CN101418480A - 碳纤维表面处理机 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种碳纤维生产设备,具体是一种碳纤维表面处理机。它包括一个机架,机架上安装有电解槽,电解槽内装有电解液;在机架上安装多个绝缘辊,绝缘辊下部浸在电解液中,电解槽底部安装有与电源阴极连接的电极板;在电解槽上方设置有多个石墨辊,碳纤维依次绕过每个石墨辊的顶部和绝缘辊的底部,石墨辊与电源阳极连接。本发明能够对传送过程中的碳纤维进行连续的表面处理,运行可靠、处理效率高;同时在处理过程中能够实时地控制处理温度和电解液质量,从而保证了处理效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种碳纤维生产设备,具体是一种碳纤维表面处理机。
背景技术
由于碳纤维是高温碳化制取的含碳量93%的新型材料,碳纤维表面活性降低,与树脂浸润性变差,导致碳纤维复合材料层间剪切强度降低,不能达到实用设计要求。为了使碳纤维由憎液性转变为亲液性,就需要对碳纤维进行表面处理,以提高碳纤维的比表面积和对树脂的浸润性,满足设计和使用的要求。现有的碳纤维生产设备中通常采用常规的电解设备对碳纤维进行表面处理,难以适应碳纤维连续生产的要求,处理效果不理想,处理效率也较低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种效果好、效率高的碳纤维表面处理机。
本发明的碳纤维表面处理机包括有一个机架,机架上安装有电解槽,电解槽内装有电解液;在机架上安装多个绝缘辊,绝缘辊下部浸在电解液中,电解槽底部安装有与电源阴极连接的电极板;在电解槽上方设置有多个石墨辊,石墨辊与电源阳极连接。
所述的电解槽内安装有热电偶,可以用来监测电解液的温度,以便控制系统对处理温度进行控制。
在电解槽两侧设置有电解液回收槽,电解液回收槽内设置有过滤材料,电解液回收槽通过电解液出口与外部的电解液处理系统连接,电解槽上还设置有电解液入口,经外部电解液处理系统处理后的电解液从电解液入口注入电解槽,实现电解液的循环处理。
本发明能够对传送过程中的碳纤维进行连续的表面处理,运行可靠、处理效率高;同时在处理过程中能够实时地控制处理温度和电解液质量,从而保证了处理效果。
附图说明
图1为本发明的电解电路原理示意图;
图2为本发明实施例的结构示意图。
具体实施方式
如图2所示,本发明的碳纤维表面处理机包括一个机架1,所述的机架1上安装有电解槽2,电解槽2内装有电解液3;在机架1上安装多个绝缘辊4,绝缘辊4下部浸在电解液3中,电解槽2底部安装有与电源阴极连接的电极板5;在电解槽2上方设置有多个石墨辊6,碳纤维12依次绕过每个石墨辊6的顶部和绝缘辊4的底部,石墨辊6与电源阳极连接。
所述的电解槽2内安装有热电偶7,可以用来监测电解液的温度,以便控制系统对处理温度进行控制。
在电解槽2两侧设置有电解液回收槽8,电解液回收槽8内设置有过滤材料9,电解液回收槽8通过电解液出口10与外部的电解液处理系统连接,电解槽2上还设置有电解液入口11,经外部电解液处理系统处理后的电解液3从电解液入口11注入电解槽2。从电解槽2两侧挡板溢出的电解液进入电解液回收槽8,经过滤材料9的过滤后,由电解液出口10送出到外部的电解液处理系统,再由电解液处理系统经电解液入口11送回电解槽,实现电解液的循环处理。
如图1所示,工作时,石墨辊6、碳纤维、电解液3、电极板5组成了一个闭合电解电路,对碳纤维进行电解氧化处理,使碳纤维由憎液性变为亲液性。
Claims (3)
1.一种碳纤维表面处理机包括一个机架(1),其特征是:机架(1)上安装有电解槽(2),电解槽(2)内装有电解液(3);在机架(1)上安装多个绝缘辊(4),绝缘辊(4)下部浸在电解液(3)中,电解槽(2)底部安装有与电源阴极连接的电极板(5);在电解槽(2)上方设置有多个石墨辊(6),石墨辊(6)与电源阳极连接。
2.根据权利要求1所述的碳纤维表面处理机,其特征是:电解槽(2)内安装有热电偶(7)。
3.根据权利要求1或2所述的碳纤维表面处理机,其特征是:在电解槽(2)两侧设置有电解液回收槽(8),电解液回收槽(8)内设置有过滤材料(9),电解液回收槽(8)通过电解液出口(10)与外部的电解液处理系统连接,电解槽(2)上还设置有电解液入口(11),经外部电解液处理系统处理后的电解液(3)从电解液入口(11)注入电解槽(2),实现电解液(3)的循环处理。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20090429 |