)、在导向块(3)与机架(1)的螺栓连接区间内设有调整垫片(2);
3)、调整液压剪移动横梁(5)的滑动副间隙时,通过导向块(3)与机架(1)的分离,只需调整垫片(2)的厚度即可实现。
2、根据权利要求1所述的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其特征在于:导向块(3)一端通过螺栓穿过垫片(2)与机架(1)固定,另一端设有“V”字形导向结构。
3、根据权利要求1所述的一种用于液压剪上调整滑动副间隙的方法,其特征在于:移动横梁(5)的两端设有与可调整导向块相对应的“V”字形导向结构。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20090930