CN101281375B - 去除液体中微气泡/微粒的方法、液体供应装置及其应用 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种移除微气泡/微粒的液体供应装置，包括一管路、一激光产生器及至少一微气泡/微粒出口。激光产生器提供激光于该管路的通路上，其提供激光的方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙形成，以阻挡与/或排斥管路的液体中的微气泡与/或微粒。微气泡/微粒出口与该管路连通，位于微气泡/微粒阻挡/排斥墙与液体入口之间，且紧邻微气泡/微粒阻挡/排斥墙，用以导出微气泡与/或微粒。

Description

去除液体中微气泡/微粒的方法、液体供应装置及其应用

技术领域

本发明涉及一种去除液体中微气泡/微粒的方法及液体供应装置，特别是涉及一种通过激光去除液体中微气泡/微粒的方法、利用此方法的液体供应装置，以及并入有此液体供应装置的浸润式曝光机。

背景技术

许多产业中都会使用液体来进行制作工艺或是测量。然而，液体中的气泡或是微粒常会衍生一些问题。

例如，半导体产业即时常会面临这种问题。在半导体制作工艺中如想缩小晶片上的电路，常见的方法包括缩短光波波长，以在晶片上投射出较小的电路图案。但，在下一代157纳米光刻技术的发展过程中，遇到了许多困难。这是因为要从一代光刻技术升级到下一代，即需采用全新的激光源、光掩模材料、透镜材料及光致抗蚀剂材料等。例如，仪器制造商无法以氟化钙琢磨出适用于157纳米紫外光的透镜，其不是缺陷太多，就是像差太大，故而无法在晶片上清楚成像。不过，2002年“浸润式光刻技术”(immersion lithography)的发表使得半导体业者可在现有技术上作延伸，而不必再发展新的157纳米技术。浸润式光刻技术是在193纳米波长曝光机基础上，在光源与晶片之间加入水，以使波长缩短到132纳米的光刻技术。比起目前的干式光刻设备，此技术可支援65、45，甚至32纳米的制作工艺。

然而，浸润式机台仍存在许多技术问题。例如，水中的微气泡与/或微粒会使晶片曝光过程产生许多瑕疵，而影响晶片片上的成像。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可以简便地去除液体中微气泡/微粒的方法。

本发明另一目的在于提供一种可以去除微气泡/微粒的液体供应装置。

本发明再一目的在于提供一种的浸润式曝光机，其中并入本发明的液体供应装置。

首先需说明的是，本说明书及本发明的权利要求中“微气泡/微粒”的写法是表示微气泡或微粒两者中只有一者存在，或是两者都存在于液体中；“阻挡/排斥”则表示阻挡作用与排斥作用只有一种存在，或两种皆存在。

本发明提出一可移除微气泡/微粒的液体供应装置，此装置包括一管路、一激光产生器及至少一微气泡/微粒出口。激光产生器提供激光于管路的通路上，其提供方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙形成。微气泡/微粒出口与管路耦接，位于微气泡/微粒阻挡/排斥墙与液体入口之间，且紧邻微气泡/微粒阻挡/排斥墙，以排除微气泡/微粒。

在本发明的移除微气泡/微粒的方法中，当液体自管路入口流经激光所形成的微气泡/微粒阻挡/排斥墙时，其中的微气泡/微粒会受到激光束的阻挡/排斥作用，无法通过阻挡/排斥墙，而累积在阻挡/排斥墙上方，或再通过液体流动的作用力由微气泡/微粒出口导出。

本发明的浸润式曝光机包括一扫描支座、一曝光用光学系统、一浸润腔室与上述本发明的液体供应装置。扫描支座是用以承载其上已形成有光致抗蚀剂层的晶片或清洗片。曝光用光学系统配置于扫描支座上方。浸润腔室配置于扫描支座与曝光用光学系统之间，用以在曝光时容纳曝光用介质或是在一清洗操作中容纳一溶剂。液体供应装置是用以供应前述曝光用介质或溶剂，包括用以储存前述曝光用介质或溶剂的一储液槽、一输入管、一激光产生器与至少一微气泡/微粒出口。输入管有一液体入口与储液槽连接，且有一液体出口与浸润腔室连接。激光产生器及微气泡/微粒出口的部分则与前述者相同。

依照本发明实施例，上述管路的横截面呈圆形或矩形。

依照本发明实施例所述，上述微气泡/微粒阻挡/排斥墙可为大致呈平面状的一平面墙，或是一曲墙，其中曲墙可由大致呈平面状的多个平面部分所构成。

依照本发明实施例所述，上述平面墙可与管路的横截面大致平行，或是朝管路中液体的流动方向倾斜。

依照本发明实施例所述，上述平面墙可与管路的延伸方向上的侧边呈垂直或呈一倾斜角。由该平面墙的上游侧观视，当此平面墙与管路的一侧边的夹角为锐角时，一微气泡/微粒出口设于管路上方或该侧边紧邻夹角处，此处「上游侧」是以该管路中液体的流动方向来限定的。

依照本发明实施例所述，上述微气泡/微粒出口可设置于管路上方或管路的侧边。

依照本发明实施例所述，由曲墙的上游侧观视，当曲墙的至少一平面部分与相邻的管路侧边的夹角呈锐角时，微气泡/微粒出口设置于管路上方或侧边紧邻锐角夹角处；当曲墙的至少一平面部分与相邻的管路侧边的夹角呈钝角时，则微气泡/微粒出口设置于管路上方，紧邻曲墙的相邻两个平面部分的夹角处。

依照本发明实施例所述，上述微气泡/微粒阻挡/排斥墙延伸穿过至少一部分的微气泡/微粒出口。

依照本发明实施例所述，上述微气泡/微粒阻挡/排斥墙的光强度大致呈梯度分布。

依照本发明实施例所述，上述移除微气泡/微粒的液体供应装置的管路的液体出口可与一浸润式曝光机台的一液体入口连接。

本发明通过激光束来形成微气泡/微粒的阻挡或排除墙，可以达到简便去除液体中的微气泡/微粒的目的。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点更明显易懂，下文特举较佳实施例并配合所附图式，详细说明如下。

附图说明

图1A是依据本发明实施例的一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图1B是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图2A是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图2B是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图3A是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图3B是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图4A是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图4B是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图4C是依据本发明实施例的另一种移除微气泡/微粒的液体供应装置的示意图；

图5是可应用本发明一实例的浸润式曝光机，其中并入本发明的移除微气泡/微粒的液体供应装置以供应该浸润式曝光机所需使用的液体。

主要元件符号说明

10、50：液体供应装置

11：微气泡/微粒

12：管路

12a、52a：液体入口

12b、52b：液体出口

14、54：激光产生器

16：微气泡/微粒阻挡/排斥墙

18、28、38a、38b、48a、48b、48c、48e、48f：微气泡/微粒出口

19：横截面

52：输入管

56：储液槽

56a、46b、56c、58a、58b、58c、60c：平面部分

500：浸润式曝光机

510：清洗片

512：光学壳体

513：光学系统

515、515a：光源、光束

516：物镜

518：浸润腔室

524：排出管

528：扫描支座

530：超音波振荡器

532：液体

θ、α、β、γ、δ：夹角

具体实施方式

本发明的移除微气泡/微粒的液体供应装置，是通过激光来形成微气泡/微粒的阻挡/排斥墙，以达到去除液体中的微气泡/微粒的目的，其中以激光形成可阻挡/排斥微米级气泡/微粒的墙(即力场)的方法可由美国专利案US6,815,664的说明衍生而得，该案的目的是对液体中的微米级微粒作分类。以下举数个实施例详细说明本发明，然其并非用以限制本发明。

请参照图1A，本实施例的移除微气泡/微粒的液体供应装置10包括一管路(pipe)12与一激光产生器14。管路12的横截面形状可为圆形或矩形。管路12的材质可为聚氯乙烯等塑胶、石英或玻璃等。激光产生器14提供激光于管路12的通路上，其提供方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙16形成。当水、有机溶剂或其混合物等液体自管路12的入口12a流经微气泡/微粒阻挡/排斥墙16时，液体中的微气泡/微粒11会受到激光的阻挡/排斥作用，而无法通过阻挡/排斥墙16并累积在其上，故流过阻挡/排斥墙16的液体几乎不含微气泡/微粒11。此外，此液体供应装置10还包括至少一个微气泡/微粒出口18，其与管路12耦接，位于微气泡/微粒阻挡/排斥墙16与管路12的入口12a之间，且紧邻微气泡/微粒阻挡/排斥墙16。当液体由管路12的入口12a流经微气泡/微粒阻挡/排斥墙16时，液体中的微气泡/微粒11即累积在阻挡/排斥墙16上，通过液体流动的作用力，可使得微气泡/微粒11由微气泡/微粒出口18导出，而有效达到去除液体中微气泡/微粒的目的。

本发明的激光所形成的阻挡/排斥墙的形状与位置以及微气泡/微粒出口18的位置与数量可依实际需求而改变，以下举数个实施例说明之，然其并非用以限制本发明。

请参照图1A与1B，在一实施例中，激光产生器14所形成的阻挡/排斥墙16与管路12的横截面19大致平行。微气泡/微粒阻挡/排斥墙16可位于微气泡/微粒出口18的下游侧，且紧邻微气泡/微粒出口18，如图1A所示。或者，如图1B所示，微气泡/微粒阻挡/排斥墙16可穿过微气泡/微粒出口18的一部分。

请参照图2A与2B，在另一实施例中，激光产生器14所形成的阻挡/排斥墙26朝液体的流动方向(12a→12b)倾斜，而与管路12的横截面19夹一锐角θ。同样地，微气泡/微粒阻挡/排斥墙26的上端可在微气泡/微粒出口28的下游侧，如图2A所示，或是穿过微气泡/微粒出口28的一部分，如图2B所示。事实上，微气泡/微粒出口18或28的位置并无特别的限制，只要可以顺利导出液体中的微气泡/微粒，均是本发明涵盖的范围。

在一实施例中，激光产生器14所形成之微气泡/微粒阻挡/排斥墙可以是大致呈平面的一平面墙，如图3A、图3B所示。在另一实施例中，激光产生器14所形成的微气泡/微粒阻挡/排斥墙为曲墙，如图4A～图4C所示。为方便说明起见，在图3A、图3B、图4A～图4C中的管路12是以矩形管来表示，然本发明可用的管路的形状并不限于此。

请参照图3A与图3B，激光产生器14所形成的微气泡/微粒阻挡/排斥墙36a与36b为大致呈平面的平面墙。微气泡/微粒阻挡/排斥墙36a与管路12的延伸方向x可以呈垂直，也就是其夹角α大致为90度，如图3A所示；或是微气泡/微粒阻挡/排斥墙36b与管路12的延伸方向x夹一倾斜角，也就是夹角α小于90度，如图3B所示。此处管路12的延伸方向x即是其中液体的流向。在图3A、图3B中，是以阻挡/排斥墙36a或36b与管路12的侧边A的交线大致平行于管路12的横截面19与侧边A的交线的情形来说明，但本发明并不仅限于此。实际上，该二交线不互相平行的各种情形，也是本发明涵盖的范围。

请参照图3A，当激光产生器14所形成的微气泡/微粒阻挡/排斥墙36a为一大致平面墙，且与管路12的延伸方向垂直时，上述微气泡/微粒出口可以设置在管路12的上方紧邻阻挡/排斥墙36a的任何一处，如微气泡/微粒出口38a；以及/或是设置在管路12侧边紧邻阻挡/排斥墙36a之处，如微气泡/微粒出口38b。

请参照图3B，当激光产生器14所形成的阻挡/排斥墙36b为一大致平面墙，且与管路12的延伸方向夹一倾斜角α时，如由阻挡/排斥墙36b的上游侧观视，则阻挡/排斥墙36b与管路12的延伸方向的一侧边的夹角为锐角，与另一侧边的夹角为钝角。此时微气泡/微粒出口较佳设置在管路12的上方紧邻阻挡/排斥墙36b的任何一处，如微气泡/微粒出口38c，以及/或是管路12的侧边紧邻于前述夹锐角处，如微气泡/微粒出口38d。

请参照图4A、图4B与图4C，其中激光所形成的微气泡/微粒阻挡/排斥墙为一曲墙，此曲墙例如是由两个或是更多个平面部分所构成，然并不仅限于此。在图4A中，曲墙46a是由两个平面部分56a与58a所构成，且由曲墙46a的上游侧观视时，其两个平面部分与管路12的两个侧边12c、12d的夹角β、γ均呈锐角。在图4B中，曲墙46b是由两个平面部分56b与58b所构成，且由曲墙46b的上游侧观视时，其两个平面部分与管路12的两个侧边12c、12d的夹角β、γ均呈钝角。在图4C中，曲墙46c是由三个平面部分56c、58c、60c所构成，且由曲墙46c的上游侧观视时，其中一平面部分56c与管路12的一侧边12c的夹角β呈锐角，另一个平面部分60c与管路12的另一侧边12d的夹角γ呈钝角。

请参照图4A，由曲墙46a的上游侧观视，当曲墙46a的两个平面部分58a、56a与管路12的两个侧边12c、12d的夹角β、γ均锐角时，较佳于管路12上方及管路12侧边分别紧邻二夹角β、γ的四处中选择一或多处设置一或多个微气泡/微粒出口。在图4A中仅绘示出设置于管路12上方紧邻夹角γ处的微气泡/微粒出口48a，以及设置于管路12侧边紧邻夹角β处的微气泡/微粒出口48b。

请参照图4B，由曲墙46b的上游侧观视，当曲墙46b的两个平面部分58b、56b与管路12的两个侧边12c、12d的夹角β、γ均钝角时，微气泡/微粒出口48c较佳设置于管路12上方，紧邻曲墙46b的相邻两平面部分56b、58b的夹角δ处。

请参照图4C，由曲墙46c的上游侧观视，当曲墙46c的一平面部分56c与管路12的一侧边12c的夹角β呈锐角，而另一平面部分60c与另一侧边12d的夹角γ呈钝角时，可以同时在管路12侧边紧邻夹角β处、管路12上方紧邻夹角β处及管路12上方紧邻相邻两平面部分58c与60c的夹角δ处分别设置微气泡/微粒出口48d、48e或48f，或是选择在以上三处的一设置微气泡/微粒出口48d、48e或48f。原则上，出口的位置设于微气泡/微粒容易于汇集的地方，即为紧邻墙面的管线后端。

在图4A、图4B与图4C中，是以微气泡/微粒阻挡/排斥墙46a、46b、46c的整体延伸方向与管路12的横截面19大致平行的情形来说明，然而，本发明并不仅限于此。实际上，阻挡/排斥墙46a、46b、46c的整体延伸方向与管路12的横截面19不平行者，亦是本发明涵盖的范围。

再者，上述的微气泡/微粒阻挡/排斥墙可以是具有大致均匀的光强度分布，或是光强度呈梯度分布，或是由光点或光面呈现多道的点排列或是线排列的密集形成，以增进微气泡/微粒的移除效益。

本发明的移除微气泡/微粒的方法与液体供应装置可以应用于浸润式光刻技术之中，以提供没有或极少量微气泡/微粒的液体。利用本发明的液体供应方法与装置的浸润式光刻系统的曝光机例如图5所示。

请参照图5，浸润式曝光机500包括一扫描支座528，用以承载已形成有光致抗蚀剂层的晶片或是清洗片510。光学壳体(optical housing)512中包含光学系统513并可放置光掩模(未绘示)。光学系统具有光源515，例如是激光产生器，以及对应设置于扫描支座528上方的物镜516。浸润腔室518设于物镜516下方、扫描支座528上方，用以容置一液体532，其例如是曝光用介质(例如水)，或是清洗物镜516用的溶剂(例如水)。

浸润腔室518可经由连通的气体导管(未绘示)通入钝气而形成一个气密空间。浸润腔室518之中的液体532是通过本发明的液体供应装置50来提供。液体供应装置50包括前述般具有液体入口52a与出口52b的输入管52，以及用以产生微气泡/微粒阻挡/排斥墙(未绘示)的激光产生器54，并更包括储液槽56。其中，储液槽56是用以储存液体532，输入管52的液体入口52a与储液槽56连接，且液体出口52b与浸润腔室518连接。在使用过之后，浸润腔室518中的液体532可通过排出管524排放出去。

在进行曝光制作工艺时，是利用光束515a(例如激光束)经由物镜516以及浸润腔室518中的曝光用介质而将光掩模上的图案转移到晶片上。

在曝光制作工艺之后，可以进行一清洗操作，通过液体供应装置50供应一溶剂进入浸润腔室518，以将物镜516上的污染物移除。为提高清洗的效果，此曝光机500还可以包括用以振荡清洗用溶剂的超音波振荡器，例如是图示设置在浸润腔室518周围的超音波振荡器530。

然而，本发明的应用并不仅限于浸润式光刻技术，而更可以应用于其他产业的需要去除微气泡/微粒的机台中。

虽然结合以上较佳实施例揭露了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉此技术者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作一些的更动与润饰，因此本发明的保护范围应以附上的权利要求所界的为准。

Claims (32)

1.一种移除微气泡/微粒的液体供应装置，用于浸润式光刻技术，该移除微气泡/微粒的液体供应装置包括：

一管路，包括一液体入口与一液体出口；

一激光产生器，用以提供激光于该管路的通路上，该激光的提供方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙形成，以阻挡与/或排斥该管路中的多数个微气泡与/或微粒通过并累积于该阻挡/排斥墙上，而可通过该阻挡/排斥墙的液体均不包含有所述微气泡/微粒；以及

至少一微气泡/微粒出口，与该管路连通，位于该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该液体入口之间，且紧邻该微气泡/微粒阻挡/排斥墙，通过该液体流动的作用力，以将累积于该阻挡/排斥墙上的该些微气泡与/或微粒从该出口导出。

2.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该管路的横截面呈圆形或矩形。

3.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙大致呈平面状。

4.如权利要求3所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该管路的横截面大致平行，或是朝该管路中液体的流动方向倾斜。

5.如权利要求3所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该管路的延伸方向上的侧边呈垂直或呈一倾斜角。

6.如权利要求5所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中由该微气泡/微粒阻挡/排斥墙的上游侧观视时，该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该管路的一侧边的夹角为一锐角，且该微气泡/微粒出口设于该管路上方或该侧边的紧邻该夹角处，其中该上游侧是以该管路中液体的流动方向来限定的。

7.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙包括由多数个大致呈平面状的平面部分所构成的曲墙。

8.如权利要求7所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中：

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该管路延伸方向上的侧边的夹角呈锐角时，该微气泡/微粒出口设置于该管路上方或该管 路侧边紧邻该锐角处，其中该上游侧是以该管路中液体的流动方向来限定；以及

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该管路延伸方向上的侧边的夹角呈钝角时，该微气泡/微粒出口设置于该管路上方，紧邻该曲墙的相邻两个平面部分的夹角处。

9.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒出口设置于该管路上方或该管路的侧边。

10.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙延伸穿过至少一部分的该微气泡/微粒出口。

11.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙的光强度呈梯度分布。

12.如权利要求1所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该管路的该液体出口与一浸润式曝光机台的一液体入口连接。

13.一种如权利要求1所述移除微气泡/微粒的液体供应装置的去除液体中微气泡/微粒的方法，包括：

提供一管路，该管路具有一液体入口，且该管路上设置有至少一微气泡/微粒出口；

提供一光源于该管路的通路上，其提供方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙形成，用以阻挡该液体中的多数个微气泡与/或微粒，其中

该微气泡/微粒出口位于该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该管路的该液体入口之间，且紧邻该微气泡/微粒阻挡/排斥墙，以导出该些微气泡与/或微粒。

14.如权利要求13所述的去除液体中微气泡/微粒的方法，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙包括大致呈平面状的一平面墙，或是由多数个大致呈平面状的平面部分所构成的一曲墙。

15.如权利要求14所述的去除液体中微气泡/微粒的方法，其中该平面墙与该管路的横截面大致平行，或是朝该管路中液体的流动方向倾斜。

16.如权利要求14所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该平面墙与该管路的延伸方向上的侧边呈垂直或呈一倾斜角。

17.如权利要求16所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中由该平面墙的上游侧观视时，该平面墙与该管路的一侧边的夹角为锐角，且该微气泡/微粒出口设于该管路上方或该侧边紧邻该夹角处，其中该上游侧是 以该管路中液体的流动方向来限定的。

18.如权利要求14所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该管路延伸方向上的侧边的夹角呈锐角时，该微气泡/微粒出口设置于该管路上方或该管路侧边紧邻该锐角处，其中该上游侧是以该管路中液体的流动方向来限定；以及

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该管路延伸方向上的侧边的夹角呈钝角时，该微气泡/微粒出口设置于该管路上方，紧邻该曲墙的相邻两个平面部分的夹角处。

19.如权利要求13所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙延伸穿过至少一部分的该微气泡/微粒出口。

20.如权利要求13所述的移除微气泡/微粒的液体供应装置，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙的光强度呈梯度分布。

21.一种浸润式曝光机，包括：

一扫描支座，用以承载其上已形成有一光致抗蚀剂层的一晶片，或是一清洗片；

一曝光用光学系统，配置于该扫描支座上方；

一浸润腔室，配置于该扫描支座与该曝光用光学系统之间，用以在曝光时容纳一曝光用介质或是在一清洗操作中容纳一溶剂；以及

一液体供应装置，用以供应该曝光用介质或该溶剂，包括

一储液槽，用以储存该曝光用介质或该溶剂；

一输入管，包括一液体入口与一液体出口，该液体入口与该储液槽连接，且该液体出口与该浸润腔室连接；

一激光产生器，用以提供激光于该输入管的通路上，该激光的提供方式可使一微气泡/微粒阻挡/排斥墙形成，以阻挡与/或排斥该曝光用介质中的多数个微气泡与/或微粒通过并累积于该阻挡/排斥墙上；以及

至少一微气泡/微粒出口，与该输入管连通，位于该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该液体入口之间，且紧邻该微气泡/微粒阻挡/排斥墙，通过该液体流动的作用力，以将累积于该阻挡/排斥墙上的该些微气泡与/或微粒从该出口导出，而可通过该阻挡/排斥墙的液体均不包含有所述微气泡/微粒。

22.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该输入管的横截面呈圆形 或矩形。

23.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙大致呈平面状。

24.如权利要求23所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该输入管的横截面大致平行，或是朝该输入管中液体的流动方向倾斜。

25.如权利要求23所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该输入管的侧边呈垂直或呈一倾斜角。

26.如权利要求25所述的浸润式曝光机，其中由该微气泡/微粒阻挡/排斥墙的上游侧观视时，该微气泡/微粒阻挡/排斥墙与该输入管的一侧边的夹角为一锐角，且该微气泡/微粒出口设于该输入管上方或该侧边的紧邻该夹角处，其中该上游侧是以该输入管中液体的流动方向来限定的。

27.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙包括由多数个大致呈平面状的平面部分所构成的曲墙。

28.如权利要求27所述的浸润式曝光机，其中：

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该输入管的侧边的夹角呈锐角时，该微气泡/微粒出口设置于该输入管上方或该输入管侧边紧邻该锐角处，其中该上游侧是以该输入管中液体的流动方向来限定的；以及

由该曲墙的上游侧观视，当该曲墙的至少一平面部分与该输入管的侧边的夹角呈钝角时，该微气泡/微粒出口设置于该输入管上方，紧邻该曲墙的相邻两个平面部分的夹角处。

29.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒出口设置于该输入管上方或该输入管的侧边。

30.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙延伸穿过至少一部分的该微气泡/微粒出口。

31.如权利要求21所述的浸润式曝光机，其中该微气泡/微粒阻挡/排斥墙的光强度呈梯度分布。

32.如权利要求21所述的浸润式曝光机，更包括与该浸润腔室相连的一排出管，以排出该曝光用介质。 

Images