CN101526306A - 300mm立式氧化炉双壁反应管 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种300mm立式氧化炉双壁反应管，设有圆桶形石英材料的外管壁和内管壁，内管壁与外管壁之间设有间隔夹层，外管壁上端封闭，内管壁上端为开口，内、外管壁下端密封连接；在内管壁的下端设有连通内、外管壁之间夹层和气源的进气管及连通内管壁的内腔与反应管外的出气管；在外管壁内焊接固定有两个偶管，在该偶管的下端焊接有一个半圆柱管，该半圆柱管焊在内管壁上，其外侧设有一个用以安装热电偶的椭圆形开口。在反应管下面设有法兰盘，该法兰盘上设有一个定位凸块。本发明适用于立式氧化炉的炉体内使用，是硅片氧化的反应腔室，加工质量易于保证，结构完善，使用方便灵活。
Description
技术领域
本实发明属于一种硅片加工装置，具体的是一种用于硅片加热氧化工艺的立式氧化炉中的反应管。
背景技术
反应管是立式氧化炉系统中最关键的部件之一，硅片的工艺过程全部在反应管内进行，反应管的设计将直接影响硅片氧化膜的质量。已往的反应管结构：进气管只是两根很细的石英管焊在反应管外壁上，这种结构不利于工艺气体的均匀预热及均匀分布。偶管的设计上多采用每支热偶用一个偶管，这样对于5个温区的炉体来说，在反应管的外壁上就要焊接5根偶管，此种结构不利于结构紧凑，同时很难保证5根热偶之间的相对位置的精确及拆卸后位置的重复精度。因此，需要提出一种新结构的立式氧化炉的反应管。
发明内容
本发明的目的是为了解决上述技术问题，提出一种300mm立式氧化炉双壁反应管，该反应管结构设计完善合理，保证了硅片的加工效果。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：300mm立式氧化炉双壁反应管，其特征在于：设有圆桶形石英材料的外管壁和内管壁，内管壁与外管壁之间设有间隔夹层，外管壁上端封闭，内管壁上端为开口，内、外管壁下端密封连接；在内管壁的下端设有连通内、外管壁之间夹层和气源的进气管及连通内管壁的内腔与反应管外的出气管；在外管壁内焊接固定有两个偶管，在该偶管的下端焊接有一个半圆柱管，该半圆柱管焊在内管壁上，其外侧设有一个用以安装热电偶的椭圆形开口。
在反应管下面设有法兰盘，该法兰盘上设有一个定位凸块。
本发明采用了双壁反应管，这种方式可以有效的使工艺气体均布在整个双壁石英管夹层内，从而使工艺气体在管内从下向上流动过程中被充分的均匀的加热。然后进入内壁，充满整个内腔，硅片工艺结束后，残余气体由出气口排出。石英偶管被焊接在内外管之间，可以更好的测试硅片的温度，同时使得工艺管的结构更加合理。偶管与外壁焊接，并通过焊接细小的半圆柱形支撑管固定整个偶管，有效的固定偶管。半圆柱管设有椭圆形开口，这样比直接在工艺管即内管壁上开口不仅尺寸要大，而且石英制品的加工工艺性能更好了，此结构有利于热电偶在偶管的安装，防止热电偶在安装时因偶管开口过小而造成碰撞损坏。在反应管的法兰上增加一个凸块，更好地对反应管进行定位，保证反应管在炉体内的同轴度，起到了定位准确、结构简单的作用。本发明具有结构完善，整体性强，能保证工艺效果好的优点。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的剖视图；
图3是图1中局部A的放大图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明：实施例：参见附图，300mm立式氧化炉双壁反应管，设有圆桶形石英材料的外管壁2和内管壁1，内管壁与外管壁之间设有间隔夹层1.1，外管壁上端封闭，内管壁上端为开口，内、外管壁下端密封连接；在内管壁的下端设有连通内、外管壁之间夹层和气源的进气管5及连通内管壁的内腔与反应管外的出气管4；在外管壁内焊接固定有两个偶管3，在该偶管的下端焊接有一个半圆柱管6，该半圆柱管焊在内管壁上，其外侧设有一个用以安装热电偶的椭圆形开口6.1。在反应管下面设有法兰盘7，该法兰盘上设有一个定位凸块7.1。
Claims (2)
1、一种300mm立式氧化炉双壁反应管，其特征在于：设有圆桶形石英材料的外管壁(2)和内管壁(1)，内管壁与外管壁之间设有间隔夹层(1.1)，外管壁上端封闭，内管壁上端为开口，内、外管壁下端密封连接；在内管壁的下端设有连通内、外管壁之间夹层和气源的进气管(5)及连通内管壁的内腔与反应管外的出气管(4)；在外管壁内焊接固定有两个偶管(3)，在该偶管的下端焊接有一个半圆柱管(6)，该半圆柱管焊在内管壁上，其外侧设有一个用以安装热电偶的椭圆形开口(6.1)。
2、根据权利要求1所述的反应管，其特征在于：在反应管下面设有法兰盘(7)，该法兰盘上设有一个定位凸块(7.1)。
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN103290483A (zh) * | 2013-06-06 | 2013-09-11 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种硅片热处理反应管及硅片热处理方法 |
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2008
- 2008-12-31 CN CN200810241154A patent/CN101526306A/zh active Pending
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