CN101356419A - 不受通过线及倾斜影响的传感器 - Google Patents

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Abstract

本发明披露了一种用于连续检测倾斜的试样表面的表面特性的装置。该示范性系统可包括传送试样表面(206、406)的传送装置、用以从试样表面反射光束的光源(202、402)和具有用于连续光检测的光检测表面的光检测器(208、408)。可用透镜接收从试样表面反射的光束并聚焦到光检测器的光检测表面上。透镜前光束的面积可以不等于透镜接收表面的面积。基准分析仪可用来基于接收到的反射光与已知试样表面的已知反射光值的比较来确定光学表面质量。

Description

不受通过线及倾斜影响的传感器
技术领域
[0001]
本发明一般的涉及检测试样表面的表面特性，更具体地涉及连续检测移动试样表面的表面特性。
背景技术
[0002]
造纸时工艺用水、精制纸浆和其它添加物相结合而确定成品纸的理想特性。这些混合物覆盖在形成纸的网筛上并让水分离，然后纸移动通过用于除去纸中水分的不同的工序和机械。纸干燥以后，在辊筒之间运行以产生理想的平滑度。这道工序可称为纸的砑光。更多次地将纸砑光，其体积就更小但纸的光洁度更高。为了制造蜡光纸，无涂层纸可以涂上一层漆状产品并在非常高的压力下用辊磨光，以产生光亮的外观。这道工序可以称为超级砑光。在印刷工序中，可以施加一层附加的清漆，以提供一个光泽的纸面。这层光泽表面也可保护纸免于周围环境的影响。在各种制造过程中一个连续的卷筒纸迂回地通过压机设备。压辊和压机用来在各种制造工序之间移动纸。
[0003]
为确保纸面得到了正确的光泽量，用传感器测量试样表面的光泽。参见图1A，传感器100A可有用于提供光束104A去照射通过线处的试样表面106A的光源102A。光束104A被试样表面106A反射。反射光的强度用光检测器108A测量。反射光由光检测器108A的光检测表面110A测量来确定反射光的光强度。光泽度由确定的反射光束强度与照射光束强度之比来计算。反射光的强度与已知的各种光泽度试样表面的强度值进行比较。
[0004]
参见图1B，当纸顺着制造过程移动时，由于制造过程中使用的设备、敷料器和其它机械传递的振动，卷筒纸的试样表面106B可能颤动或波动。这种颤动或波动致使试样表面106B移动到新的试样表面位置112B。由于光泽度传感器系统的光学布置可能要求非常精密的几何关系才能以正确的方式工作，所以试样表面106B的移动会引起光泽度测量的误差。
[0005]
参见图1C，当纸顺着制造过程移动时，由于卷筒纸在横向和纵向的移位卷筒纸的试样表面106C可能倾斜和/或翘曲。倾斜可能引起试样表面106C移位到一个新的试样表面角度112C。这对于在线测量应用可能成问题。试样表面106C的倾斜可引起测量的光泽度误差。光泽度测量的光学布置会引起不确定的传感器响应。光学系统可能要求非常精密的几何体系。光源102C可将光束104C从试样表面106C精确地反射进光检测器108C的检测表面110C。
[0006]
如果试样表面106B、106C移动或倾斜，反射光线的某些部分可能失去，测量的信号就会不确定。现今的技术发展水平可保证实验室环境中的精密测量，在该场合试样位置能容易控制，但是如上说明，在制造环境中就不容易获得这样的控制。
[0007]
在纸和板材的制造中，与接触卷筒纸的传感器技术相比，非接触测量原理可能更可取。此外，如机械式纸张稳定器那样的卷筒纸稳定技术也不可取。例如，使用机械式纸张稳定器可能在产品表面造成划痕。由于这样的划痕，在某些应用场合就不可能使用纸张稳定器。此外，由于要与移动的卷筒纸相擦，纸张稳定器可能导致容易增加灰尘和污垢的问题。卷筒纸和卷筒纸板的横向断面可有多种偏离直线的类型，例如基本横向断面能在许多不同方向翘曲。由于纸的翘曲或划痕，对在线光泽度测量来说卷筒纸的最佳位置很难实现，有时不能得到保证。
[0008]
因此，需要一个快速有效的设备、方法和系统来检测试样表面的表面特性。此外，该系统和方法为检测移动试样表面的表面特性创造了条件。
发明内容
[0009]
因此，本发明的一个目的是为检测纸面处于稳定或移动状态的倾斜试样纸面的表面特性提供设备、系统和方法。按照本发明的一个示范性实施例，该设备可有一个移动试样表面的输送装置，也可有一个从试样表面反射光束的光源和一个用于连续光检测的带有光检测表面的光检测器。可用透镜来接收从试样表面反射的光束并将光束聚焦到光检测器的光检测表面。透镜前的光束面积可以不等于透镜接收表面的面积。基准分析器可根据接收到的反射光与已知试样表面的已知反射光值的比较来确定被分析表面的光学性质。
[0010]
在一个备选实施例中，被聚焦的光束面积可大于光检测表面的面积并且基准分析器的比较可基于检测表面的面积。在另一个实施例中，被聚焦的光束面积可小于光检测表面的面积并且基准分析器的比较可基于透镜前被聚焦的光束面积。在另一个实施例中，基准分析器可确定光泽度、光泽度偏差、闪耀斑点尺寸或各种斑点尺寸的数量。在另一个实施例中，光检测器可以是电荷耦合器件(CCD)相机、电荷耦合器件(CCD)阵列、互补金属氧化物半导体(CMOS)相机、互补金属氧化物半导体(CMOS)阵列、光电二极管阵列或光电二极管。在再一个实施例中，基准分析器可比较接收到的反射光强度与各种已知试样表面的已知反射光强度值。
[0011]
按照本发明的一个示范性实施例，该方法涉及以下的步骤。试样表面可顺着加工工序在倾斜面上输送。光束发射到试样表面并从试样表面反射出去。由试样表面反射的光束聚焦到光检测器的光检测表面。透镜前的光束面积与透镜接收表面的面积不相等。光束由透镜连续聚焦到光检测器的光检测表面。光学表面性质由接收到的反射光束与各种已知试样表面的已知反射光值的比较而确定。
附图说明
[0012]
结合附图研读随后的详细说明，本发明的以上及其它目的和优点是显而易见的。在这些附图各处同样的标记涉及同样的部件，其中：
[0013]
图1A为现有技术的光泽度传感器的一般示意图。
[0014]
图1B为现有技术的光泽度传感器的一般示意图，试样纸面在通过线上有颤动和波动。
[0015]
图1C为现有技术的光泽度传感器的一般示意图，试样纸面在通过线上倾斜。
[0016]
图2A为用于实现本发明的示范性光源实施例的传感器的一般示意图。
[0017]
图2B为用于实现试样纸面在通过线上有颤动和波动的本发明的示范性光源实施例的传感器的一般示意图。
[0018]
图2C为用于实现试样纸面在通过线上倾斜的的本发明示范性光源实施例的传感器的一般示意图。
[0019]
图3为说明用来实现本发明光源实施例的传感器的示范性方法的流程图。
[0020]
图4A为用于实现本发明的示范性光检测器实施例的传感器的一般示意图。
[0021]
图4B为用于实现试样纸面在通过线上有颤动和波动的本发明示范性光检测器实施例的传感器的一般示意图。
[0022]
图4C为用于实现试样纸面在通过线上倾斜的本发明示范性光检测器实施例的传感器的一般示意图。
[0023]
图5为说明用来实现本发明的光检测器实施例的传感器的示范性方法的流程图。
具体实施方式
[0024]
用一个传感器来测量试样纸面的光泽度，其方法是将光束对准试样纸面并用电子方式比较试样表面的反射系数和已知光泽度的标准化表面的反射系数。根据本发明的一个示范性光源实施例，照射试样表面的光束的面积可大于由光检测器接收并检测的光束的面积。试样表面的被照射面积大于光检测器所见的面积。试样表面的被照射面积大于光检测器所见的测量面积。这种配置允许试样表面在预定的几何界限内改变其位置。当试样表面移动时，光检测器的测量面积保持在被照射面积内。光检测器接收到的反射光强度与各种光泽度试样表面的已知强度值基于该光检测器的面积进行比较。
[0025]
按照一个示范性光检测器实施例，用窄光束来照射试样表面并反射到光检测器。试样表面的被照射面积小于光检测器所见的面积。试样表面的被照射面积小于光检测器所见的测量面积。这种配置允许试样表面在几何界限内改变其位置。当试样表面移动时，光束的测量面积保持在光检测器的检测面积内。光检测器接收到的反射光强度与各种光泽度试样表面的强度已知值基于光束面积进行比较。这里叙述的各种实施例可遵照各种已知标准，例如，纸浆和造纸工业技术协会(TAPPI)标准以及其它已知的工业和政府标准。
[0026]
按照一个示范性透镜实施例，光束可照射试样表面并反射到光检测器。试样表面的被照射面积可校准为小于光检测器所见面积的光束。试样表面的被照射面积可校准为大于光检测器所见面积的光束。这种配置允许试样表面在几何界限内如先前在光检测器和光源实施例中叙述过的相似方式改变其位置。当试样表面移动时，光束的测量面积保持在光检测器的检测面积内。光检测器接收到的反射光强度与各种光泽度试样表面的强度已知值分别基于光束的面积或光检测器的面积进行比较。
[0027]
参见图2，传感器200A可以包括提供光束204A去照射通过线上的试样纸面206A的光源202A。光源202A提供光束204A，其面积大于光检测器208A的光检测表面210A。光源202A提供一个聚焦光束或准直光束例如用激光或其它提供聚焦光束的方法。光源202A可以是各种电磁能源，例如，光源可发射光能的非可见波长以防止制造过程中由顶灯照明或其它光源的干扰。
[0028]
试样表面206A可以是制造或加工过程中处理的各种材料。例如，试样表面206A可以是卷筒纸或纸板材。卷筒纸用各种辊筒、压机和其他机械在整个制造过程中连续移动。试样表面206A不限于卷筒纸。试样表面206A可以是在输送带或纸张传送设备上前移的单片纸张。
[0029]
传感器200A提供试样表面的精密测量而无需稳定或可减少对稳定的需求。光束204A由试样表面206A反射。反射光的强度用光检测器208A测量。反射光由光检测器208A的光检测表面210A测量以确定反射光束204A的光强度。光检测表面210A可确定由光检测器208A所见的面积。测量的几何条件和光学系统受工业标准管制，例如，纸浆和纸工业技术协会(TAPPI)T480。
[0030]
光检测表面210A将光束204A转换为电流。光检测表面210A可以由各种器件组成，例如，电荷耦合器件(CCD)相机、电荷耦合器件(CCD)阵列、互补金属氧化物半导体(CMOS)相机、数字互补金属氧化物半导体(CMOS)成像或光电二极管。光检测器208A可以是一个连续检测装置，例如摄像机。光检测器208A产生的信号可以是模拟量或转换为处理用的数字信号。光检测器208A的信号供给基准分析仪(未图示)。
[0031]
参见图2B，当纸顺着制造过程移动时，卷筒纸的试样表面206B由于卷筒纸的横向和纵向移位可能倾斜、颤动和波动。传感器200B具有光源202B，用于提供光束204B照射通过线上的试样表面206B。光源202B提供光束204B，其面积大于光检测器208B的光检测表面210B。传感器200B提供试样表面的精密测量而无需稳定或可减少对稳定的需求。光束204B被试样表面206B反射，反射光的强度用光检测器208B测量。反射光由光检测器208B的光检测表面210B测量以确定反射光束204B的光强度。试样表面206B移位到新试样表面角212B不影响光泽度测量。只要光检测表面210B保持在光束面积内，基于光检测表面210B面积的检测强度就保持恒定。
[0032]
参见图2C，当纸顺着制造过程移动时，由于卷筒纸中横向和纵向的移动卷筒纸的试样表面206C可能倾斜和/或翘曲。传感器200C具有光源202C，用于提供光束204C照射通过线上的试样表面206C。光源202C提供光束204C，其面积大于光检测器208C的光检测表面210C。传感器200C提供试样表面的精密测量而无需稳定或可减少对稳定的需求。光束204C从试样表面206C反射出来。反射光的强度用光检测器208C测量。反射光由光检测器208C的光检测表面210C测量以确定反射光束204C的光强度。试样表面206C倾斜到新的试样表面角212C不影响光泽度测量。只要光检测表面保持在光束的面积，基于光检测表面210C面积的检测强度也就保持恒定。
[0033]
基准分析仪将光检测器210收到的信号强度与各种光泽度试样表面已知的强度值进行比较。就硬件而言，基准分析仪可以包括处理器、存储器和一个或多个输入与输出接口器件。本地接口可以有为简化省略图示的附加元件，例如控制器、缓冲器(高速缓冲存储器)、驱动器、中继器和允许通信的接收器。此外，本地接口可以包括地址、控制和/或能在网络部件中适当通信的数据连接。
[0034]
基准分析仪可以通过确定反射光束强度与来自光源202的照射光束强度之比来确定试样表面206的光泽度。由试样表面206分散的光量用来确定试样表面206的光泽度。基准分析仪可用所存储的表格或方程式计算试样表面206的光泽度。该光泽度通过将光的强度与已知试样光泽度表的光泽度强度相比较来确定。
[0035]
这些系统和方法也可结合到计算机或基准分析仪的其它适合的运算装置使用的软件中去。基准分析仪也可包括图形用户界面(GUI)，允许程序管理员或使用者进入、观看和储存光泽度或输入与理想的光泽度相联系的约束条件以控制制造过程的其它设备。
[0036]
参见图3，该流程图示出用于实现本发明的光源实施例300的传感器的示范性方法。在制造过程中，试样表面206向前移动到传感器200的通过线(步骤302)。光源202将光束204对准试样表面206(步骤304)。光束204由试样表面206反射(步骤306)。
[0037]
试样表面反射的光束在光检测器208的光检测表面210上检测(步骤308)。光检测表面210的面积小于光束204的面积。这就允许试样表面206在指定的几何尺度内颤动或倾斜。指定的几何尺度由光束204的面积相对于光检测表面210上的检测面积控制。增加光束204的面积可以增加试样表面206到试样表面的新位置212所允许的移动量。通常，光束204的面积是圆的，然而，本发明可使用各种形状的光束204或光检测表面210的面积。例如，光束204可以是一个圆而光检测表面208可以是宽度大于光束204直径的方形。基准分析仪通过比较从光检测表面210的面积上接收到的反射光与基于光检测表面210面积的已知试样表面的已知反射光值来确定试样表面206的光泽度(步骤310)。
[0038]
参见图4A，传感器400A可以有提供光束404A去照射通过线上的试样表面406A的光源402A。光源402A提供光束404A，其面积小于光检测器408A的光检测表面410A。如先前关于示范性光检测器实施例所叙述的，光源402A提供一个聚焦光束404A。如先前关于示范性光源实施例所述，试样表面406A也可以是各种材料。
[0039]
传感器400A可提供对试样表面406A的精密测量而无需稳定或可减少对稳定的需求。光束404A从试样表面406A反射。该反射光的强度用光检测器408A测量。该反射光由光检测器408A的光检测表面410测量以确定反射光束404A的光强度。光检测表面410A可确定光检测器408所见的面积。
[0040]
如先前关于示范性光源实施例所叙，光检测表面410A用各种光检测元件将光束404A转换成电流。光检测器408A的信号供给基准分析仪(未图示)。基准分析仪将由光检测器410A接收到的信号强度与各种光泽试样表面的已知强度值比较。就硬件而言，该基准分析仪与先前叙述的示范性光源实施例的基准分析仪相似。
[0041]
参见图4B，当纸顺着制造过程移动时，由于卷筒纸在横向和纵向的移动，它的试样表面406B可能偏移、颤动和波动。传感器400B有一个提供光束404B照射通过线上的试样表面406B的光源402B。光源402B提供光束404B，其面积小于光检测器408B的光检测表面410B。传感器400B可提供对试样纸面的精密测量而无需稳定或可减少对稳定的需求。光束404B从试样表面406B反射。反射光的强度用光检测器408B测量。反射光由光检测器408B的光检测表面410B测量以确定反射光束404B的光强度。试样表面406B移动到新的试样表面角412B，不会影响光泽度测量。只要光束404B保持在光检测表面410B的面积内，基于光束404B的面积的检测强度将保持恒定。
[0042]
参见图4C，当纸顺着制造过程移动时，由于卷筒纸在横向和纵向的移动，该卷筒纸的试样纸面406C可能倾斜和/或翘曲。传感器400C有一将光束404C照射到通过线上的试样表面406C的光源402C。光源402C提供光束404C，其面积小于光检测器408C的光检测表面410C。传感器400C提供试样表面的精密测量而不需要稳定或可减少对稳定的需要。光束404C从试样表面406C反射。反射光的强度用光检测器408C测量。反射光由光检测器408C的光检测表面410C测量以确定反射光束404C的光强度。试样表面406C倾斜到新的试样表面角412C并不会影响光泽度测量。只要光束404C保持在光检测表面410C的面积内，基于光束404C面积的检测强度将保持恒定。
[0043]
基准分析仪可以通过确定反射光束强度与来自光源408的照射光束强度之比来确定试样表面406的光泽度。由试样表面406分散的光量用来确定试样表面406的光泽度。基准分析仪可，用存储的表格或方程式计算试样表面406的光泽度。该光泽度通过将光强度比与已知试样光泽度表的光泽度强度相比较而确定。
[0044]
参见图5，其中示出了一个用于实现本发明的光检测器实施例400的传感器的示范性方法的流程图。制造过程中，试样表面406向前移动到传感器400的通过线(步骤502)。光源402将光束404对准到试样表面406(步骤504)。光束404由试样表面406反射(步骤506)。
[0045]
试样表面406反射的光束404在光检测器408的光检测表面410上被检测(步骤508)。光检测表面410的面积大于光束404的面积。这就允许试样表面406在指定的几何尺度内颤动或倾斜。指定的几何尺度由光束404的面积相对于光检测表面410上的检测面积控制。增加光检测表面410的面积可以增加试样表面406到试样表面的新位置412所允许的移动量。基准分析仪基于光束404的面积，通过比较从光检测表面410收到的反射光与已知试样表面的已知反射光值来确定试样表面406的光泽度(步骤510)。
[0046]
当然，前面所述的仅仅是本发明的说明性原理，但本领域技术人员能够作出不脱离本发明范围和精神的各种变换。因此，这样的实施例会被认为属于本发明的范围。例如，这些示范性实施例描绘为用来确定试样表面的光泽度，然而，本领域技术人员当知本发明的实施例可以各种其它的表面特性来实施。
[0047]
本领域技术人员也将意识到本发明也能用所述实施例以外的方式实施，所描述的实施例是为了说明而不是限制的目的，本发明仅由后附的权利要求书限定。

Claims (7)

1.一种检测倾斜的试样表面的表面特性的装置，包括：
用于移动试样表面(206、406)的传送装置；
用于从试样表面反射光束的光源(202、402)；
用于连续光检测的具有光检测表面(210、410)的光检测器(208、408)；
用于接收试样表面反射的光束并将光束聚焦到所述光检测器的光检测表面上的透镜，其中所述透镜前的光束面积不等于所述透镜接收表面的面积；
将所接收到的反射光与已知试样表面的已知反射光值作比较来确定光学表面质量的基准分析仪。
2.如权利要求1所述的装置，其中，被聚焦光束的面积大于所述光检测表面的面积，且所述基准分析仪的比较基于所述检测表面的面积进行。
3.如权利要求1所述的装置，其中，被聚焦光束的面积小于所述光检测表面的面积，且所述基准分析仪的比较基于透镜前被聚焦光束的面积进行。
4.如权利要求1所述的装置，其中，所述基准分析仪确定以下各项之一：光泽度、光泽度偏差、闪耀斑点尺寸和斑点尺寸数量。
5.如权利要求1所述的装置，其中，所述光检测器选自包含以下各项的组：电荷耦合器件(CCD)相机、电荷耦合器件(CCD)阵列、互补金属氧化物半导体(CMOS)相机、互补金属氧化物半导体(CMOS)阵列和光电二极管阵列。
6.如权利要求1所述的装置，其中，所述试样表面是移动的卷筒纸的表面。
7.如权利要求1所述的装置，其中，所述基准分析仪将所接收的反射光的强度与已知试样表面的已知反射光强度值进行比较。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102575985A (zh) * 2009-10-08 2012-07-11 Vtt技术研究中心 用于确定物品及其表面的特性的测量仪器和方法
CN110146040A (zh) * 2019-06-14 2019-08-20 李筱穗 一种非接触式带钢板形仪
CN114809073A (zh) * 2021-02-09 2022-07-29 北京住总集团有限责任公司 一种智能调平系统及方法
CN114837222A (zh) * 2021-02-09 2022-08-02 北京住总集团有限责任公司 一种基于自重的地下柱体施工方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7619740B2 (en) * 2007-10-11 2009-11-17 Honeywell International Inc. Microgloss measurement of paper and board
JP2014044157A (ja) * 2012-08-28 2014-03-13 Ricoh Co Ltd 光学センサ及び画像形成装置
US9612213B2 (en) 2014-05-08 2017-04-04 Honeywell Asca Inc. Automatic z-correction for basis weight sensors
CN105444703A (zh) * 2015-12-23 2016-03-30 广东长盈精密技术有限公司 平面度检测装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3636361A (en) * 1970-05-28 1972-01-18 Kenneth Bowers Radiation-sensitive glossmeter with means to compensate for environmental contaminants
CA1014638A (en) * 1974-04-16 1977-07-26 Domtar Limited Measuring the surface roughness of a moving sheet material
CA1222319A (en) * 1985-05-16 1987-05-26 Cip Inc. Apparatus for analysing the formation of a paper web
FI78356C (fi) 1985-09-16 1989-07-10 Puumalaisen Tutkimuslaitos Oy Metod foer maetning av fuktighet.
US4830504A (en) 1987-06-24 1989-05-16 Measurex Corporation Gloss gauge
US4945253A (en) 1988-12-09 1990-07-31 Measurex Corporation Means of enhancing the sensitivity of a gloss sensor
US5066865A (en) * 1989-09-01 1991-11-19 Measurex Corporation Single sided reflectance sensor for measuring select physical properties of a material using one or more wavelengths of radiation
US5229835A (en) * 1991-08-07 1993-07-20 Hughes Aircraft Company Optical monitoring
US6437867B2 (en) 1996-12-04 2002-08-20 The Research Foundation Of The City University Of New York Performing selected optical measurements with optical coherence domain reflectometry
DE69733430T2 (de) 1996-12-04 2006-07-06 The Research Fondation of City University of New York System und verfahren zum ausführen von bestimmten optischen messungen
US6031620A (en) 1997-05-01 2000-02-29 Impact Systems, Inc. Gloss sensor resistant to tilting and shifting paper and with improved calibration
US6233053B1 (en) 1997-07-29 2001-05-15 Honeywell International Inc Dual standard gloss sensor
US5991046A (en) * 1998-07-14 1999-11-23 Valmet Automation Inc. Method and apparatus for optically measuring properties of a moving web
ATE268001T1 (de) 1999-06-28 2004-06-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und vorrichtung zur messung der schichtdicke
GB9921826D0 (en) 1999-09-15 1999-11-17 Rhopoint Instrumentation Limit Glossmeter
US6858436B2 (en) 2002-04-30 2005-02-22 Motorola, Inc. Near-field transform spectroscopy
JP4454914B2 (ja) * 2002-07-08 2010-04-21 キヤノン株式会社 映像読取装置及び画像形成装置
US7291856B2 (en) * 2005-04-28 2007-11-06 Honeywell International Inc. Sensor and methods for measuring select components in moving sheet products

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102575985A (zh) * 2009-10-08 2012-07-11 Vtt技术研究中心 用于确定物品及其表面的特性的测量仪器和方法
CN102575985B (zh) * 2009-10-08 2015-10-14 弗科斯派克有限公司 用于确定物品及其表面的特性的测量仪器和方法
CN110146040A (zh) * 2019-06-14 2019-08-20 李筱穗 一种非接触式带钢板形仪
CN114809073A (zh) * 2021-02-09 2022-07-29 北京住总集团有限责任公司 一种智能调平系统及方法
CN114837222A (zh) * 2021-02-09 2022-08-02 北京住总集团有限责任公司 一种基于自重的地下柱体施工方法
CN114809073B (zh) * 2021-02-09 2024-02-27 北京住总集团有限责任公司 一种智能调平系统及方法
CN114837222B (zh) * 2021-02-09 2024-05-28 北京住总集团有限责任公司 一种基于自重的地下柱体施工方法

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