CN101278763A - 一种一体式西装衣领的加工方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种一体式西装衣领的加工方法,该方法先将裁剪好的整块面料经由上下两块模板对合挤压后,形成前半部分为连续波浪形起伏状曲面,后半部分为平面的半成品,将该挤压后的面料与衬底缝合,面料和衬底以平面与波浪形起伏状曲面的过渡线为界对折,形成了与脖颈贴邻的里面以及外翻的外翻面,将对折好的面料及衬里放置在一与人体脖颈曲面相似的凸台上,面料及衬里再经过一与凸台相适配的凹面与凸台二次挤压成型。

Description

一种一体式西装衣领的加工方法
技术领域
本发明涉及一种西装衣领的加工方法,特别是一种一体式西装衣领的加工方法。
背景技术
现有西装衣领如图1所示,包括有面料和衬底,面料覆盖在衬底上并相互缝合固定。面料和衬底翻折形成一折边,面料以折边为界形成了与颈部贴邻的里面以及外翻的外翻面。由于衣领成型时类似于一个圆台侧面的曲面,上面周边的边长小于下面周边的边长,如果外翻面由里面直接翻折延展形成,那么衣领成型时,外翻面就会不平整,出现起伏褶皱的现象。因此现有的西装衣领是通过在靠近翻折边的位置缝合一条形布条的方法使外翻面接近于一平整的曲面来解决上述问题。这种由两块布料缝合形成的衣领,其两块布料缝制处的厚度要比单层的面料要厚,经过多次洗涤熨烫后,其缝合处会出现凸起,这会影响西装的整体外观。另外应用现有西装衣领加工方法生产衣领时,必须先要裁剪两块布料,然后再将两块布料缝合,这也增加了西装的生产流程和成本。
发明内容
本发明的目的在于克服以上技术缺陷,提供一种一体式西装衣领的加工方法,其采用一块面料制成西装衣领。
为了实现以上目的,本发明采用以下技术方案:一种一体式西装衣领的加工方法,其特征在于:该方法包括以下几个步骤:首先将裁剪好的整块面料经由上下两块模板对合挤压后,形成前半部分为连续波浪形起伏状曲面,后半部分为平面的半成品,将该挤压后的面料与衬底缝合,面料和衬底以平面与波浪形起伏状曲面的过渡线为界对折,形成了与脖颈贴邻的里面以及外翻的外翻面,将对折好的面料及衬里放置在一与人体脖颈曲面相似的凸台上,面料及衬里再经过一与凸台相适配的凹面与凸台二次挤压成型。
本发明的有益效果在于:本发明将面料经由上下两块模具对合挤压形成连续波浪形状的曲面,面料经挤压后自然延展开来,这样面料再翻折定型后,就不会出现褶皱,衣领就可以由一块面料加工形成。本发明加工方法简单方便,制成的衣领美观,穿着起来大方、得体。
下面结合附图对本发明作进一步详细说明
附图说明
图1是采用现有加工方法制成的西装衣领示意图;
图2是采用本发明方法制成的西装衣领示意图;
图3是上下两块模板结构示意图;
图4是凸台与凹面结构示意图;
具体实施方式
一种一体式西装衣领的加工方法,该方法包括以下几个步骤:首先将裁剪好的整块面料经由上下两块模板对合挤压后s,形成前半部分为连续波浪形起伏状曲面,后半部分为平面的半成品。将该挤压后的面料与衬底缝合,面料和衬底以平面与波浪形起伏状曲面的过渡线为界对折,形成了与脖颈贴邻的里面以及外翻的外翻面,将对折好的面料及衬里放置在一与人体脖颈曲面相似的凸台上,面料及衬里再经过一与凸台相适配的凹面与凸台挤压成型。
上下模板的结构如图3所示,下模板的前半部分设有多个凹槽,凹槽的深度有外向里逐渐减小,相应的上模板的前半部分设有多个凸起,凸起的高度从外向里逐渐减小。
凸台和凹面的结构如图4所示,凸台大致呈月牙形,中间的高度要比两边高,相应的凹面中间凹进量要比两端要大。
面料由上下两块模板挤压时,可以向面料上喷射蒸汽加热,使面料能更加自然的延展开来。面料经由凸台和凹面挤压成型时,也可以向面料喷射蒸汽加热,使衣领成型后,更加挺拔有型。

Claims (3)

1.一种一体式西装衣领的加工方法,其特征在于:该方法包括以下几个步骤:首先将裁剪好的整块面料经由上下两块模板对合挤压后,形成前半部分为连续波浪形起伏状曲面,后半部分为平面的半成品,将该挤压后的面料与衬底缝合,面料和衬底以平面与波浪形起伏状曲面的过渡线为界对折,形成了与脖颈贴邻的里面以及外翻的外翻面,将对折好的面料及衬里放置在一与人体脖颈曲面相似的凸台上,面料及衬里再经过一与凸台相适配的凹面与凸台二次挤压成型。
2.根据权利要求1所述的一体式西装衣领加工方法,其特征在于:所述面料经蒸汽加热再由上下两块模板挤压。
3.根据权利要求1或2所述的一体式西装衣领加工方法,其特征在于:对折好的面料及衬里经蒸汽加热再由凸台和凹面挤压成型。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20081008