CN101370956A - 用于聚合物基体的不透射线涂层 - Google Patents

Abstract

本发明描述了特别适用于聚合物基体的改进的不透射线涂层。使用改进的离子等离子体沉积(IPD)方法以提供具有宏观颗粒密实表面的涂层，该表面具有优异不透射线性能。由于高的粘附性及抗剥离及剥落性，该涂层特别适用于聚合物表面。

Description

用于聚合物基体的不透射线涂层

技术领域

本申请要求2006年10月3日提交的美国专利申请序列号No.11/542,557的优先权，其要求2006年1月30日提交的美国临时申请序列号No.60/763,262的优先权，并入了这两者以供参考。

技术领域

本发明涉及在聚合物基体上的不透射线金属涂层，特别是改进的在非金属医疗装置上不透射线涂层。

背景技术

人体内部器官及内环境的可视化在诊断及选择治疗方法上很重要。穿过患者体内的微小切口来实施微创法。一旦处于体内，有必要为该方法确认目标区域，并能够有效地对该区域进行治疗。

在当前使用中普遍使用的方法是基于荧光检验法。荧光检查器是装配有荧光屏的x-射线装置，由于经过一个物体的x-射线的不同透射形成阴影图像，可以在该荧光屏上持续观察到诸如人体的不透光物体的内部结构。

金作为不透射线材料的使用很普遍。通常其应用涉及复杂的遮蔽(complex masking)、种子层、及昂贵的加工。化学品的高毒性和难于处理，以及耗时的真空处理可导致高成本。金是所用的较昂贵金属之一，尤其是由于粘结及废物回收受到限制。

为了提高体内环境的可视性，对于在荧光检查器上具有更高可视性(即，增长的射线不透性)的工具存在增长的需求，以便确定更精确的治疗法。由于金属是高度不透射线的，它是荧光检验的理想材料，但是金属的弹性很有限，及具有很大的导致磨损的风险。不幸的是，在当前使用中，塑料和聚合物不具有足够的射线不透性，不能为x-射线检测提供令人满意的结果。

在有效涂覆那些具有复杂形状或不具电导性的表面方面，固定是常见的问题。在大部分不透射线的应用中，对于整个表面覆盖，带、条或其他不透射线的标记物是优选的。为了制造这些结构(又要节约在昂贵的不透射线材料上的花费)，需要能够将电流传递至特定点的复杂固定。即使可将电流传递至非导电性医疗装置上的特定点或带，仍需要种子层来传导在施加有涂层的点的电流。

将种子层施加至非导电性材料通常是重要的问题。这通常需要复杂的遮蔽，还需要使用不同的沉积技术，诸如溅射或离子束辅助沉积(IBAD)。这是致使问题解决的高成本步骤，提高的成本来自双重处理且通常导致差的涂层粘附性。

电镀是当前用于涂覆医疗装置最常用的方法；而电化学制造方法产生了严重的腐蚀性废物处理问题。金和铂是可以容易地电镀至所需厚度的仅有的两个不透射线性、生物相容性材料。这两种方法均使用了诸如氰化物的腐蚀性液体，其需要以环境可接受方式加以处理。即使能够以符合成本效益的方式解决固定及种子层问题，有毒性废物的后处理不仅昂贵，并且非常困难。

在医疗装置市场上的不透射线涂层的需求是众所周知的。跟踪、放置、测量、定尺度(scale)、及定位是现代微创手术中缺乏的必需要素中的一部分。当前技术限于被弯曲至导管的金属带以及昂贵的真空方法。由于弯曲带的定界(delimitation)的频繁发生，弯曲的金属带变得越来越是个问题，经常难以接受。另外，随着健康护理的成本的增高，用昂贵的、差粘附性的涂料涂覆的非金属医疗装置的成本效益由于低的利润率而下降。

人们已经作出努力来将不透射线涂层施加至一系列的基体，诸如塑料、聚合物、及陶瓷。在用不透射线材料涂覆聚合物中的关键问题是，大部分诸如溅射或电镀涂覆的本领域方法的现状将粘着性限制于柔性基体或为医疗用途需要弹性的装置。尽管延长的处理时间导致成本的增加，但是为了达到满足要求的粘附性，额外的涂覆层是必要的。

由于塑料是非导电体，所以塑料部分不容易进行电镀。一种金属化的方法是使用一系列的步骤来获得适当粘附性的涂层。可以将塑料金属化，但这些步骤是繁琐的且通常成本高，为了有效电镀，需要若干步骤。最初，塑料必须是完全不含任何油、油脂、或任何塑料注射成型化合物。如果不进行适当的清洁，过一段时间，金属将从电镀的塑料部件剥落。然后，将该部件在强侵蚀性铬/硫酸酸性镀液中(未完全达到用于医疗装置的FDA要求)进行处理，以腐蚀塑料表面。将部件置于氯化钯镀液中以使金属颗粒沉积至在塑料表面上形成的坑中。在钯金属沉积之后，使用铜金属对该部件进行电镀，然后再镀铬或其他诸如镍或金的金属。

现有技术处理方法的现状在其能力方面被限制为生产成本效益产品且对于在人体或动物体中的使用(尤其是在心脏及动脉方面)是安全的。

发明内容

本发明涉及在聚合物医疗装置上沉积不透射线金属涂层的方法。所沉积的涂层足够厚以便防止x-射线透射，且仍不影响聚合物的性能，诸如弹性(其可影响医疗过程)。

在一个方面，该方法提供改进的金属涂层，以提高用于内部可视化或治疗的医疗装置部件的射线不透性。可以有效地在非金属基体上制出粘着力提高及对于x-辐射不可透的涂层。在聚合物及塑料上的密实的涂层在荧光检查器及x-射线应用中具有低的可视性，从而提高了人体中放置及跟踪的准确性。

根据本发明，可通过控制金属离子等离子体沉积来提高射线不透性，以便在聚合物上形成相对较薄但高度密实的宏观颗粒的涂层。这就提供了不透射线膜，其不影响在体内操作所需的柔性，而同时可以使用x-射线。

本发明采用一种被改进的以便在聚合物表面上提供宏观粒子表面—层状不透射线膜的IPD方法。与电镀膜诸如金相比，不仅实现了意料不到的性能提高，而且实现了射线不透性的显著增强。可将涂层沉积至弹性聚合物上、诸如陶瓷的其他非不透射线材料上、及需要增强的射线不透性的最低射线不透性材料上。相比较其他的气相沉积法及电镀方法，所披露的IPD方法具有极高的体积输出量及相对低的成本。

因此除用于涂层制造的更加经济的方法及设备之外，现在，显著改进的不透射线的涂层可以用于人体内操作所需的弹性材料上。

IPD方法的使用提供了不透射线膜，相比传统生产的不透射线涂层及用于沉积不透射线涂层的方法(诸如慢且相对成本高的电镀)具有多个优点。

在塑料上使用其他的物理气相沉积(PVD)方法、电镀、或化学镀来获得令人满意的金属粘着性，同时保持原始基体的所有物理性能是困难的。对于大部分通过这些方法沉积的金属，其粘着力依赖于钛或铬的撞击层(strike layer)，甚至在基体弯曲、扭曲或伸展的情况下倾向于剥离(分层)。IPD沉积法的使用使涂层嵌入进聚合物中，所以事实上消除了剥离及剥落。

尽管电镀与化学镀是相对低温的方法(低于70℃)，大部分等离子体气相沉积法需要预热循环及辉光放电，通常，两者导致温度超过200℃。大部分塑料在这个温度以下能完全熔融。IPD方法可在低得多的温度下实施，实现了低熔点塑料的有效涂覆，而不对原始基体的性质造成不利影响。这种低温沉积可通过控制沉积速率，尤其是控制在IPD方法中产生的宏观颗粒的沉积来实现。一般地，较高的宏观颗粒沉积速率导致较低温度的沉积，而较低沉积速率导致较高温度沉积。通常宏观颗粒不带电，因此沉积时不会在基体上产生电流。另外，基体花费更少的时间在等离子体中，所以如果有热产生也是极少的。

不同于传统的PVD及电镀方法，可将IPD沉积的不透射线涂层根据需要进行调节，且还实现了高的生产量，也不会牺牲在医疗装置制造中所渴求的涂层质量及经济性。

可以使用IPD方法沉积出在通过传统IPD方法沉积时通常不会提供可接受的射线不透性的金属涂层。例如钨、钼、及铱，与更昂贵的金属诸如金相比，在相当的厚度下具有更高的射线不透性。因此，使用所述的IPD方法可以用更短的处理时间内获得的更薄的涂层达到相同的不透射线效果。这导致了很大的成本节约及更高的生产量，这是显著的优点。

通常的等离子体气相沉积及电镀是视线沉积(line of sightdeposition)，因此很难涂覆复杂的装置而不用复杂的固定物(fixture)。即使具有适合的固定物，也可能不会对弯曲的装置表面进行均匀的涂覆。所披露的IPD方法允许非视线(non-line of sight)涂覆，其不用复杂的固定物但仍保持不透射线性能，使涂层很容易适应于部件。

可以从原子序数大于21、密度大于4.5g/cm²的任意金属来生产高度不透射线的涂层，特别是Ti、Zr、Cr、Co、Ni、Mo、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Ir、Pt、及Au；优选Ag、Ti、Cu及Au。可将这些金属在聚合物表面上沉积为薄膜，使这些高度不透射线的涂层理想地用于导管、瓣膜、支架，尤其是适用于需要弹性的植入装置。

不透射线涂层不必限于诸如金的单金属。可使用两种不同的靶，以便可以利用一种金属形成初始沉积，该金属用粘着性的平滑表面覆盖该基体表面，如图4所示，随后用另一种金属沉积，该另一种金属的沉积可以以不断增长量的宏观颗粒(涂料中粒子尺寸的连续体)进行，或更不连续地通过立即调节电弧速度和/或靶相对于基体的位置来进行。例如，可从第一个靶进行钛沉积，然后，以这样一种方式从第二个靶进行金沉积:立即在钛上形成钛宏观颗粒的密实涂层，或利用逐渐增长的宏观颗粒进行金涂层的沉积。

本发明是利用IPD方法在聚合物表面沉积不透射线涂层的新途径。首先，在基体上沉积基本不含宏观颗粒的涂层，接着再另外涂覆可来自第二靶材料的宏观颗粒。优选地，该涂层虽然不均质，但看似单层，并沉积至厚度为约1至约100μm。通常不需要更厚的膜作为不透射线涂层。

通过控制基体与靶的距离和/或变化电弧速率，可确定沉积的宏观颗粒的数目及密度。优选连续地进行该涂层的沉积，以便不存在可辨别的多个层。当然也可沉积为第一层及第二层，以便每层具有相区别的均质外观。人们相信，只要涂层表面主要由宏观颗粒构成，就不会影响不透射线特性。宏观颗粒优选至少1μm大小；更小的宏观颗粒可能具有较差的射线不透性。

宏观颗粒的密度范围最高达到90,000/cm²；虽然这种表面密度为金提供了优异的不透射线性能，但并不要求达到最佳的密度，也不要求该密度范围对于其他金属是最佳的。尽管人们相信理想的颗粒尺寸将聚集在约1μm的聚集范围(它是本文所限定的“中等尺寸”)，但没有确定最佳的最大尺寸分布。

基体可以是任意所希望的材料，但是特别优选聚合物基体，因为大多数需要不透射线表面的基体是存在于可视化比较重要的医疗装置中。实际上通过IPD方法可涂覆任意的塑料基体，包括PTFE、ePTFE、聚丙烯、聚酯、PEEK、UHMWPE、硅树脂、聚酰亚胺及ABS。聚酰亚胺及PEEK是优选的基体，因为医疗装置通常由这种材料构成。

上面使用所述不透射线涂层的医疗装置的实例包括瓣膜、植入物、导管、支架及管。特别优选将不透射线涂层用在PEEK脊骨植入物及导管上。

可使用IPD方法生产的适宜的不透射线涂层包括金、钛、铌、钼及铪，金是特别优选的。也可使用钛，但优选用作内涂层，至少在该涂层的表面上有金宏观颗粒，因为金通常提供优于钛的不透过性。

涂层厚度优选为微米级。通常这种厚度提供好的不透射线性能，当然可根据涂层金属进行最优化。对于金的优选厚度为1-20μm的范围，更优选1、5、10、15及20μm的范围，最优选为5μm的范围。

本发明的一个重要方面是不透射线膜本身。这些膜具有不一般的表面，包括覆盖在基本不含宏观颗粒的粘着性底涂层上的密实宏观颗粒膜表面。涂层可通过沉积条件的控制达到均质，或通过利用不同的沉积条件达到非均质。

本发明的涂层作为在多种类型的医疗工具(包括支架、导管、瓣膜、管及植入物)上的不透射线涂层是所理想的。实际使用的涂层厚度优选范围为1μm至100nm。

定义

宏观颗粒指比单个离子大的颗粒。小的宏观颗粒指从两个原子至约100nm的颗粒(也称为纳米颗粒)。中等宏观颗粒指从100nm至约1μm的颗粒。大的宏观颗粒指大于1μm的颗粒。

不透射线材料不允许x-射线的通过或传播。

固定是在涂覆过程中重要的考虑因素。基体在涂覆过程中的各种移动可有效地使膜的均质性最大化。当使用IPD方法时，在固定基体上的每个点均与源(sourse)具有不同的空间关系。可移动行星式基体固定通常采用具有一个或多个自由度的恒速机构，这种机构被设计用来使靶在大的基体区域达到平均而产生更均匀的涂层。

使用离子束辅助沉积(IBAD)，以使溅射涂层增加密度。

附图说明

图1是IPD设备的简图：靶材料1、基体2、用于调整基体与靶的距离的机构3、真空室4、靶的电源5。

图2是IPD设备的另一个实施例；靶1、基体2、用于调整基体与靶的距离的机构3、真空室4、靶的电源5、及电弧速度控制器6。

图3是示出了以20x的放大倍率，在塑料(聚酰亚胺)基体上的IPD沉积金膜在253-262μm的总范围内的照片。调整沉积条件以获得高的宏观颗粒密度。表面经计算对于尺寸约1μm或更大的宏观颗粒具有90,000/cm²的宏观颗粒密度。

图4是示出了以20x的放大倍率，在塑料(聚酰亚胺)基体上的IPD沉积金膜在253-262μm的总范围内的平滑表面结构的照片。控制沉积条件，以便表面基本不含尺寸范围1μm或更大的宏观颗粒。

图5展示了具有两个可同时使用或顺次使用的靶的IPD设备；靶A1；靶B7；基体2；用于调整基体与靶A或靶B的距离的机构3；真空室4；用于控制任一靶的电源5及可选的用于任一靶的电弧速度控制器6。

具体实施方式

本工作的目的是提供一种在聚合物基体上产生高粘着性、不透射线膜的方法。人们发现，受控离子等离子体沉积(IPD)方法能够增大不透射线涂料对聚合物的粘着性，而且比本行业所用的其他传统的不透射线涂覆及沉积方法具有更高的沉积速率。涂层优异的粘着性可以使不透射线涂层直接沉积至聚合物基体。

新IPD方法的出人意料的方面是，从阴极(靶)喷射出并在基体上沉积的宏观颗粒事实上提高而不是降低了金属涂层的不透射线性能。虽然阴极电弧沉积方法比其他类型的等离子体沉积方法能够获得更高的沉积速率，并倾向于产生更多的宏观颗粒，但是出人意料的是，特意增大宏观颗粒沉积会提高IPD沉积材料的不透射线性，且可将得到薄膜形式的高质量膜。

本发明的一个方面是认识到可将等离子体沉积开发为特别适合于不透射线涂层的沉积，不仅因为其能够以高速率沉积并获得更优的粘着性，还由于增大宏观颗粒沉积这一效果。本发明的部分还涉及用于提高宏观颗粒的产生及沉积以在高沉积速率下获得具有良好粘着性的密实的、不透射线涂层的方法及设备。所生产的涂层是密实的、高粘着性的、经济的，并且在低千伏特(KV)x-射线范围内(其通常用于医疗用途)是高度可视的。

新IPD方法的一个特点是利用与靶的距离/电流关系。基体越靠近电弧源，基体上将出现越多的宏观颗粒。因为宏观颗粒是从靶喷出的，它们经历蒸发，以致飞行的时间越长，从颗粒蒸发的物质就越多。另外，或者是更高的电流，或者是将电流限制为在电弧裂分(split，爆裂)之前出现的值，倾向于导致更多的及更大的宏观颗粒。

可以使用能够使基体移动得离靶更近和离该靶(阴极)更远的机动化单元，以最初沉积完全不含粗粒的膜，用来实现位于远离靶的位置的基体上的粘着性，然后，利用位于靠近靶的位置的基体进行更宏观颗粒的密实膜的沉积，其产生更不透射线的膜或涂层。虽然这样的机动化单元还未制成并在这个方法中使用，但是这可以说是相当简单的任务，一旦本领域技术人员理解本发明的原理，便可以实现。

本发明的另一个特征是受控的IPD电源的使用，可将其进行设置以使电弧的速度达到足够慢(或足够快)。电弧的传播速度直接与所产生的宏观颗粒的量相关。基本上，减慢在靶(阴极)的表面上的电弧速度将导致更宏观颗粒的产生，其可用于增大宏观颗粒的密度，并因此增大膜的密度及最终的射线不透性。相反的，增大阴极上的电弧速度将降低宏观颗粒的产生，从而提供更多可以嵌入至基体表面中以产生更优的粘着性的高能量离子。美国专利No.U.S.6,936,145描述了一种机械开关，其是提高或降低电弧传播速度的一种可行方法。这种电弧速度的提高或降低导致了有利于粘着性的完全不含宏观颗粒的膜的沉积(无内部运动)，随后通过操纵电弧速度直接形成宏观颗粒密实膜。

已经有人提出，将除金之外的其他材料根据其电子结构、在x-射线范围的大的原子截面(在元素周期表中的较高原子序数)以及密度来作为不透射线(材料)的可行候选物。除这些特性之外，如果这些涂层材料用于医疗装置上的不透射线涂层，它们必须是生物可相容的。由于这些要求，钨、钼、钽、及铱将适用于这些涂层。

对于诸如金或银的材料，使用本发明的IPD方法获得的典型的涂覆速率的范围为每分钟100nm至5μm。使用新的IPD方法，可以用每分钟大于200nm的涂覆速率，每小时涂覆超过45,000平方英寸。除了该提高的涂覆料率及大体积之外，由于单层涂覆的缘故，IPD方法每平方英寸需要更少的处理，这就意味着更少的劳动量及更高的处理速率/生产量。

实施例

实施例1-IPD不透射线方法

离子等离子体沉积(Ionic Plasma Deposition，IPD)利用在靶材料上的改进的受控阴极电弧放电以产生高能化等离子体。IPD在一些方面不同于一般的离子等离子体沉积，包括电弧速度的精确控制。这实现了更快的移动，产生更少的宏观颗粒而不使用传感器或过滤器；或者允许更慢的移动，产生大量的更大宏观颗粒。还可以选择将两种模式混合，以产生适度量的颗粒，或产生几乎不含宏观颗粒的涂层，然后形成宏观密实涂层。可选地，还可以通过在沉积过程中就基体与靶的距离而调整基体的运动，来控制宏观颗粒的密度。

几种非金属基体已经利用高度不透射线的涂层进行了涂覆，包括PTFE、ePTFE、聚丙烯、聚酯、PEEK、UHMWPE、硅树脂、聚酰亚胺及ABS。通过IPD方法沉积的涂层具有高的粘着性，且通常发现其嵌入聚合物表面达100nm，所以事实上消除了剥落及剥离。

使用改进的IPD方法沉积不透射线涂层。图1及图2中示出了典型的设备，其中，这两个系统中的任意一个提供了靶金属沉积的控制。按照基体的尺寸及类型、靶材料(通常是金或普遍用于不透射线膜的其他金属)、及所希望的膜厚度来调整沉积条件。在膜的制备中，将可能与弯曲的塑料管一样复杂的基体与靶保持一定距离进行放置，以便在表面上均匀地沉积金属/金属氧化物平滑膜。优选厚度的范围为约100nm。图4是示出了利用图1所示的IPD设备(其中基体离银靶较远，约24英寸)在不锈钢基体上沉积的膜的表面外观的放大20倍的照片。典型的操作参数为真空压力0.1mT至30mT，操作温度范围为25℃至70℃。

为了获得高度不透射线的膜，沉积优选为连续过程，其中可通过或者改变电弧速度(图2)或者调整基体相对于靶的位置(图1)，以便沉积更大颗粒(即宏观颗粒)来改变沉积的膜特性。在塑料(或金属)基体上的膜表面将包括密实的宏观粒子表面，其中大部分密实分布的颗粒的尺寸至少为1μm。为了引发膜沉积，在离基体约24英寸处引发来自靶的金沉积，直至基体表面被涂覆。然后将基体移至距靶约8英寸，使得增加数量的宏观颗粒被沉积。

优选将涂层沉积为连续层；即具有明显不同物理性质的两层。贯穿膜的宏观颗粒密度将从基体的表面而增大，这与电弧速度被改变的速度和/或基体相对于靶进行移动的速度相关。可根据所沉积的材料及为预期使用提供所需不透射线的厚度，来控制涂层的最终厚度。

涂层的不透射线性能将部分地由其厚度及材料的阻挡能力(即，其吸收和/或反射x-射线的能力)来确定。原子序数、密度及横断面均对阻挡能力有影响。使用所披露的IPD方法，在圆基体上的厚度为1至5μm的金涂层，为医疗用途提供了足够的射线不透性。

实施例2-在聚酰亚胺上的金的射线不透性

导管的试样利用5、10、15、及20μm的不透射线金标记物进行涂覆，并在传统的导管室系统中进行检测。标准的放射线学程序使用60kV的x-射线强度，对于大体型患者要使用90kV。在一般条件下(60kV)，10、15、及20μm的试样是可视的。使用90kV的情况下，除10、15、及20μm的试样和5μm试样都是可视的。利用制备的试样进行测试，而没有用其他的生物质。图3中示出了典型金膜表面的外观。初始沉积的金具有平滑表面(图4)，如果有宏观颗粒也是极少量的。

实施例3：PEEK脊骨植入物的不透射线涂层

利用实施例1中所述的IPD方法用5μm厚的金涂层来涂覆由PEEK构成的脊骨植入物。该涂料具有密实地分布在涂层表面上的平均100nm的宏观颗粒。图3中示出了90,000cm²的典型的宏观颗粒分布。将植入物遮蔽，以便使通常在x-射线辐射下不可视的植入物的仅仅的有限区在涂覆时可视。这就使植入该装置的医疗专业人员及任何医疗专业人员在几十年内均可十分精确地看到植入物的定位。

利用60kV及90kV下的荧光检查器，而没有用其他的生物质(biomass)的情况下，检查植入物的涂覆部分。荧光检查器的植入物标记是高度可视的。

实施例4-在用哺乳动物组织覆盖的PEEK脊骨植入物上的金涂层的射线不透性

利用由实施例1的IPD方法沉积的5μm厚的金涂层来涂覆由PEEK构成的脊骨植入物。涂层具有密实地分布在涂层表面上的平均100nm的宏观颗粒。将植入物掩蔽，以便使通常在x-射线辐射下不可视的植入物的仅仅的有限区域，在涂覆时可视。这就使植入该装置的专业人员可十分精确地看到植入物的定位。

利用60kV及90kV下的荧光检查器对涂覆部件进行照射，植入物的顶部覆盖有一片一英寸的猪肉。所得的荧光检查器图像示出了清晰可视的植入物标记，并提供证据证明进行类似沉积的植入物透过组织是可视的。

Claims (18)

1.一种在聚合物基体上沉积不透射线涂层的离子等离子体沉积(IPD)方法，包括：

在聚合物基体上沉积基本不含宏观颗粒的第一涂层；

在所述第一涂层上沉积第二高密度宏观颗粒涂层；

形成厚度在约1微米至约100微米之间的涂层；

其中，电弧速度或所述基体表面离IPD靶的距离控制着宏观颗粒的产生及密度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二涂层是连续形成而没有沉积的中断。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述沉积的涂层中，宏观颗粒的密度相应于电弧速率的变化或基体表面离所述IPD靶的距离的变化而增大。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基本不含宏观颗粒的第一层与所述密实分布的宏观颗粒第二层能够明显区分。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述密实分布的宏观颗粒层包含约90,000个/cm²、1微米或更大尺寸的宏观颗粒。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述塑料基体为PTFE、ePTFE、聚丙烯、聚酯、PEEK、UHMWPE、硅树脂、聚酰亚胺或ABS。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体为聚酰亚胺或PEEK。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体是医疗装置，选自由瓣膜、植入物、导管、支架及管组成的组。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述基体是PEEK脊骨植入物。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体为导管。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述不透射线涂层是由金、钛、铌、钼或铪形成。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述不透射线涂层是金或钛。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述不透射线涂层是金。

14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述金以1、5、10、15或20微米的厚度沉积。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述金被沉积成5微米的厚度。

16.一种涂覆有不透射线膜的聚合物基体，所述膜包括在基本不含宏观颗粒的粘着性底涂层上的密实分布的宏观颗粒膜表面，其中该底涂层与所述膜表面相连续。

17.根据权利要求16所述的聚合物基体，其中，所述涂层的厚度在约100nm与约1微米之间。

18.根据权利要求16所述的聚合物基体，其中，所述基体是在医疗应用中使用的装置，选自由支架、导管、瓣膜、管及植入物组成的组。

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