CN101303425A - 滤光片和具有滤光片的显示设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供滤光片和具有该滤光片的显示设备，通过防止形成重影并且减少光反射，使该滤光片具有良好的亮室对比度，并且可以使该滤光片体轻、精巧和便宜。该滤光片由一片形成，包括：防反射层，设置为滤光片的最外层；电磁波屏蔽层，设置在防反射层的后表面上；以及基膜，设置在电磁波屏蔽层的后表面上。

Description

滤光片和具有滤光片的显示设备

技术领域

本发明涉及滤光片和具有滤光片的显示设备，特别是，通过防止形成重影和减少反光，具有极好明室对比，并且可以制作成体轻、精巧和便宜的滤光片，以及具有该滤光片的显示设备。

背景技术

等离子显示设备采用各种等离子显示板的一种等离子显示板(PDP)，是利用气体放电显示图像的平板显示设备，并且与传统的阴极射线管(CRT)相比，由于其极好的显示特性例如高亮度和对比度、抵抗潜影、大视角、精巧和大屏幕尺寸，预期成为下一代大平板显示装置之一。

然而，传统的等离子显示设备由于等离子显示板的前基板和钢化玻璃滤光片之间的材料差异造成的折射而引起图像的双重反射。同样，钢化玻璃滤光片必须具有约3mm或者更大的厚度以抵抗外部冲击，由此增加了重量和成本。此外，传统钢化玻璃滤光片具有非常复杂的结构，包括具有不同功能的各种滤光片。因此，制造钢化玻璃滤光片的工艺既复杂又昂贵。

发明内容

本发明提供可以防止形成重影、提高亮室对比度、比传统技术更精巧且重量更轻的滤光片，以及具有该滤光片的显示设备。

本发明还提供低制造成本和易于制造的滤光片和具有该滤光片的显示设备。

根据本发明的一个方面，提供由一片形成的滤光片，包括：防反射层，设置在滤光片的最外面；电磁波屏蔽层，设置在防反射层的后表面上；以及基膜，设置在电磁波屏蔽层的后表面上。

防反射层可以是表面硬度增强层，其包括硬质涂敷材料且为单层。

防反射层可以是其中堆叠多个薄膜层的抗反射层，其中设置在多个薄膜层最外表面上的第一层的折射系数可以小于接触第一层的第二层的折射系数。

防反射层可以是具有预定曲线的防眩光层。

滤光片还可以包括设置在防眩光层上的硬质涂敷层。

防反射层的厚度范围可以是5.0至12.0μm，防反射层的铅笔硬度的范围可以是1H至3H，并且防反射层的霾度(haze)的范围可以是1％至10％。

电磁波屏蔽层可以包括至少一层金属层或者至少一层金属氧化物层。

电磁波屏蔽层可以包括图案化的银印制层和涂敷在银印制层上的铜涂膜。

银印制层可以由AgCl或者AgNO₃形成。

银印制层可以形成网状。

银印制层和铜涂膜可以以厚度为2至6μm的范围形成。

银印制层可以通过光刻蚀法形成在基膜上。

光敏树脂层可以涂敷在基膜上，然后可以在树脂层上执行印制法以形成银印制层。

基膜可以包括选自由聚醚砜(polyethersulphone)、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethyelenen napthalate)、聚苯二甲酸乙二醇酯(polyethyeleneterepthalate)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide)、聚丙烯(polyallylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(polycarbonate)、三醋酸纤维(cellulose triacetate)、醋酸丙酸纤维素(cellulose acetate propinonate)组成的群组中的一个。

滤光片还可以包括粘合层，其在基膜的后侧上将滤光片固定到显示设备的前表面。

粘合层可以包括选自由丙烯酸树脂(acrylic resin)、聚醚树脂(polyesterresin)、环氧树脂(epoxy resin)、聚氨酯树脂(urethane resin)和PSA(压敏粘合剂)组成的群组中的一个。

粘合层可以包括染料或颜料，以便进行颜色纠正、氖辉光阻挡或近红外线阻挡。

根据本发明的另一个方面，提供包括滤光片的显示设备，该滤光片具有至少一个上述特性，并且直接连接到显示设备的前表面。

附图说明

通过结合附图对本发明的示范性实施例进行详细描述，本发明的上述和其它特性、优点将变得更加清楚，附图中：

图1为图解本发明实施例的滤光片的构造的示意性截面图；

图2为图解本发明实施例的图1所示滤光片的防反射层的构造实例的示意性截面图；

图3为图解本发明另一个实施例的图1所示防反射层的另一个构造实例的示意性截面图；

图4为图解本发明另一个实施例的图1所示防反射层的另一个构造实例的示意性截面图；

图5A至图6图解了采用传统的刻蚀法制造图1所示滤光片的电磁波屏蔽层的方法；

图7A至图8图解了根据本发明实施例采用曝光和涂敷法形成图1所示滤光片的电磁波屏蔽层的方法；

图9A至图10图解了根据本发明实施例采用印制法形成图1所示电磁波屏蔽层30的方法；

图11为根据本发明实施例具有图1所示滤光片的等离子显示设备的分解透视图；和

图12为沿着图11的XII-XII线剖取的截面图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行更加全面的描述，在附图中展示了本发明的示范性实施例。

图1为图解本发明实施例的滤光片50的构造的示意性截面图。

参照图1，本发明的一个实施例的滤光片50形成为一片，包括：防反射层10，设置为滤光片50的最外层；电磁波屏蔽层30，设置在防反射层10的后侧上；基膜20，设置在电磁波屏蔽层30的后侧上；以及粘合层40，设置在基膜的后侧上，以便将滤光片50连接到等离子显示设备的前侧上。

“多片型滤光片”具有两个或更多个功能膜，该些功能膜由包括防反射膜、防眩光膜和电磁波屏蔽膜(EMI)的一组功能膜中选择。每个功能膜具有基膜和形成在该基膜上的功能层，并且一个功能膜通过粘合层贴合在另一个功能膜上。然而，根据本发明的“一片型滤光片”包括仅一片基膜，并且两个或更多个功能层形成在该基膜上。

防反射层10防止由滤光片50的前侧入射光的反射引起的滤光片50的亮室对比度变坏。防反射层10可以包括单面硬度增强层、抗反射层和/或防眩光层。防反射层10可以以范围为5.0至12.0μm的厚度形成。防反射层10的铅笔硬度的范围可以是1至3H，并且防反射层10的霾度范围可以是1％至10％。后面将结合图2至4对防反射层10的构造进行更加全面地描述。

电磁波屏蔽层30屏蔽对人体有害并且由具有本发明实施例的滤光片50的显示设备产生的电磁波。电磁波屏蔽层30可以由导电层(未示出)组成。就是说，电磁波屏蔽层30可以通过堆叠一个或者多个金属层或者金属氧化物层形成，或者可以形成为三层至十一层的多层结构。具体地讲，当金属氧化物层和金属层堆叠在一起时，金属氧化物层可以防止金属层氧化或者退化。同样，如果电磁波屏蔽层30形成为多层结构，则电磁波屏蔽层30的表面电阻值可以修正，并且可以控制可见光的透射率。

金属层可以由钯(Pd)、铜(Cu)、金(Au)、铂(Pt)、铑(Rh)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、锌(Zn)、钌(Ru)、锡(Sn)、钨(W)、铱(Ir)、铅(Pb)、银(Ag)或者其组合物形成。

同样，金属氧化物层可以由氧化锡、氧化铟、氧化锑、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、氧化镁、氧化硅、氧化铝、金属醇盐(metal alkoxide)、铟锡氧化物(ITO)或锑锡氧化物(ATO)等形成。

电磁波屏蔽层30可以通过溅射法、真空蒸发法、离子镀法、化学气相沉积(CVD)法或物理气相沉积(PVD)法等形成在基膜20上。

金属层或金属氧化物层具有近红外线阻挡功能以及电磁波阻挡功能。因此，可以减少由近红外线引起的周边电子器件的故障。

电磁波屏蔽层30不限于上述形状，而是可以采用导电金属(例如铜)形成网状。稍后将详细描述在基膜20上形成电磁波屏蔽层30的方法，使得电磁波屏蔽层30成为网状。

基膜20可以由能够传输可见光的材料形成，并且可以由便于运输和粘贴的柔性材料形成。

下面对基膜20的详细情况进行描述。基膜20可以由从聚醚砜(polyethersulphone(PES))、聚丙烯酸酯(polyacrylate(PAR))、聚醚酰亚胺(polyetherimide(PEI))、聚萘二甲酸乙二酯(polyethyelenen napthalate(PEN))、聚苯二甲酸乙二醇酯(polyethyeleneterepthalate(PET))、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide(PPS))、聚丙烯(polyallylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(polycarbonate(PC))、三醋酸纤维素(cellulose triacetate(TAC))、醋酸丙酸纤维素(cellulose acetate propinonate(CAP))或者其结合所组成的群组中选择的一个形成，并且优选地，可以由从PC、PET、TAC或PEN组成的群组中选择的一个形成。

基膜20可以变色为预定的颜色，从而控制整个滤光片50的可见光的透射率，例如，当基膜20为深色时，减少了可见光的透射率。此外，可以控制透射可见光的颜色。就是说，整个基膜20可以变色，以给使用者愉悦的外观，或者可以变色以增加采用本发明的实施例的滤光片50的显示设备的色度。同样，基膜20的颜色可以图案化，以对应于采用本发明的实施例的滤光片50的等离子显示板的每个子像素。然而，本发明不限于此，并且基膜20可以为了各种颜色纠正的目的以各种方式变色。

基膜20具有平板形状，并且可以具有50至500μm的厚度。然而，随着基膜20的厚度的减少，等离子显示板的防散射作用减弱，并且随着基膜20的厚度的增加，层叠工艺的效率降低。因此，基膜20优选可以具有80至400μm范围的厚度。

粘合层40将滤光片50连接到显示设备的前表面。粘合层40与等离子显示板之间的折射系数差不能超过预定值，例如1.0％，以便减少重影(doubleimage)。

粘合层40可以包括热塑性塑料或者紫外线(UV)硬化树脂，例如，可以包括选自由丙烯酸树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂(urethane resin)和压敏粘合剂(PSA)组成的群组中的一个。粘合层40可以通过浸涂、气刀涂、滚涂、线棒涂、凹板涂布(gravure coating)等形成。

粘合层40还可以包括吸收近红外线的化合物。该化合物可以是包括铜原子的树脂、包括铜化合物或者磷化合物的树脂、包括铜化合物或者硫脲衍生物(THIO urea derivative)的树脂、包括钨化合物的树脂，或者青色素化合物。

粘合层40还可以包括染料或颜料，以通过阻挡氖辉光(neon glow)提供颜色纠正。染料或颜料选择性地吸收波长为400至700nm的可见光。具体地讲，在等离子显示板中产生放电时，氖放电气体产生波长约为585nm的不希望的可见光。为了吸收这样的光，可以采用青色素(cyanine)、芳酸(squaryl)、偶氮甲碱(azomethine)、黄嘌呤(xanthine)、′Oxonol′染料或者偶氮基的颜料化合物，使得颜料化合物以精细颗粒状态分散遍及粘合层40。

图2至4为本发明另一个实施例的防反射层10的截面图。

参照图2，防反射层10可以由对可见光具有透射性的材料形成，并且可以形成为具有不同折射系数的两层或者更多层的多层结构。这里，形成为最外层的第一层11的折射系数小于接触第一层11的第二层12的折射系数。同样，控制第一层11的厚度使得从第一层的表面反射的光和从第二层12的表面反射的光彼此抵消。

例如，下面的公式1通过计算两个光之间的光程差获得，该两个光是入射在显示设备的前表面上并且从第一层11的表面反射的光和从第一层11的表面折射且通过第二层12然后从设置在第三层13或者抗反射层10后侧上的电磁波屏蔽层30的前表面反射的光。

[公式1]

$\mathrm{\δ}=\frac{2\mathrm{\π}}{\mathrm{\λ}}{n}_1{d}_1\cos \mathrm{\θ}\±\mathrm{\ψ}$

这里，δ是弧度单位的程差值，λ是入射光的波长，n₁是第一层11的折射系数，d₁是第一层11的厚度，θ是入射光的入射角，而ψ是反射相移因数(consideration value of reflection phase shift)。

在公式1中，如果ψ假定为0，当公式2和公式3都满足时，逆向反射性最小，并且产生破坏干扰。

[公式2]

$R=\frac{{(n_1^2-n_0{n}_2)}^2}{{(n_1^2+n_0{n}_2)}^2}$

这里，R是反射性(reflexibility)，n₀是空气的折射系数，而n₂是第二层12的折射系数。

[公式3]

$d_1=\frac{\mathrm{\λ}}{{4n}_1}$

因此，根据从公式2变形得到的公式4，设计者确定n₁，使得R的值尽可能接近于0。

[公式4]

$n_1=\sqrt{n_0{n}_2}$

如上所述，在确定n₁后，折射系数接近于n₁值的材料选择为形成第一层11的材料。

然后，第一层11的厚度d₁通过替换公式3中的n₁值和可见光的中心波长值(λ＝550nm)来确定。

通过上述方法不仅可以确定反射性R变为最小的第一层11的折射系数和形成第一层11的材料，而且可以确定第一层11的厚度d₁。

在上面的计算中，采用可见光的中心波长值来确定第一层11的厚度d₁。然而，本发明不限于此。设计者可以根据需要替换所需光带的可见光的波长值，从而可以确定第一层11的厚度d₁。

另一方面，图2中的防反射层10的厚度可以实际上对应于第三层13的厚度。第一层11和第二层12的厚度可以是第三层13的厚度的十分之一。

参照图3，防反射层10’可以在其顶表面上形成有具有预定曲线的防眩光层15。这里，入射光被漫射、反射和散射，并且可以显著减少入射到在显示设备前侧凝视的使用者眼睛的反射光量。硬质涂敷层(未示出)还可以形成在防眩光层15的表面上。

参照图4，防反射层10”可以是图2和3的防反射层10和10’的组合层。防反射层10”可以形成这样的形式，其中防眩光层15连接到第一层11、第二层12和第三层13的后表面。当防反射层10”形成为如图4所示时，可以获得由图2和3的防反射层10和10’引起的减少反射效果。因此，可以显著提高显示设备的防反射作用和亮室对比度。

除了图2至图4所示的防反射层10、10’和10”的形式外，防反射层可以仅由表面硬度增强层形成，该表面硬度增强层是包括硬质涂敷材料的硬质涂敷层。同样，防反射层可以是图2至图4的防反射层10、10’和10”及表面硬度增强层的复合层，或者可以是这样的层，其中图2的第一层11、第二层12和第三层13是表面硬度增强层。

同样，因为本发明的一个实施例的滤光片由一片组成，简化了形成显示设备的工艺。

在具有上述结构的滤光片50中，相对于可见光的透射率的范围可以是20.0％至90.0％。滤光片50的霾度的范围可以是1.0％至15.0％。

现在，将参照图5A至图5H来描述采用传统刻蚀方法制造网状电磁波屏蔽层30的方法。粘合层3涂敷到基膜20的表面(见图5A)，并且薄铜膜4层叠在其上(见图5B)。然后，光致抗蚀剂层5形成在薄铜膜4上(见图5C)，并且采用设计有预定图案的图案化掩模，在光致抗蚀剂层5上辐射紫外线(见图5D)，然后显影光致抗蚀剂层5(见图5E)。在光致抗蚀剂是正性类型的情况下，光致抗蚀剂层5的曝光部分被显影。在光致抗蚀剂是负性类型的情况下，光致抗蚀剂层5的未曝光部分被显影。

接下来，用刻蚀剂刻蚀其上没有形成光致抗蚀剂层5的薄铜膜4(见图5F)，并且去除光致抗蚀剂层5以形成由Cu形成的网状图案4a(见图5G)。然而，由Cu形成的薄铜膜4通常形成为厚度为10至20μm的厚膜，并且因此在刻蚀薄铜膜4时，由刻蚀剂引起的微小不平坦在基膜20的表面上形成。因此，由于不平坦外部光被散射，从而，引起模糊现象(hazy phenomenon)。因此，为了弥补模糊现象，能够防止散射的试剂应当涂敷在基膜20的表面上。然而，通过刻蚀薄铜膜4形成的网状图案4a形成矩形形状。同样，存在这样的问题，其中用于防止散射的试剂没有有效地涂敷到网状图案4a和基膜20所形成的拐角部分。

参照图6，通过执行一次涂敷工艺形成的防反射层7形成的厚度范围通常在5.0至12.0μm。相反，网状图案4a形成的厚度范围通常在10.0至12.0μm，并且因此，难于控制网状图案4a的厚度为很薄。因此，即使通过执行一次涂敷工艺控制防反射层7的厚度为很厚，也不能完美地再造(perfectly reclaimed)网状图案4a。为了完美地再造网状图案4a，防反射层7应当涂敷两次，或者应当刻蚀网状图案4a。当采用上述方法制造电磁波屏蔽层时，由于薄铜膜4的尺寸特性，电磁波屏蔽层可能形成为每一个具有独有的尺寸。因此，随着滤光片50的尺寸的变化(例如，随着滤光片50的尺寸的增加)，用于调整合适产量的制造成本会增加。

为了弥补上述参照图5A至图6所述的缺点，在本发明的一些实施例中，通过采用曝光和涂敷法或者通过采用印制法，使电磁波屏蔽层形成网状。

首先，将参照图7A至7D来描述通过曝光和涂敷法形成网状的电磁波屏蔽层30的方法。例如，由AgCl或AgNO₃形成的光敏银印制层16涂敷在基膜20上(见图7A)。采用形成网状的图案化掩模在光敏银印制层16上辐射紫外线(见图7B)。然后，显影光敏银印制层16(见图7C)。在光敏材料是正性类型的情况下，显影曝光部分的光敏材料，而另一方面，在光敏材料是负性类型的情况下，显影未曝光部分的光敏材料。在本发明中，可以采用两个类型中的任何一个。形成网状图案的光敏银印制层16a是不稳定的，并且因此易于被氧化。因此，在光敏银印制层16a上进行涂铜工艺。然后，涂膜17仅形成在高导电率的光敏银印制层16a上(见图7D)。光敏银印制层16a和涂膜17形成范围为2至6μm的厚度。如图1所示，为了制造防反射层10形成为滤光片50的前层的滤光片50，光敏银印制层16a和涂膜17可以由防反射层110覆盖，如图8所示。就是说，如图8所示，光敏银印制层16a和涂膜17由防反射层110覆盖，该防反射层110通常通过执行一次涂敷工艺形成，厚度范围为5至12μm。因此，如果防反射层110的厚度控制为很薄，则仅通过执行一次涂敷工艺可以完美地再造包括光敏银印制层16a和涂膜17的电磁波屏蔽层30。在当前实施例中，因为Cu层，而不是薄铜膜，用作导电层，其涂敷在光敏银印制层16a上，所以具有电磁波阻挡功能的导电层16a和17可以形成为很薄。因此，防反射层110可以仅一次涂敷，并且可以减少制造工艺的数量。同样，因为显影了薄的光敏银印制层16，所以在基膜20中不产生不平坦。同样，用于涂敷弥补由于不平坦而造成的光散射的试剂的附加工艺就没有必要了，并且因此简化了工艺步骤。此外，随着滤光片50的尺寸的变化(例如，随着滤光片50的尺寸的增加)，用于调整合适产量的制造成本也可不增加。

现在，将参照图9A至9D来描述采用印制法形成电磁波屏蔽层30的方法。

首先，光敏树脂层18形成在基膜20上(见图9A)。例如，在光敏树脂层18上由AgCl或AgNO₃形成的光敏银印制层19图案化成网状(见图9B)。如果在基膜20直接图案化光敏银印制层19，则光敏银印制层19可易于与基膜20分开。因此，首先形成光敏树脂层18。

形成网状的光敏银印制层19是不稳定的，并且因此易于被氧化。因此，在光敏银印制层19上执行涂铜工艺。从而，涂膜21仅形成在高导电率的光敏银印制层19上(见图9C)，并且执行显影工艺，以便去除多余的树脂。然后，去除在没有形成线路图案的部分上所形成的光敏树脂层18(见图9D)。光敏银印制层19和涂膜21可以形成范围为2至6μm的厚度。

如图1所示，为了制造防反射层10形成为滤光片50的前层的滤光片50，形成在基膜20上的光敏银印制层19和涂膜21可以由防反射层10覆盖。就是说，如图10所示，光敏银印制层19和涂膜21由防反射层110覆盖。防反射层110通常通过执行一次涂敷工艺形成范围为5至12μm的厚度。因此，仅通过执行一次涂敷工艺，起电磁波屏蔽层作用的光敏银印制层19和涂膜21可以完美地再造。在当前实施例中，因为采用铜涂膜21作为导电层，其涂敷在光敏银印制层19上，而不是薄铜膜，所以导电层可以形成很薄。因此，防反射层110可以仅一次涂敷，并且可以减少制造工艺的数量。同样，因为显影薄的光敏银印制层19，在基膜20中不产生不平坦。同样，由于不平坦而涂敷弥补光散射的试剂的附加工艺就不必要了，并且因此简化了制造工艺。此外，随着滤光片的尺寸的变化(例如，随着滤光片尺寸的增加)，调整适当产量的制造成本也不增加。

粘合层没有在图5A至10中单独地图解。然而，当以粘合层粘贴到显示设备的表面时，必要时粘合层可以形成在滤光片面对显示设备的前表面的后表面中。

图11是根据本发明实施例具有滤光片50的等离子显示设备100的分解透视图，而图12是沿着图11的XII-XII线剖取的截面图。

等离子显示设备100包括等离子显示板150、底座130和电路单元140。本发明实施例的滤光片50连接到等离子显示板150的前表面。粘合元件例如双面胶带154可以用于连接等离子显示板150到底座130。导热构件153可以设置在底座130和等离子显示板150之间，以通过底座130散发等离子显示板150产生的热。

等离子显示板150采用气体放电来显示图像，并且包括彼此连接的前面板151和后面板152。

滤光片50采用粘合层(未示出)通过表面接触直接连接到等离子显示板150的整个前表面。该描述是指图1的滤光片50，但是本发明的实施例的滤光片不限于图1的滤光片50，并且可以是应用本发明这一方面的各种类型的滤光片，例如图2的滤光片50。例如，本发明所描述的具有各种特有构造的滤光片可以是由一片组成，包括防反射层、电磁波屏蔽层和基膜的滤光片，参照图2至4描述的包括三个不同类型防反射层的滤光片，或者包括由银印制层和导电膜形成的电磁波屏蔽层的滤光片等。

滤光片50屏蔽由等离子显示板150产生的电磁波，并且减少眩光。同样，可以阻挡红外线或者氖辉光。此外，因为滤光片50基本上直接连接到等离子显示板150的前表面，所以消除重影问题。

同样，因为滤光片50由一片组成，所以滤光片50比传统的钢化玻璃滤光片轻，并且因此成本更低。

底座130设置在等离子显示板150的后表面上，以在结构上支撑等离子显示板150，并且可以由高强度的金属例如铝或钢形成，或者由塑料形成。

导热构件153设置在等离子显示板150和底座130之间。多个双面胶带件154沿着导热构件153的边缘设置，并且因此双面胶带件154将等离子显示板150连接到底座130。

同样，电路单元140设置在底座130的后面上，并且包括驱动等离子显示板150的电路。电路单元140通过信号传输元件传输电信号到等离子显示板150。信号传输元件可以是柔性印制电缆(FPCs)161、带载封装(TCPs)160或者膜上芯片(COP)。根据本发明的一个实施例，用作信号传输元件的FPCs 161设置在底座130的左右两侧上，并且用作信号传输元件的TCPs 160设置在底座130的上下侧上。

至此，仅参照等离子显示设备说明了本发明的多个实施例的滤光片的应用，但是本发明不限于等离子显示设备。就是说，本发明的多个实施例的滤光片可以应用到各种显示设备的前表面。

根据本发明的各个实施例的滤光片和具有该滤光片的等离子显示设备，因为滤光片直接连接到显示面板的前表面，所以可以减少重影。同样，因为滤光片分别采用薄基膜形成，所以可以减轻重量，并且可以提高透射率。特别是，可以显著地提高外部光的防反射效果和亮室对比度。同样，因为简化了制造工艺，所以可以降低制造成本。

尽管参照本发明的示范性实施例对本发明进行了具体的展示和描述，但是本领域的技术人员应当理解的是，在不脱离由所附权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下，可以对本发明进行各种形式和细节上的修改。

本申请要求2007年5月10日提交韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2007-0045367和2008年3月27日提交韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2008-0028493的优先权，其揭示的全部内容在此结合作为参考。

Claims (20)

1、一种由一片形成的滤光片，包括：

防反射层，设置为该滤光片的最外层；

电磁波屏蔽层，设置在该防反射层的后表面上；和

基膜，设置在该电磁波屏蔽层的后表面上。

2、如权利要求1所述的滤光片，其中该防反射层是包括硬质涂敷材料的表面硬度增强层，并且是单层。

3、如权利要求1所述的滤光片，其中该防反射层是抗反射层，其中的多个薄膜层堆叠成使得设置为该多个薄膜层的最外层的第一层的折射系数小于接触该第一层的第二层的折射系数。

4、如权利要求1所述的滤光片，其中该防反射层是形成于其顶表面上的具有预定曲线的防眩光层。

5、如权利要求4所述的滤光片，还包括设置在该防眩光层上的硬质涂敷层。

6、如权利要求1所述的滤光片，其中该防反射层的厚度范围是5.0至12.0μm，该防反射层的铅笔硬度的范围是1H至3H，而该防反射层的霾度范围是1％至10％。

7、如权利要求1-6之一所述的滤光片，其中该电磁波屏蔽层包括至少一层金属层或者至少一层金属氧化物层。

8、如权利要求1-6之一所述的滤光片，其中该电磁波屏蔽层包括图案化的银印制层和涂敷在该银印制层上的铜涂膜。

9、如权利要求8所述的滤光片，其中该银印制层由AgCl或AgNO₃形成。

10、如权利要求8所述的滤光片，其中该银印制层形成网状。

11、如权利要求8所述的滤光片，其中该银印制层和该涂膜形成范围为2至6μm的厚度。

12、如权利要求8所述的滤光片，其中该银印制层采用光刻蚀法形成在该基膜上。

13、如权利要求8所述的滤光片，其中光敏树脂层涂敷在该基膜上，然后在该光敏树脂层上执行印制方法以形成银印制层。

14、如权利要求1-6之一所述的滤光片，其中该基膜包括选自由聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二酯、聚苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚丙烯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三醋酸纤维、醋酸丙酸纤维素或者其结合组成的群组中的一个。

15、如权利要求1所述的滤光片，还包括在该基膜的后侧上的粘合层，以将该滤光片连接到该显示设备的前表面。

16、如权利要求15所述的滤光片，其中该粘合层包括选自由丙烯酸树脂、聚醚树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和压敏粘合剂组成的组中的一个。

17、如权利要求15所述的滤光片，其中该粘合层包括染料或颜料，以便执行颜色纠正、氖辉光阻挡或近红外线阻挡。

18、如权利要求1所述的滤光片，其中该滤光片相对于可见光的光透射率的范围是20％至90％，并且霾度的范围是1％至15％。

19、一种显示设备，包括权利要求1-6之一所述的滤光片，使得该滤光片直接连接到该显示设备的前表面。

20、如权利要求19所述的显示设备，其中该滤光片相对于可见光的光透射率的范围为20％至90％，并且总霾度的范围为1％至15％。

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