CN101478075A - 一种高垂直度、温度及压力处理装置 - Google Patents

一种高垂直度、温度及压力处理装置 Download PDF

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Abstract

一种高垂直度、温度及压力处理装置包括基座(5)，基座(5)上安装有压力施加装置，压力施加装置与带有上热压头(1)的上热压头座(2)相连，所述上热压头座(2)的侧面与滑块(3)相连，滑块(3)与滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。其目的在于提供一种产品的合格率高，质量好的高垂直度、温度及压力处理装置。

Description

一种高垂直度、温度及压力处理装置
技术领域
本发明涉及一种用于将芯片固定到天线上的高垂直度、温度及压力处理装置。
背景技术
一种高垂直度、温度及压力处理装置是用于将芯片固定到天线上的装置，现有的处理装置，是采用气缸驱动热压头，但由于气缸的活塞杆与活塞筒之间的配合间隙较大，汽缸的上下运动精度不高，导致芯片被固定到天线上的位置精度不高，由此会导致产品的合格率较低。
发明内容
本发明目的在于提供一种产品的合格率高，质量好的高垂直度、温度及压力处理装置。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，包括基座，基座上安装有压力施加装置，压力施加装置与带有上热压头的上热压头座相连，所述上热压头座的侧面与滑块相连，滑块与滑道相配合，滑道固定在所述基座上。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述滑道的横截面为矩形或燕尾形，所述滑块具有与滑道相配合的矩形卡槽或燕尾形卡槽。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述压力施加装置为气缸或弹簧，气缸的活塞杆或弹簧的施压端与带有上热压头的上热压头座相连。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述上热压头座采用绝缘材料制成。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述气缸或弹簧沿垂直方向安装在所述基座上。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述基座包括立板，立板的顶端具有向一端延伸的横板，横板的板面与所述滑道上的导轨垂直。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其中所述上热压头的下方设有下热压头，下热压头固定在下热压头座上，所述上热压头座为一个整体部件。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置的优点和积极效果在于：由于在上热压头座的侧面设有滑块，滑块与沿垂直方向设置的滑道相配合，滑道固定在基座上，在将芯片固定到天线上的工作过程中，上述滑轨可以极大地提高热压头的运动精度，从而保证产品的一致性，极大地提高产品质量，减少废品率，并能保证不同批次的产品具有很好的配合与互换性，即产品质量也有大幅度的提高。由于上热压头座具有极高的导向精度，运动轻快灵活，热压压力均匀，能极大地提高生产效率和合格率，采用本发明的高垂直度、温度及压力处理装置，其生产合格率可以由原来的96％提高到99％强。
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置的其他细节和特点可通过阅读下文结合附图详加描述的实施例便可清楚明了。
附图说明
图1为本发明的一种高垂直度、温度及压力处理装置的结构示意图的立体图；
图2为本发明的上热压头座部分的主视图；
图3为本发明的上热压头座部分的仰视图。
具体实施方式
如图1、图2和图3所示，本发明的一种高垂直度、温度及压力处理装置，包括基座5，基座5上安装有压力施加装置，压力施加装置为气缸6，气缸6沿垂直方向安装在基座5上，气缸6的活塞杆与带有热压头1的上热压头座2相连，上热压头座2的侧面与滑块3相连，滑块3与滑道4相配合，滑道4固定在基座5上。滑道4的横截面为矩形，滑块3具有与滑道4相配合的矩形卡槽。
上述滑道4的横截面也可以为燕尾形，滑块3则为具有与滑道4相配合的燕尾形卡槽。
上述压力施加装置也可以为弹簧，弹簧的施压端与带有上热压头的上热压头座相连。上热压头座的侧面设有滑块，滑块与沿垂直方向设置的滑道相配合，滑道固定在基座上。滑道的横截面为矩形，滑块具有与滑道相配合的矩形卡槽。
上述上热压头座可采用绝缘材料制成。上热压头座2为一个整体部件。上热压头座采用绝缘材料制成的好处在于，通电后可以仅仅使热压头加热，即热量不会分散到其它元件上，由于绝缘导电材料的隔热性好，可是使热压头上集中更多的热量，即可以控制热量不扩散。
上述基座包括立板11，立板11的顶端具有向一端延伸的横板10，横板10的板面与滑道4上的导轨垂直。
上述上热压头1的下方设有下热压头9，下热压头9固定在下热压头座8上，
本发明的高垂直度、温度及压力处理装置在使用时，气缸6的活塞杆驱动带有热压头1的上热压头座2沿着滑道4上、下运动，由于有滑道4的引导定位作用，可极大地提高热压头1的运动精度，从而可提高产品质量，减少废品率。
上面所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明范围进行限定，在不脱离本发明设计精神前提下，本领域普通工程技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。

Claims (7)

1.一种高垂直度、温度及压力处理装置，包括基座(5)，基座(5)上安装有压力施加装置，压力施加装置与带有上热压头(1)的上热压头座(2)相连，其特征在于所述上热压头座(2)的侧面与滑块(3)相连，滑块(3)与滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。
2.根据权利要求1所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述滑道(4)的横截面为矩形或燕尾形，所述滑块(3)具有与滑道(4)相配合的矩形卡槽或燕尾形卡槽。
3.根据权利要求2所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述压力施加装置为气缸(6)或弹簧，气缸(6)的活塞杆或弹簧的施压端与带有上热压头(1)的上热压头座(2)相连。
4.根据权力要求1或2或3所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述上热压头座采用绝缘材料制成。
5.根据权利要求4所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述气缸(6)或弹簧沿垂直方向安装在所述基座(5)上。
6.根据权利要求5所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述基座包括立板(11)，立板(11)的顶端具有向一端延伸的横板(10)，横板(10)的板面与所述滑道(4)上的导轨垂直。
7.根据权利要求6所述的高垂直度、温度及压力处理装置，其特征在于所述上热压头(1)的下方设有下热压头(9)，下热压头(9)固定在下热压头座(8)上，所述上热压头座(2)为一个整体部件。
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