CN101311384B - CuTe单晶纳米带及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及CuTe单晶纳米带,特别涉及一种用电化学沉积制备CuTe单品纳米带的方法。以Te的化合物和Cu盐为主要原料,以氨水为介质,以Pt片、饱和甘汞电极分别作对电极和参比电极,以导电玻璃或金属片(如Cu片)为工作电极,通过电化学分析仪给工作电极加上一定的电位,恒定温度下反应一段时间后,在工作电极上得到大量的CuTe单晶纳米带。CuTe单晶纳米带的厚度为10~100nm;宽度为100~800nm;长度几微米。所述的CuTe单晶纳米带为正交结构,沿[010]方向择优生长。
Description
技术领域
本发明涉及CuTe单晶纳米带,特别涉及一种用电化学沉积制备CuTe单晶纳米带的方法。
背景技术
一维纳米结构材料(包括纳米线、纳米棒、纳米管和纳米带)因其特殊结构而具有许多新颖性质,在构建纳米电子和光电子器件方面有着广泛的应用前景,同时还可以借以对一些基本物理概念进行研究。因此,一维纳米结构材料的制备和应用研究已经成为材料、物理和化学领域近年来最热门的研究课题之一。其中,自从2001年硅纳米带和半导体氧化物纳米带发现以来,对半导体纳米带的研究就引起了人们极大的兴趣(W.S.Shi,H.Y.Peng,N.Wang,C.H.Li,L.Xu,C.S.Lee,R.Kalish,S.T.Lee,J.Am.Chem.Soc.,2001,123,11095~11096;Z.W.Pan,Z.R.Dai,Z.L.Wang,Science,2001,291,1947~1949.)。研究者们使用多种方法,包括热蒸发法、溶液法、水热法,成功地制备了多种半导体纳米带。并且,在过去的几年里,单根半导体纳米带已经被用作基本结构单元制备各种纳米器件,如气体传感器、微腔激光、场效应晶体管、光波导、共鸣器、悬臂和纳米发电机等。
碲化铜具有热导性、离子电导以及在多种器件中的应用前景,如在太阳能电池、超离子导体、光探测器、光热转换、电导电极、微波屏蔽涂层和光存储等方面得到应用。以往的研究主要是基于碲化铜的块体材料以及薄膜。由于纳米材料的小的尺寸、大的比表面积和特殊的形貌在保持材料原有性能的同时,还可能产生一些特殊的性能,近来人们开始了对碲化铜纳米结构的研究,并且用溶剂热法、微波辅助元素反应法和超声化学法制备了碲化铜纳米颗粒(B.Li,Y.Xie,J.X.Huang,H.L.Su and Y.T.Qian,J.Solid State Chem.,1999,146,47-50;Y.Zhang,Z.P.Qiao,X.M.Chen,J.Mater.Chem.,2002,12,2747~2748;B.Li,Y.Xie,J.X.Huang,Y.Liu,Y.T.Qian,Chem.Mater.,2000,12,2614~2616.)。纳米带作为一种很重要的纳米结构是制备新型纳米器件的选择,然而至今为止碲化铜的纳米带还没有被制备出来。
发明内容
本发明的目的是提供CuTe单晶纳米带。
本发明的再一目的是提供用电化学沉积制备CuTe单晶纳米带的方法。
本发明的CuTe单晶纳米带的厚度为10~100nm,宽度为100~800nm,长度为1~10μm。
所述的CuTe单晶纳米带为正交结构,沿[010]方向择优生长。
本发明的CuTe单晶纳米带的制备方法包括以下步骤:
1)电解质溶液的配制:在反应容器中,将Te的化合物和Cu盐溶解于热的氨水溶液中,Te的化合物和Cu盐的摩尔比为20∶1~200∶1,搅拌,使Te的化合物和Cu盐完全溶解得到透明澄清的电解质溶液,将电解质溶液倒入电解池中;
2)恒电位电化学沉积:电沉积过程在标准三电极体系中进行,以Pt片、饱和甘汞电极分别作对电极和参比电极,以导电玻璃或金属片(如Cu片)为工作电极,用水浴维持步骤1)电解质溶液的温度为60~90℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-0.6~-1.6V的电位进行反应,优选给工作电极施加相对于参比电极为-0.8~-1.2V的电位;反应时间为10~180分钟,优选反应时间为30~120分钟,在工作电极上得到大量的CuTe单晶纳米带。
步骤1)所述的氨水的摩尔浓度为0.3~3M。
步骤1)所述的热氨水的温度为40~60℃。
步骤1)所述的Te的化合物的浓度为5~50mM。
步骤1)所述的的Cu盐的浓度为0.1~1mM。
所述的Te的化合物为TeO2、Na2TeO3或K2TeO3;Cu盐为CuSO4、CuCl2或Cu(NO3)2。
本发明以Te的化合物和Cu盐为主要原料,电化学沉积过程在标准三电极体系中进行,以氨水作为介质,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作对电极和参比电极,以导电玻璃或金属片(如Cu片)为工作电极,通过电化学分析仪给工作电极加上一定的电位,恒定温度下反应一段时间后,在工作电极上得到大量的CuTe单晶纳米带。
附图说明
图1.本发明实施例1的CuTe单晶纳米带的低倍(a)和高倍(b)SEM照片。
图2.本发明实施例1的CuTe单晶纳米带的TEM照片(a)和EDS能谱(b)。
图3.本发明实施例1的CuTe单晶纳米带的HRTEM照片(a)及SAED图(b)。
具体实施方式
实施例1.
在容器中,配制TeO2浓度为5mM、CuSO4浓度为0.2mM、氨水浓度为0.5M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为80℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-1.0V的电位,反应30分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带。CuTe单晶纳米带的形貌如图1的SEM照片和图2(a)的TEM照片所示,纳米带的厚度约30nm,宽度约400nm,长度1~3μm;能谱(图2(b))表明纳米带由Cu和Te两种元素组成;HRTEM(图3(a))和SAED(图3(b))表明纳米带为正交结构单晶,沿[010]方向择优生长。
实施例2.
在容器中,配制TeO2浓度为10mM、CuSO4浓度为0.1mM、氨水浓度为1M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为85℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-0.9V的电位,反应60分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带纳米带的厚度约50nm,宽度约500nm,长度2~6μm。
实施例3.
在反应容器中,配制Na2TeO3浓度为10mM、CuCl2浓度为0.5mM、氨水浓度为2M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为75℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-0.8V的电位,反应30分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约20nm,宽度约400nm,长度1~3μm。
实施例4.
在反应容器中,配制K2TeO3浓度为20mM、Cu(NO3)2浓度为1mM、氨水浓度为1M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为70℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-1.1V的电位,反应60分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约50nm,宽度约500nm,长度2~6μm。
实施例5.
在反应容器中,配制TeO2浓度为20mM、Cu(NO3)2浓度为0.3mM、氨水浓度为0.5M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为90℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-0.9V的电位,反应120分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约100nm,宽度约800nm,长度3~10μm。
实施例6.
在反应容器中,配制Na2TeO3浓度为50mM、CuSO4浓度为0.2mM、氨水浓度为3M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以ITO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为80℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-0.8V的电位,反应60分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约70nm,宽度约600nm,长度2~5μm。
实施例7.
在反应容器中,配制TeO2浓度为5mM、CuSO4浓度为0.2mM、氨水浓度为0.3M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以Cu片为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为80℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-1.2V的电位,反应60分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约80nm,宽度约600nm,长度2~7μm。
实施例8.
在反应容器中,配制TeO2浓度为40mM、Cu(NO3)2浓度为0.5mM、氨水浓度为0.5M的水溶液,加热使溶液的温度为40~60℃,搅拌使固体物质完全溶解,得到电解质溶液。将适量电解质溶液倒入电解池中,以Pt片和饱和甘汞电极(SCE)分别作为对电极和参比电极,以FTO玻璃为工作电极。用水浴控制反应体系的温度为60℃,通过电化学分析仪给工作电极施加相对于参比电极为-1.0V的电位,反应30分钟,在工作电极上得到黑色薄膜,即为产物CuTe单晶纳米带,纳米带的厚度约50nm,宽度约500nm,长度1~3μm。
Claims (6)
1.一种CuTe单晶纳米带,其特征是:所述的CuTe单晶纳米带的厚度为10~100nm,宽度为100~800nm,长度为1~10μm。
2.根据权利要求1所述的CuTe单晶纳米带,其特征是:所述的CuTe单晶纳米带为正交结构,单晶沿[010]方向择优生长。
3.一种根据权利要求1或2所述的CuTe单晶纳米带的制备方法,其特征是,该方法包括以下步骤:
1)电解质溶液的配制:在反应容器中,将Te的化合物和Cu盐溶解于热的氨水溶液中,Te的化合物和铜盐的摩尔比为20∶1~200∶1,搅拌,得到电解质溶液,将电解质溶液倒入电解池中;
2)恒电位电化学沉积:电化学沉积过程在标准三电极体系中进行,以Pt片、饱和甘汞电极分别作对电极和参比电极,以导电玻璃或金属片为工作电极,用水浴维持步骤1)电解质溶液的温度为60~90℃,给工作电极施加相对于参比电极为-0.6~-1.6V的电位,反应10~180分钟后在工作电极上得到CuTe单晶纳米带;
所述的Te的化合物为TeO2、Na2TeO3或K2TeO3;
所述的Cu盐为CuSO4、CuCl2或Cu(NO3)2。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征是:所述的给工作电极施加相对于参比电极为-0.8~-1.2V的电位。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征是:步骤1)所述的氨水的摩尔浓度为0.3~3M。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征是:步骤1)所述的Te的化合物的浓度为5~50mM;所述的Cu盐的浓度为0.1~1mM。
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