CN101379224A - 具有狭窄导电带线的光学涂层 - Google Patents

具有狭窄导电带线的光学涂层 Download PDF

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Abstract

一种具有狭窄导电带线的光学涂层，其中，导电微带(64)形成在一涂敷的或未涂敷的基底(28)上，以获得目标光学特性和目标电气能力的组合。对于涂敷的基底，涂层(100)可在导电微带之前或之后形成。该涂层可以设计成提供反射光中IR的过滤或减小和色移，同时导电微带可用于EMI屏蔽或提供电流承载能力，例如在用作为加热器时。在另一实施例中，导电微带形成在未涂敷的柔性透明基底上并具有小于25微米的宽度，这样，导电微带能够达到其期望的目的，同时保持高的可见光透射性。导电微带可使用种种方法来形成，例如，使用电镀技术或使用喷墨印刷技术。

Description

具有狭窄导电带线的光学涂层
技术领域
本发明总的涉及滤光器，更具体地说，涉及应用于观察表面的滤光器，其中包括等离子显示器屏和用于车辆、建筑物、致冷的玻璃等。
背景技术
根据所企望的应用，对涂在基底上涂层的目标光学特性的选择随着应用的不同而具有很大的变化。例如，授予Hood等人的美国专利No.5,071,206描述了一种可用于车辆、房屋和办公室窗子的滤光器结构，该专利已经受让于本专利文件的受让人。对于车辆窗子来说，如果窗子包括用于提供除雾的导电迹线或导线，则须考虑的因素就需增加。相比之下，在设计用于等离子显示屏(PDP)的滤光器时，还必须考虑其它的因素。这种因素包括透射颜色的中性度、反射光的水平和颜色随观察者入射角改变而发生的变化，以及红外线和电子电磁辐射的传导水平。遗憾地是，修正PDP滤光器来提高相对于一个因素的条件，有时会与保持其它因素的目标水平发生冲突。权衡的可能性还涉及其它的光学元件，例如，需考虑表面加热的窗子(例如，除雾和防冻的须控制的窗子)。
图1是对等离子显示屏提供一滤光器的一种可能的涂层结构，它包括模块的或分离的玻璃片10。标准(Etalon)滤光器12首先形成在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的基底14上，然后，用一粘结剂层16将该基底14附连到玻璃片上。因为等离子显示器产生红外线辐射和电磁干扰(EMI)，它们必须根据规定予以控制，所以滤光器12须设计成减小从该显示屏发出的红外线和EMI。基于多银层的标准(Etalon)滤光器可用来屏蔽红外线波长和电磁波。相邻银层之间的干扰可以加以调谐以在可见区域内的谐振传播，同时，提供所需的屏蔽。以上引用的授予Hood等人的专利描述了一合适的涂层顺序。
图1还包括一防反射层(AR)堆叠18，它原先形成在一第二PET基底20上。防反射层堆叠在业内是众所周知的。一第二粘结剂层22将PET基底20固定到图1的其它元件上。
尽管PDP滤光器12减小了从显示屏发出的红外线和EMI，但滤光器还必须在美观上能被人接受，在观看显示的图像时必须能有良好的保真度。因此，滤光器的透射度应在光谱的可见区域应该高，并应相对地无色，以不改变等离子显示器的颜色再现。此外，一般还期望显示器的反射性应该很低。
颜色可以用种种方式表达。在以上引用的授予Hood等人的专利中，颜色是用CIE La*b*1976颜色坐标系特别是用ASTM 308-85方法来表达的。使用该方法，用接近0的值a*和b*来显示一种特性。一般地来说，消费者希望计算机显示器能显示中性或颜色稍显蓝色。简要地看一下图2中所示的La*b*坐标系，它通常能产生反射的a*线(即，Ra*)在—2至大约10的范围内而反射的b*线(即，Rb*)在—40至大约2的范围内的期望要求。该期望用虚线23表示。
大型信息显示器的使用者一般地希望反射颜色随观察角度的改变变化得最小。当从近距离观察显示器时，任何颜色变化会发生转移。此时，显示器的颜色横贯表面显现变化。由于等离子显示屏因显像所需的像素数量大和大的像素尺寸而使其本质上很大，所以，减小颜色随观察角度而偏移需要随之提高。尤其是，如果颜色的“红-绿”分量即Ra*随角度有很大改变，则是非常不好的。如果显示器在正常入射角时具有大的反射的负值Rb*(即，强的蓝反射颜色)，则沿着其它轴线Rb*的变化一般地不是一个问题。
如上所述，有关PDP滤光器设计中的不同因素可能会发生矛盾。一般地来说，获得高的可见透射性和红外线反射性是与EM屏蔽能力相竞争的。
在PDP滤光器12中需要有低的薄片阻力时，控制光谱红光区域内的反射甚至会变得更加困难。人们已经作了种种努力来平衡红光传播最大化和薄片阻力最小化的目标。授予Okamura等人的美国专利No.6,102,530描述了一种用于等离子显示器的滤光器，其中，滤光器具有小于3ohm/square的薄片阻力。一般地来说，需要有小于1.0ohm/square的薄片阻力来满足联邦通讯委员会(FCC)的Class B标准，甚至对具有最高亮度效率的PDP组也是如此。具有薄片阻力为0.1至0.2ohm/square的铜丝网PDP EMI滤光器常常用来提供ClassB的相容性。
对较低薄片阻力的要求增加了标准EMI滤光器的颜色问题。随着传导层变厚，滤光器的传播带宽变得较狭，导致红光反射的增加和传播中颜色带宽的损失。
图2示出了PDP设计中四银层涂敷的难度。面积24示出了作为从正常入射到60度的观察角的函数的颜色。四银层涂敷具有一可接受的的薄片阻力并可具有45nm的总的银层厚度以在正常入射时提供一可接受的颜色外观。然而，如图所示，当以60度角观察涂层时，反射光很红，此时Ra*近似为30。此外，颜色随着入射角有很大的色偏移，这对于近距离观察的大屏幕来说，横贯屏幕形成显著的色差。因此，尽管涂层适合了某些Class B EMI的应用，但该涂层在美观上被认为是不可接受的。
在多层的喷溅涂层中使用薄银层对于这些产品提供了导电特性。然而，某些应用需要的电性能超过单是喷溅膜的物理/光学和/或经济能力。通常，通过使用较厚的银层，和/或使用一定厚度的较多层的银层，就可在喷溅的薄膜产品中达到提高的导电率。这两种方法有降低可见光的传播和/或较高的可见光反射，因此，在应用中形成不能接受的光学特性。光学应用(可见光传播率>～50％)中的这些银-介电的涂层的总的限制是薄片阻力在～1-7ohm/square的范围，而某些重要市场(诸如等离子EMI显示器滤光器和受热的汽车玻璃)的最佳电阻是在0.7ohm/square范围内，甚或更低。在汽车的应用中，可提供的电势相当低(14伏)，如果玻璃要被有效地加热，则薄片阻力就是一个问题。关键是需要提高电阻率而不负面影响光学特性。另外重要一点的是，所需要的电-光特性要以对成本有效的方法来获得。
在用于诸如等离子显示屏或车辆窗子那样的观察表面中，我们需要致力于有关发射控制、颜色偏移、颜色带宽以及传播中低的薄片阻力等问题的滤光器。
发明内容
为了保护使用者或方便使用者，往往需要提供一种具有组合的光学和电气特性目标的基底。在某些应用中，理想的光学特性可以只是保持足够的透明度同时达到目标的电气特性。对于这些应用，下面所述的本发明可应用于一未涂敷的柔性基底上。在其它的应用中，其目标是获得更加复杂的光学过滤能力，诸如IR过滤或反射光的减弱和颜色移动，加以实现诸如加热或EMI屏蔽那样的电气特性。在这些应用中，本发明可应用于具有光学涂层的基底或应用于光学涂层在其后形成的基底。
具有互相合作而提供过滤特性的涂层是已知的。然而，已知技术不能提供足够低的薄片阻力或不能提供理想的加热能力。因此，本发明包括形成与基底电气接触(不必实体接触)的超狭导电带(导电微带)。这些超狭导电带可用来在基底整个表面上提高的导电性(即，低的薄片阻力)。或者，超狭导电带可用为电流承载元件。
本发明一可能的实施例使用金属墨来形成超狭导电带。金属墨可以应用于一呈以高速沉淀的直线形式的喷墨印刷过程中，最好是采用连续的或半连续的方法。
本发明的第二实施例使用照相平板印刷工艺。超狭金属带以多步骤方式形成，多步骤包括将待印刷导电带的表面浸渍在含有毫微颗粒催化剂的液体前驱体中，通过UV曝光激活将形成超狭窄金属带的区域，并将曝光过的表面浸渍在一含有金属离子溶液中，金属离子将在曝光区域内生长。或者，可采用反过来的曝光步骤和最后的浸渍步骤。这就是说，不形成带的区域曝光于UV光中，这样，当表面浸渍到金属离子溶液中时，导电带将在未曝光的区域内生长而形成超狭导电带。此外，使用其它方法来提供基底上的超狭金属导电带，基板于是浸渍到一包含高导电材料的离子(诸如银或铜)的溶液中。基底的两侧可以与传统电镀方法相一致的方式浸没，或可只浸没离子要被侵袭的基底一侧。
本发明的第三实施例是提供采用胶版印刷、凹版印刷术或类似型式的印刷技术以连续或半连续的模式来印刷超狭带。
基底可以是涂敷或未涂敷的塑料，或可以是玻璃、或者是柔性的、刚性的、平板或者是弯曲的(诸如成形的汽车挡风玻璃)。涂层和超狭导电带可以直接应用于最终产品，或可以形成在一待应用于最后产品的基底(例如，PET)上。因此，各种应用包括但不局限于建筑物的翻新、冷冻玻璃、需要加热的车辆窗子，以及等离子显示屏。然而，本发明特别适用于形成车辆窗子和等离子显示屏。
作为一种可能性，超狭导电带可以形成在涂层一侧上，该侧与其上形成涂层的那基底相对。作为第二种可能性，超狭导电带可以形成在基底和涂层之间。如果涂层和带电气上连接，则也可以在基底的相对侧上形成涂层和超狭导电带。例如，诸带可互连到电气上连接到涂层的母线上。
附图说明
图1是适用于本发明的等离子显示屏上的滤光器的截面图。
图2是根据现有技术对于具有四银层的层堆叠作为观察角函数的颜色的绘图。
图3是根据本发明一实施例的具有介电层和金属层序列的等离子显示器滤光器的截面图。
图4是具有超狭导电带的滤光器的俯视图。
图5是图4装置一部分的侧视截面图。
具体实施方式
本发明的目的是创造具有成本有效性的大面积器具用于需要透明性还要有导电特性的应用中。制造透明的介电或绝缘光学材料/基底(诸如塑料和玻璃)而电气上导电的传统技术具有光学、电气、物理和/或经济性上的限制，以致在某些应用中某些产品要求不能完全得到满足。
本发明采用高导电金属带64(图4和5)，其涂敷的图形宽度小于人肉眼所能觉察的宽度(<50微米，最好小于25微米)。使用成本低的印刷和/或成像技术，可将超狭的导电带涂敷到产品上，使得产品可满足光学应用，同时提供具有成本有效性的、母线之间低的薄片电阻(这用于提供电能，或在电屏蔽的情形中用于接地)。这些图形的金属带与已具有低的薄片阻力的材料进行组合，例如基于薄银层的喷溅涂层，这种组合可形成宽范围的能提供多种功能连同导电性的材料。这些功能性的实例包括阻挡电磁谱不需要部分(诸如红外和紫外线部分)的能力，同时满足导电性的要求。如此多功能的产品在建筑、汽车和电子显示器的应用中具有很大的价值。
本发明包括高导电带以低成本印刷的新颖组合，它在涂敷的和不涂敷的基底的大面积上印刷超狭线(～25微米)以形成可用于很大范围市场和应用的多功能产品。基底表面上提高的导电性(即，低的薄片电阻)允许用于以下应用中的材料，包括：主动的电加热、电磁干扰屏蔽，以及电磁信息主动的传导/接受(天线)同时保持可见光高的传播性和/或低的可见光反射。对于汽车的挡风玻璃来说，在某些国家中(例如，如美国国家运输安全部提供的美国车辆)可见光传播率必须至少为70％。
一种涂敷狭的导电金属带64的方法是利用金属墨。金属墨包含高导电的毫微材料(包括铜、银和金)，它在足够低的温度下涂敷和固化以涂敷到塑料基底上。此外，这些墨的涂敷可用诸如喷墨印刷的低成本的方法实施，其中，导电线可以连续的方式以高速进行涂敷在玻璃片或塑料或卷筒对卷筒的柔性塑料薄膜上。或者，狭窄金属带可以通过三步工艺过程来形成：将基底浸渍在含有毫微颗粒催化剂(诸如钯)的液体前导体中，然后，通过有选择的UV曝光激活将形成狭窄金属带的区域(例如，扫描UV激光或通过掩罩进行曝光)，最后，将曝光过的基底浸渍在一含有金属离子溶液中，金属离子将有选择地在曝光区域内生长而形成导电金属带。因此，可采用电镀技术。本发明的第三实施例是使用胶版印刷、凹版印刷术或类似型式的印刷技术以连续或半连续的模式来印刷超狭带。
这些狭导电带64与喷溅涂层的组合形成了满足所要求的诸如等离子显示器那样的EMI屏蔽涂敷的能力，其中，所要求的薄片阻力需要是～0.5ohm/square或更低，同时还满足阻挡光谱近IR部分并保持高可见传播的要求。同样地，用于汽车的太阳能控制玻璃使用喷溅涂层来减少进入到汽车内的IR传播，但对于需从小车辆电池中获得的14伏电压进行加热(为除雾和防冻)的该种玻璃，薄片阻力需要是～0.5ohm/square。银基喷溅膜和高导电金属墨的组合使得使用成本有效的方法成为可能。
实例
图3用来示出可用于本发明的一种可能的涂层顺序。请参阅图3，涂层的一种交替的图形26形成在一柔性的聚合物基底28上。基底材料可以是具有厚度为25至100微米的PET。在与交替图形相对的基底一侧上是粘结剂层30和可揭去带32。可揭去带32可容易地从粘结剂上除去，以允许利用粘结剂层将基底及其层偶联到希望过滤的构件(诸如一PDP)上。在另一实施例中，交替的图形26直接形成在等离子显示屏上，但在该替代的实施例中存在着必须解决的制造复杂性因素。例如，必须将屏传送通过一喷溅室以便沉淀形成各层的材料。
在形成多层的交替图形26中，我们希望能在接近室温的温度下将材料沉淀到聚合物基底28上。该交替图形至少包括11层，使最靠近基底的那层是一介电层34。尽管未在图3中示出，但可有一底层、一粘结剂层或其它的层，它们有利于图3滤光器100的结构完整性。形成该交替图形26以使总的银质量为最大，同时保持蓝的反射色、高的传播性和传播的中性。这些特性利用5个金属层36、40、44、48和52来获得，它们具有大于50nm的组合厚度。金属层可以是银层或银合金层。银合金层可以这样来形成，首先喷溅银，然后，喷溅钛盖帽层，该帽层随后经受合金和氧化过程。
在图3滤光器100的制造中，第一介电层34可通过将介电材料喷溅到基底28上而形成。如上所述，“介电”是指高折射率层(即，折射率大于1.0)。在优选的实施例中，各介电层34、38、42、46、50和54的折射率在1.8至2.5的范围内。第一介电层的厚度至少为10nm，较佳的范围是10nm至60nm。合适的材料是氧化铟，它可包括铟锡氧化物。或者，交替图形的至少一个介电“层”可以是介电材料的组合，诸如InOx和TiOx。
形成在第一介电层34上面的是第一金属层36。“金属”层是具有足够低电阻率以促进形成具有所要求的薄片阻力的最终产品的一层。每一金属层可以是银层或银合金层。第一金属层36的厚度最好在6nm至12nm的范围内。交替图形26中的第二介电/金属对重复第一对的材料。第二介电层38的厚度在70nm至95nm范围内，而第二金属层40的在9nm至18nm的范围内。至少在一优选的实施例中，第三和第四金属层44和48具有与第二金属层40相同的厚度，误差在±20％内。第三、第四和第五介电层42、46和50的厚度最好与第二介电层38的范围相同。
最后的金属层52可以比中间的金属层40、44和48薄。第五金属层52的厚度较佳地在6nm至12nm范围内。同样地，最后的介电层54具有减薄的厚度，类似于第一介电层34。第一和第六介电层34和54可具有20nm至60nm范围内的厚度。滤光器100各层厚度可以在合适范围内进行调整以便对特定应用达到目标的光学特性。如果介电层厚度相等且金属层厚度也相等，则将导致高的透明度，但可能有过度的色移动。因此，可以包括有一颜色纠正层56来提供一相反方向的色偏移，这样来弥补由交替图形26所呈现的色偏移。业已确定出，如果使用不到五个银合金层，则就难于提供低于1.2ohm/square的薄片阻力和随观察角度产生的低的色偏移。
在颜色纠正层56和交替图形26之间包含一硬涂敷层58，以便保护底下各层免被刮伤和污染。与颜色纠正层56相同，硬涂敷层包括在该优选实施例中。然而，如果滤光器100如图1所示那样在第二聚合物基底20上采用一上面的防反射涂层，那么硬涂敷层就不太重要了。
金属层36、40、44、48和52的总厚度在实现所要求的光学特性上起了重要的作用。如上所述，该总厚度应大于50nm。对于具有六个氧化铟层和五个银层的滤光器的光性能来说，其中，银层的总厚度小于50nm，曾计算了该滤光器的光学特性。具体地来说，11层的厚度是40nm/10nm/70nm/10nm/70nm/10nm/60nm/6nm/40nm/6nm/20nm/。这与授予Okamura等人的美国专利No.6,102,530中的实例相一致。光谱可见范围内的传播(Tvis)、可见范围(Rvis)内的反射以及其它光学特性，使用一光学模型计算对PET上的该结构予以确定，所述结构用清澈的粘结剂重叠到玻璃上并用商业上的防反射涂层予以层叠。计算得到的光学特性显示在表A内。一般来说，最好的情况是，等离子显示器具有小于约5％的可见反射范围(Rvis)，而法向入射(0度)时的反射色应使-Rb*约为2或大于Ra*几倍。此外，观察角在0度和60度之间时沿着Ra*轴线的色移应小于约10CIE单位。从表A可见，滤光器在60度时具有大的正Rb*，这会导致棕色或黄色的反射外观。相比之下，图3所描述的滤光器100在60度时提供一负的或中性的Rb*，它对应于一中性或蓝色反射色。一般来说，根据本发明形成的滤光器法向入射时的Rb*在-10至-20的范围内，而在60度时Rb*小于2。同样重要的是，薄片阻力可以小于1.0ohm/square。
Figure A200680021043D00121
Figure A200680021043D00131
在本发明的另一实施例中，其中，应用要求薄片阻力小于0.5ohm/square或更小，超狭导电带64的选定图形可以在涂敷硬涂敷层58之前印刷到介电层54。可使用一喷墨打印机来涂敷含有高导电的毫微颗粒的金属墨，诸如(但不限于)铜、银、金或这些材料的组合。示于图4中的超狭导电带64较佳地具有约25微米或不到的宽度。本发明不局限于所示的图形。在本技术领域内还公知可采用其它替代的图形，诸如不平行线的图形或包括交线的图形。
在本发明的另一实施例中，超狭导电带64可以使用照相平版印刷和电镀技术的组合来印刷到介电层54上。请参阅图3，交替层32-54可浸渍到含有诸如钯那样的毫微颗粒催化剂的液体前导体中。接下来，涂敷的基底可以预选定的图形曝光在UV光中。通过扫描UV激光或光掩罩可形成该图形。当浸渍在含有使选定曝光区域生长的金属离子的溶液中时，曝光在UV光中的区域将被激活而形成超狭导电带64。可以浸没全部的基底或只是浸没需形成带的基底表面。基底可具有卷起来的形式(卷筒)，其一部分区域与溶液接触。本技术领域内的技术人员也知道可采用反过来的曝光步骤和其后的浸渍步骤。这就是说，不形成带的区域曝光于UV光中。当浸渍到金属离子溶液中时，导电带将在未曝光的区域内生长而形成超狭导电带64。本发明的第三实施例是使用胶版印刷、凹版印刷术或类似型式的印刷技术以连续或半连续的模式来印刷超狭带。
如图4所示，超狭导电带64通过至少一个母线66和68在电气上互连。在图4和5中，导电带位于全部装置的与涂层26相同的一侧上。对于导电带和涂层位于基底28的相对侧上的实施例来说，母线66和68中的一个或两个可在电气上连接到涂层上。电气的连接可使用本技术领域内熟知的技术来实施。在最简单的方法中，导线将母线附连到涂层26上。
图3的结构可使用作为介电材料的氧化铟(或某些其它透明的导电氧化物)和作为金属材料的银来制造。薄的钛层(厚度小于2nm)可在沉淀介电材料之前沉淀到各个银层的顶上，以便提高银的导电性。
尽管优选实施例是通过涂敷一基底来形成光学特性的实施例，但也可构思其它的实施例，其中，基底本身进行加工或处理以达到理想的光学特性，例如，高的红外线吸收性。因此，各层的喷溅方法对于本发明不是关键的技术。基底本身可以是普通的塑料、玻璃、吸收IR的PET或PVB、导电的聚合物，或光学上涂敷的基底，诸如喷溅涂敷的玻璃和热解涂敷的玻璃。

Claims (29)

1.一种提供光学结构的方法包括：
提供一柔性透明的基底；以及
在所述基底上形成导电的微带以获得目标的电气特性，所述目标电气特性包括以下诸项中的至少一个，即，提供目标的电磁(EMI)屏蔽和提供一阵列的电流承载元件，至少某些所述导电微带具有小于25微米的宽度，所述宽度平行于所述基底的主表面进行测量，形成的所述导电微带通过所述光学结构能保持至少为70％的高可见光透射性。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述的导电微带包括：形成一用于所述涂敷基底上的所述导电微带的图形，然后，使用电镀技术来形成所述导电微带。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，形成所述图形包括：对所述基底施加一毫微颗粒的催化剂。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，形成所述图形还包括：使用有选择的曝光来提供所述毫微颗粒催化剂中的所述图形。
5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带包括施加金属墨。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带包括施加作为种子层的金属墨。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带还包括：在电镀所述导电微带中使用所述种子层。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带包括：形成作为金属墨的所述导电微带。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带包括使用喷墨印刷技术。
10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述导电微带包括使用传统的印刷技术。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，使用传统的印刷技术包括采用凹版印刷术。
12.如权利要求1所述的方法，其特征在于，组织和连接所述导电微带以提供加热元件。
13.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括在所述基底上形成多个层以获得目标的光学特性。
14.一种提供光学结构的方法包括：
形成一涂敷的基底以包括一光学的涂层和一阵列的导电微带，所述光学涂层是一系列层，它们互相合作而提供理想的过滤特性，其中，形成所述阵列的导电微带包括：
使用照相平板印刷技术和电镀技术的组合来形成和生长所述阵列。
15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，使用照相平板印刷技术和电镀技术的所述组合包括：至少部分地将所述涂敷基底浸没在具有高导电材料的离子的溶液中。
16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，在移动所述已涂敷基底的柔性卷材时，实施所述浸没。
17.如权利要求14所述的方法，其特征在于，使用照相平板印刷技术和电镀技术的所述组合包括：形成所述的具有小于25微米的宽度的导电微带。
18.如权利要求14所述的方法，其特征在于，使用照相平板印刷技术和电镀技术的所述组合包括形成在有选择地曝光时化学特性变化的材料，然后，提供有选择的曝光，该曝光形成通过所述电镀而形成的所述阵列。
19.如权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到等离子屏上以提供光学过滤和EMI屏蔽。
20.如权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到车辆的窗子以提供光学过滤，并在所述导电微带连接到电源上时进行局部加热。
21.如权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到住宅或商务楼的窗子上。
22.如权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到致冷单元的窗子上。
23.一种提供光学结构的方法包括：
形成一涂敷的基底以包括一光学的涂层和一阵列的导电微带，所述光学涂层是一系列层，它们互相合作而提供理想的过滤特性，其中，形成所述阵列的导电微带包括：
使用喷墨印刷技术来沉淀一金属溶液。
24.如权利要求23所述的方法，其特征在于，使用喷墨印刷技术包括将金属墨有选择地引导到一移动的柔性基底材料的卷筒上。
25.如权利要求23所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到等离子屏上以提供光学过滤和EMI屏蔽。
26.如权利要求23所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到车辆的窗子上以提供光学过滤，并在所述导电微带连接到电源上时进行局部加热。
27.如权利要求23所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到住宅或商务楼的窗子上。
28.如权利要求23所述的方法，其特征在于，还包括：将所述涂敷的基底附连到致冷单元的窗子上。
29.如权利要求23所述的方法，其特征在于，使用所述喷墨印刷技术包括：形成具有小于25微米宽度的所述导电微带。
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