CN101275360A - 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统 - Google Patents

相对密闭的等离子体处理纺织面料系统 Download PDF

Info

Publication number
CN101275360A
CN101275360A CNA2007100900325A CN200710090032A CN101275360A CN 101275360 A CN101275360 A CN 101275360A CN A2007100900325 A CNA2007100900325 A CN A2007100900325A CN 200710090032 A CN200710090032 A CN 200710090032A CN 101275360 A CN101275360 A CN 101275360A
Authority
CN
China
Prior art keywords
plasma
housing
face fabric
weaving face
cement composite
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2007100900325A
Other languages
English (en)
Inventor
王守国
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Academy of Opto Electronics of CAS
Original Assignee
Academy of Opto Electronics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Academy of Opto Electronics of CAS filed Critical Academy of Opto Electronics of CAS
Priority to CNA2007100900325A priority Critical patent/CN101275360A/zh
Publication of CN101275360A publication Critical patent/CN101275360A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)

Abstract

本发明公开一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,包括一个电源组,一个电机马达组,一个等离子体放电处理室,进气系统,摆布机(或称带布机)和进布机等,其等离子体放电室是由不锈钢制成的,一个相对密闭的壳体,在壳体上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体底面密闭板上设有进气孔,在壳体内充入氩气和少量任意反应气体,在壳体内由多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,称为高压电极;以及在高压电极一侧的,与高压电极管平行的电极,称为地电极,高压电极和地电极分别与高频电源连接,纺织面料由摆布机带动,并通过进布机进入到等离子体处理室得到改性处理,其目的是替代传统印染工艺中的精炼工艺,提高色牢度和改善面料的手感。

Description

相对密闭的等离子体处理纺织面料系统
技术领域
本发明涉及一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,尤指一种等离子体处理室是在一个相对密闭的不锈钢壳体内,其壳体内是充有氩气并有少量任意反应气体的,壳体上密闭板面上设有同一个面料进、出口的,其壳体内由多组能实现自传的放电电极组和导向轮构成的高频等离子体放电面料处理系统。
背景技术
等离子体技术应用在纺织领域是在近年人们十分关注的新技术,过去人们采用真空等离子体对各种纺织面料进行了放电处理,实验证明,经过等离子体处理后,在替代传统的退浆工艺,提高色牢度和改变手感方面都取得了很好的实验结果。但是,由于真空等离子体器壁限制,使其无法实现连续生产,设备运行费用也很高。在空气中进行的介质阻挡放电过去一般是采用硅橡胶包覆的金属管,采用硅橡胶介质与玻璃或陶瓷介质比较,电极之间需要的击穿电压较高,放电时所形成的局部电弧丝较粗,放电不均匀;另外,过去在常压下进行的介质阻挡放电,一般是在空气中进行的,放电时无法控制电极之间空气的组分,放电所产生的局部微电弧电流也比较大,在纺织面料通过时,容易产生局部烧蚀,从而影响了处理面料的效果。此外,地电极一般是采用带有齿状的铝合金金属,由于它与硅胶轮之间的缝隙比较小,当两块面料的连接处通过放电间隙时容易发生阻塞。
发明内容
本发明的目的在于提供一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,尤指在一个相对密闭的多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时地电极自身可以转动的,放电是在以氩气为主的气体氛围中进行的装置。
本发明提供一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,包括一个电源组,一个电机马达组,一个等离子体放电处理室,进气系统,摆布机和进布机等,其等离子体放电室是由不锈钢制成的一个相对密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有进气孔,在壳体内充入氩气和少量任意反应气体,在壳体内由多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,称为高压电极;以及在高压电极一侧的,与高压电极管平行的电极,称为地电极,高压电极和地电极分别与高频电源连接,纺织面料由摆布机带动,并通过进布机进入到等离子体处理室。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:系统所采用的电源频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV,放电室是在常压下,无需抽真空。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:等离子体放电室是由不锈钢制成的一个长方密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有气体进气孔,该进气孔连接氩气气源和反应气体,如:氧气,氨气,氮气或SF6等。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室内设有,被称为高压电极的多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,以及在高压电极一侧的多组地电极,该高压电极和地电极分别与高频电源连接,该高压电极的两端分别通过轴承固定在壳体支架上;该地电极的两端分别连接弹簧,并通过弹簧连接一个由马达带动的轴承上,该轴承固定在壳体支架上,连接在一起的轴承、弹簧和地电极由马达带动形成自转。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室壳体内设有面料导向轴。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在该口的两侧设有面料传递辊轴,在其上方设有一个排气罩。
所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的一侧设有摆布机,另一侧设有进布机,面料是由摆布机带动,通过进布机展平后,进入到等离子体放电处理室处理。
本发明相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其优点是:1、高压电极管被分别用玻璃管或陶瓷管包覆,采用该两种介质可以较好的减少放电击穿电压。2、等离子体放电室内充有以氩气为主并有少量反应气体,使放电时的气体成分能很好控制。3、在放电进行时,电极本身分别被马达和面料带动自转,这避免了电极局部受热不均匀。4、由于在地电极的两端采用弹簧连接,当两个面料的连接处通过电极之间的缝隙时,不会阻塞。
本发明是在大气压下产生低温均匀等离子体放电室,主要用途是:对穿过该放电室的各种面料的表面得到等离子体的放电处理,替代传统印染行业的精炼退浆工艺,提高色牢度和改善面料的手感。
附图说明
图1为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统侧面刨示结构示意图;
图2为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统中等离子体处理室侧面刨示结构,以及和电源、气源连接示意图;
图3为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统中等离子体处理室内,其中一组电极结构正面示意图。
具体实施方式
下面参照附图,结合具体的实施例对本发明进行详细的描述。
参阅图1,为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统侧面刨示结构示意图。如图1所示,提供一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,主要在一个等离子体放电处理室两侧设有一个摆布机202和进布机201,其等离子体放电室是由不锈钢制成的一个相对密闭的壳体100,在壳体100内由多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管高压电极103,以及在高压电极103一侧的,与高压电极管平行的地电极104;在壳体100的上板面中部设有一个排气罩。
纺织面料105由摆布机202带动,并通过进布机201把将进入等离子体放电室的面料105展平后进入到等离子体处理室得到改性处理。
参阅图2,为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统中等离子体处理室侧面刨示结构,以及和电源、气源连接示意图。如图2所示,在等离子体放电室内设有,被称为高压电极的多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极103,以及在高压电极一侧的多组地电极104,该多组高压电极103和多组地电极104分别通过电缆线206与高频电源203连接;在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口106,该口为一个宽度为8-15毫米的缝隙,在该缝隙口两侧的板面内外分别设有面料导向轮108和108-1,在壳体上密闭板的两个拐角处,分别设有另外的导向轮102和102-1;在壳体的底面密闭板上设有进气孔107,气源204的气体,通过控制阀门205与壳体100底面密闭板的进气孔107连接。通过气源204向壳体内100内充入氩气和少量任意反应气体。
参阅图3,为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统中等离子体处理室内,其中一组电极结构正面示意图。如图3所示,该高压电极103的外面被玻璃管或陶瓷管103-1包覆,其两端分别通过轴承103-2固定在壳体支架103-3上;该地电极104的两端分别连接弹簧104-1,并通过弹簧104-1连接一个由马达207带动的轴承104-2上,该轴承固定在壳体支架104-3上,连接在一起的轴承104-2、弹簧104-1和地电极104由马达207带动形成自转。在高压电极103的一侧可以设有多个地电极104,该多个地电极104与高压电极103外的绝缘介质103-1之间设有相同的间隙111,在该间隙111中形成等离子体的放电区。
所采用的电源频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV,放电室是在常压下,无需抽真空。
壳体100由不锈钢板加工制成;排气罩101由金属材料,例如由不锈钢、铝或铁等加工制成,也可以用塑料制成;壳体上的支架103-3用绝缘材料,如还氧,尼龙或聚四氟材料等制成;高压电极用铝管或铁管制成,包覆高压电极103的绝缘材料管可以选用玻璃管、石英管或陶瓷管;地电极采用铝管、不锈钢管,钨丝,钼丝,以及用弹簧制成。
上面参考附图结合具体的实施例对本发明进行了描述,然而,需要说明的是,对于本领域的技术人员而言,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,可以对上述实施例作出许多改变和修改,这些改变和修改都落在本发明的权利要求限定的范围内。

Claims (10)

1. 一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,包括一个电源组,一个电机马达组,一个等离子体放电处理室,进气系统,摆布机(或称带布机)和进布机等,其等离子体放电室是由不锈钢制成的一个相对密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有进气孔,在壳体内充入氩气和少量任意反应气体,在壳体内由多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,称为高压电极;以及在高压电极一侧的,与高压电极管平行的电极,称为地电极,高压电极和地电极分别与高频电源连接,纺织面料由摆布机带动,并通过进布机进入到等离子体处理室。
2. 如权利要求1所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:系统所采用的电源频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV,放电室是在常压下,无需抽真空。
3. 如权利要求1所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:等离子体放电室是由不锈钢制成的一个长方密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有多个气体进气孔。
4. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室内设有,被称为高压电极的多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,以及在高压电极一侧的多组地电极,该高压电极和地电极分别与高频电源连接。
5. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:该高压电极的两端分别通过轴承固定在壳体支架上,该支架是有绝缘材料制成。
6. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:该地电极的两端分别连接弹簧,并通过弹簧连接一个由马达带动的轴承上,该轴承固定在壳体支架上,连接在一起的轴承、弹簧和地电极由马达带动形成自转。
7. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室内设有面料导向轴。
8. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的上密闭板上设有同一个进布和出布口,该口为一个宽度为8-15毫米的缝隙,在该口的两侧设有面料传递辊轴,在其上方设有一个排气罩。
9. 如权利要求1和3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:与壳体的底面密闭板上进气孔连接的气源采用氩气,并可以选择添加反应气体氧气,氨气,氮气或SF6等。
10. 如权利要求1或3所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的一侧设有摆布机,另一侧设有进布机,面料是由摆布机带动,通过进布机展平后,进入到等离子体放电处理室处理。
CNA2007100900325A 2007-03-26 2007-03-26 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统 Pending CN101275360A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2007100900325A CN101275360A (zh) 2007-03-26 2007-03-26 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2007100900325A CN101275360A (zh) 2007-03-26 2007-03-26 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101275360A true CN101275360A (zh) 2008-10-01

Family

ID=39995171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007100900325A Pending CN101275360A (zh) 2007-03-26 2007-03-26 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101275360A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102307425A (zh) * 2011-06-24 2012-01-04 北京大学 一种可组合式阵列等离子体发生装置
CN102373598A (zh) * 2010-08-18 2012-03-14 嘉兴江林电子科技有限公司 用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统
CN105908484A (zh) * 2016-06-21 2016-08-31 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置
CN107164943A (zh) * 2017-06-16 2017-09-15 泰州市姜堰新型纺织有限公司 一种特殊纺织品表面处理机
CN112796095A (zh) * 2021-01-21 2021-05-14 柯慧莹 一种相对密闭的等离子体处理纺织面料设备

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102373598A (zh) * 2010-08-18 2012-03-14 嘉兴江林电子科技有限公司 用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统
CN102307425A (zh) * 2011-06-24 2012-01-04 北京大学 一种可组合式阵列等离子体发生装置
CN105908484A (zh) * 2016-06-21 2016-08-31 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置
CN107164943A (zh) * 2017-06-16 2017-09-15 泰州市姜堰新型纺织有限公司 一种特殊纺织品表面处理机
CN112796095A (zh) * 2021-01-21 2021-05-14 柯慧莹 一种相对密闭的等离子体处理纺织面料设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101275360A (zh) 相对密闭的等离子体处理纺织面料系统
CN101971288B (zh) 等离子体系统
CA2094252C (en) Rotating magnetron incorporating a removable cathode
US4128466A (en) Method and apparatus for reactive sputtering
CN104380429B (zh) 微波电浆发生装置及其操作方法
KR100299158B1 (ko) 저압방전을시행하는방법과이에속하는점화,진공처리시설및음극실의설치방법과이러한시행방법들을적용하는방법
CN100476065C (zh) 纺织品和无纺布等离子体表面处理装置
CN110337170B (zh) 一种基于电流驱动技术反场位形结构的高密度等离子体射流发生装置
EP0081331B1 (en) Vacuum sputtering apparatus
CN104996000B (zh) 等离子体源
CN105706213A (zh) 等离子体产生设备
CN201202022Y (zh) 相对密闭的等离子体处理纺织面料设备
CN107399733B (zh) 一种卷对卷的石墨烯薄膜制备装置
CN103695870B (zh) Pecvd镀膜装置
CN104470181A (zh) 一种绝对密闭的等离子体表面处理装置
CN107979907A (zh) 大气压介质阻挡放电增强型直流交替电极低温等离子体射流阵列
CN108950515A (zh) 一种基于pecvd的燃料电池金属极板碳基涂层制备装置
CN109055911A (zh) 一种立式的pecvd复合pvd的真空镀膜系统
CN200988925Y (zh) 纺织品和无纺布等离子体表面处理装置
CN207391005U (zh) 一种石墨烯的生产设备
CN110158056A (zh) 真空镀膜装置
CN211367711U (zh) 一种管状磁控溅射源、磁控溅射单元及镀膜系统
CN101977453B (zh) 发热棒单元体、发热棒及干燥炉
US3106594A (en) Heating method
CN211142169U (zh) 气相沉积炉及气相沉积系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C57 Notification of unclear or unknown address
DD01 Delivery of document by public notice

Addressee: Wang Shouguo

Document name: Notification of Publication of the Application for Invention

C57 Notification of unclear or unknown address
DD01 Delivery of document by public notice

Addressee: Wang Shouguo

Document name: Notification before expiration of term

C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20081001