CN101274310A - 涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置 - Google Patents

涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置，其抑制涂敷头的顶端面的翘曲，并且实现高的涂敷精度。在头顶端部(23)设置具有喷出口的狭缝(16)，从该喷出口喷出涂敷液的涂敷头(10)中，在头顶端部(23)的表面涂敷耐磨损涂层(24)，并且该耐磨损涂层(24)通过涂敷处理形成，所述涂敷处理如下所述，即，使用由将包含TiC(碳化钛)的导电材料的粉末或包含cBN(立方晶氮化硼)的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体构成的压粉体电极(26)，在油中或气中在头顶端部(23)和压粉体电极(26)之间产生脉冲放电，通过其放电能量，使压粉体电极(26)的电极材料或该电极材料的反应物质附着在头顶端部(23)。

Description

涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置
技术领域
本发明涉及涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置，特别是涉及在薄板状构件或面板状构件等被涂敷构件的表面涂敷涂敷液的涂敷头和涂敷装置，涉及从狭缝均匀喷出涂敷液的涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置。
背景技术
通常，作为在薄板状构件的表面薄薄地均匀涂敷涂敷液的装置，常常使用具有通过一对头部构成体的侧面形成在顶端部开口的狭缝的涂敷头的涂敷装置。可是，如果由于长时间的使用，发生涂敷头的翘曲，狭缝宽度相对于涂敷头的纵向变为不均匀，由此，具有涂敷厚度变为不均匀的问题。
相对于此，例如在专利文献1中，提出了在通过狭缝喷出涂敷液的挤压型的涂敷装置中，在涂敷头的顶端粘贴超硬合金原料。由此，能提高涂敷头的顶端部的刚性，能抑制翘曲。
此外，作为使原料表面变硬的方法，以往提出了很多的表面涂敷方法或镀敷方法。
[专利文献1]特开2004-243152号公报
可是，在所述的专利文献1中，在涂敷头主体粘贴与该涂敷头主体不同种类的超硬合金构件，所以，如果周围的温度变化，则由于混合金属效应，有可能产生翘曲。特别是使用较多地含有有机溶剂的涂敷液时，由于涂敷液的蒸发，夺去蒸发潜热，所以涂敷头容易冷却，在超硬合金构件容易产生翘曲。
此外，在一边将顶端面按压在带状支承体一边使涂敷液喷出而进行涂敷的涂敷头中，涂敷头的顶端面的形状精度(加工精度)大幅度影响涂敷精度。因此，不仅要求使涂敷头的顶端面为高强度，还要求实现高的加工精度。
发明内容
本发明是鉴于这样的课题而提出的，其目的在于，提供能抑制涂敷头的顶端面的翘曲，并且实现高的涂敷精度的涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置。
为了实现所述目的，发明1提供一种涂敷头，其在头顶端部设置具有喷出口的狭缝，从该喷出口喷出涂敷液，其特征在于，在所述头顶端部的表面涂敷有涂层，并且该涂层通过涂敷处理形成，所述涂敷处理如下所述，即，使用由将包含TiC(碳化钛)的导电材料的粉末或包含cBN(立方晶氮化硼)的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体构成的压粉体电极，在油中或气中使所述头顶端部和所述压粉体电极之间产生脉冲放电，通过其放电能量，使所述压粉体电极的电极材料或该电极材料的反应物质附着在所述头顶端部。
根据发明1，将所述电极材料或该电极材料的反应物质通过脉冲放电而在头顶端部形成涂层。由此，能使所述电极材料或该电极材料的反应物质相对于头顶端部堆积、扩散和(或)熔敷而牢固地结合，直到头部主体(母材)的表层内部都能形成为高硬度。因此，即使极薄地进行所述涂敷，也能取得充分的硬度，并且能取得高的形状精度。
须指出的是，头顶端部的表面包含形成有喷出口的头顶端部的顶面、从该喷出口进入狭缝内的狭缝壁面、与顶面连续的头顶端部的侧面中的任意一个以上。
发明2根据发明1，其特征在于，所述涂层通过磨削在所述涂敷处理的作用下涂敷为比成形品形状的涂层厚度厚的层而形成。
根据发明2，磨削比成形品形状的涂层厚度更厚地涂敷的层，直到变为成形品形状，所以能以高精度精加工头顶端部的形状。由此，能提高涂敷精度。
须指出的是，在发明2中，所谓成形品形状是指在头顶端部的母材涂敷涂层而形成涂敷头的最终方式下的头顶端部。此外，磨削也包含研磨。
在以下为同样。
发明3根据发明1，其特征在于，所述涂层涂敷在将所述头顶端部的表面磨削与成形品形状的涂层厚度相同或其以下的厚度而成的凹陷部分。
根据发明3，通过脉冲放电在头顶端部以所述压粉体电极的电极材料或该电极材料的反应物质进行涂敷，所以直到头部主体(母材)的表层内部都能形成为高硬度。
发明4根据发明2或3，其特征在于，所述成形品形状的所述涂层厚度是1000μm以下。
这样薄地形成涂层，也能使头顶端部为足够高硬度并且高形状精度。此外，成形品形状的涂层厚度更优选是50μm以下。
发明5根据发明1～4中的任意一项，其特征在于，涂敷有所述涂层的头顶端部的由直线度表示的翘曲为5μm/m以下。
由此，能提高涂敷精度。
为了实现所述的目的，发明6提供一种涂敷装置，其特征在于，具有发明1～5中的任意一项所述的涂敷头，通过使该涂敷头相对于被涂敷构件相对地在一方向移动，在被涂敷构件的表面上涂敷涂敷液。
作为这样的涂敷装置，例如可列举挤压型涂敷装置、滑动涂敷型涂敷装置等。
发明7根据发明1～6中的任意一项，其特征在于，所述涂敷液包含有机溶剂。
根据发明7，即使在涂敷包含有机溶剂的涂敷液时，涂敷头由于有机溶剂的蒸发而容易冷却等温度变化大的使用环境下，也能抑制在涂敷头的顶端部产生翘曲。
为了实现所述的目的，发明8提供一种涂敷头的制造方法，所述涂敷头在头顶端部设置具有喷出口的狭缝，从该喷出口喷出涂敷液，所述涂敷头的制造方法的特征在于，包括如下工序，即，使用由将包含TiC(碳化钛)的导电材料的粉末或包含cBN(立方晶氮化硼)的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体构成的压粉体电极，在油中或气中使所述头顶端部和所述压粉体电极之间产生脉冲放电，通过其放电能量，使所述压粉体电极的电极材料或该电极材料的反应物质附着在所述头顶端部，由此对所述头顶端部进行涂敷。
发明9根据发明8，其特征在于，包括：将所述头顶端部从成形品形状磨削50μm以下的厚度的工序；在所述被磨削的头顶端部，通过所述压粉体电极将所述电极材料或该电极材料的反应物质涂敷5～100μm的厚度的工序；磨削所述被涂敷的电极材料或该电极材料的反应物质，直到成为所述成形品形状的工序。
发明10根据发明8，其特征在于，包括：在所述头顶端部，通过所述压粉体电极将所述电极材料或该电极材料的反应物质涂敷5～100μm的厚度的工序；磨削所述被涂敷的电极材料或该电极材料的反应物质，直到成为成形品形状的工序
根据本发明，能抑制涂敷头的顶端面的翘曲，能实现高的涂敷精度。
附图说明
图1是表示本发明的涂敷头的概略结构的示意图。
图2是表示图1的涂敷头的放大剖视图。
图3是说明本发明的涂层的形成方法的说明图。
图4是说明本发明的涂层的形成过程的说明图。
图5是说明本发明的涂层的形成过程的其他方式的说明图。
图6是表示实施例的盘状(デイスコテイツク)化合物的图。
符号说明
10-涂敷头；12-上游侧块；14-下游侧块；12a-(上游侧块的)侧面；14a-(下游侧块的)侧面；16-狭缝；22-袋；23-头顶端部；23a-顶面；23b-狭缝壁面；23c-侧面；24-耐磨损涂层；26-压粉体电极。
具体实施方式
下面，根据附图，说明本发明的涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置的优选实施方式。
图1是表示本发明的涂敷头10的概略结构的立体图，图2是表示涂敷头10的放大剖视图。如图1所示，涂敷头10具有一对上游侧块12和下游侧块14，该上游侧块12、下游侧块14的侧面12a、14a相对配置，从而形成狭缝16。
上游侧块12、下游侧块14以顶端侧的厚度变薄的方式在成为涂敷头10的外侧面的面的顶端侧形成倾斜面。在各侧面12a、14a，彼此相对地沿着上游侧块12、下游侧块14的纵向形成凹槽18、20，由此，形成用于纵向供给涂敷液的袋22。此外，与袋22的纵向方向的中央连通地设置供给涂敷液的未图示的供给口。此外，比袋22靠基端侧的侧面12b、14b彼此紧贴，比袋22靠顶端侧的侧面12a、14a成为形成狭缝16的狭缝侧面。
这样构成的涂敷头10相对于在图1中由箭头A表示的方向行进的薄板状构件S，将涂敷头10的纵向朝向薄板状构件S的宽度方向，将其顶端部向上，在薄板状构件S的下侧与该薄板状构件S可滑动接触地配置。而且，供给的涂敷液充满袋22，由此在涂敷头10的纵向扩展，通过狭缝16从涂敷头10的顶端即狭缝16的开口端喷出，在薄板状构件S的表面(下面)涂敷。
作为涂敷头10的材料，优选对涂敷液具有耐腐蚀性并且刚性高的材料，例如优选碳化钨等超硬合金或SUS(不锈钢)、不胀钢等。
须指出的是，在本实施方式的图1中，表示上游侧块12、下游侧块14作为不同构件组合，由此构成涂敷头10的例子，但是并不局限于此，上游侧块12、下游侧块14也可以一体形成。
这样的涂敷头10的顶端部23的表面尤其在使用较多地包含有机溶剂的涂敷液的情况下，在有机溶剂蒸发时被冷却等，容易发生温度变化。这样的温度变化成为在涂敷头10的顶端部23发生翘曲的原因。此外，使涂敷头10的顶端面与薄板状构件S滑动接触而进行涂敷，所以涂敷头10的顶端面的形状大大影响涂敷精度。涂敷头10的顶端面需要以高硬度并且高加工精度形成。
由此，在本发明中，如图2所示，对上游侧块12、下游侧块14的至少顶端部(头顶端部23)实施高硬度的耐磨损涂层24(也简称为“涂层”)。这里，“上游侧块12、下游侧块14的至少顶端部”包含上游侧块12、下游侧块14的顶端部的表面中形成有喷出口的头顶端部23的顶面23a、从该喷出口进入狭缝16内的狭缝壁面23b、与该顶面23a连续的头顶端部23的侧面23c中的任意一个以上。
以下，关于耐磨损涂层24，在上游侧块12、下游侧块14是同样的，所以就下游侧块14加以说明，省略关于上游侧块12的详细的说明。
图3是说明耐磨损涂层24相对于下游侧块14的顶端部的形成方法的说明图，图4和图5是说明耐磨损涂层24的具体的形成过程的说明图。
如图3所示，使用与下游侧块14的顶端部嵌合的压粉体电极26，在油中或气中使下游侧块14的顶端部和压粉体电极26之间产生脉冲状的放电，通过其放电能量，在下游侧块14的顶端部堆积、扩散和(或者)熔敷压粉体电极26的电极材料或该电极材料的反应物质，从而形成耐磨损涂层24。
作为压粉体电极26，是指将以TiC(碳化钛)为主成分的导电材料的粉末或以cBN(立方晶氮化硼)为主成分的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体所构成的电极。
以TiC为主成分的导电材料、以cBN为主成分的导电材料有时包含金属(例如Ti(钛)、Ni(镍)、Co(钴)等)或合金(例如包含Cr(铬)的Co合金等)，以cBN为主成分的导电材料的粉末中也包含对表面进行了镀镍的cBN的粉末。
此外，“堆积、扩散和(或者)熔敷”包含“堆积”、“扩散”、“熔敷”、“堆积和扩散2个的混合现象”、“堆积和熔敷2个的混合现象”、“扩散和熔敷2个的混合现象”、“堆积、扩散和熔敷3个的混合现象”中的任意一个。
耐磨损涂层24例如如图4所示那样形成。即，如图4(a)所示，首先，下游侧块14的顶端部(顶面23a、狭缝壁面23b、侧面23c)以比成形品形状小的方式磨削均匀的厚度。磨削的厚度优选是0～50μm，更优选是0～10μm。
接着，如图4(b)所示，使用图3的压粉体电极26，以比成形品形状厚的方式形成耐磨损涂层24(壁隆起)。这时，耐磨损涂层24的厚度(壁隆起厚度)优选是5～100μm，更优选是5～50μm。
然后，如图4(c)所示，均匀地磨削图4(b)中形成的耐磨损涂层24的表面，使得涂敷头10变为成形品形状。成形品形状的耐磨损涂层24的厚度优选是0～50μm。
须指出的是，所谓成形品形状是指在头顶端部23的母材涂敷耐磨损涂层24而形成涂敷头的最终方式的头顶端部形状。
作为下游侧块14的顶端部或耐磨损涂层24的磨削方法，虽然未特别限制，但是优选是使用磨床等。
耐磨损涂层24的形成方法并不局限于图4。例如，也可以如图5(a)所示，最初不磨削下游侧块14的顶端部，如图5(b)所示，直接在下游侧块14的顶端部形成耐磨损涂层24，然后如图5(c)所示，均匀磨削，使得耐磨损涂层24的表面变为成形品形状。在图5(c)中，成形品形状与形成耐磨损涂层24之前相同，但是耐磨损涂层24的电极材料等扩散和(或者)熔敷到下游侧块14的主体内部，所以能使下游侧块14的顶端部变为高硬度。
此外，也可以对磨削的耐磨损涂层24的表侧分别进行玻璃丸喷丸处理、喷丸硬化处理等喷丸强化处理。须指出的是，为了以高精度精加工下游侧块14的顶端部，也可以对形成的耐磨损涂层24进行研磨等磨削处理。由此，对耐磨损涂层24的表面能提供残留压缩应力，能提高疲劳强度。
然后，在下游侧块14、上游侧块12各自的顶端部的表面形成耐磨损涂层24之后，用螺栓/螺母进行组合，由此能获得涂敷头10。
这样，在涂敷头10的至少顶端部，通过脉冲放电形成耐磨损涂层(例如TiC)，由此能在涂敷头10的顶端部堆积、扩散和(或)熔敷耐磨损涂层而牢固地结合。由此，涂敷头主体(母材)和耐磨损涂层24的边界具有倾斜合金特性，直到涂敷头主体(母材)内部都能形成为高硬度。
因此，耐磨损涂层24不易从涂敷头10的顶端部剥离，能稳定维持涂敷精度。此外，即使极薄地形成耐磨损涂层，也能充分形成为高硬度，所以能在不会大幅度改变涂敷头主体(母材)的性质的情况下抑制翘曲。
以上，说明了本发明的涂敷头、涂敷头的制造方法及涂敷装置的优选实施方式，但是本发明并不局限于所述的实施方式，能采用各种方式。
例如，耐磨损涂层24的形成区域并不局限于所述实施方式的图2～5的方式，可以是上游侧块12、下游侧块各自的顶面23a、狭缝壁面23b、侧面23c中的一个以上。
在所述的实施方式中，说明了在挤压型的涂敷头上形成耐磨损涂层的例子，但是并不局限于此，也能在其他涂敷装置中应用。例如，在对辊涂法、条锭涂敷法、凹版涂敷法、微凹版法等的辊面实施耐磨损涂层时，也能应用本发明。
此外，在所述的实施例中，说明了在涂敷头10(上游侧块12、下游侧块14)的块的顶端部均匀形成耐磨损涂层而形成为高硬度的例子，但是并不局限于此，作为涂敷头10中产生了缺陷的部分的修补方法，也能应用本发明。这时，耐磨损涂层的厚度可形成为1000μm以下。
本发明的涂敷头和涂敷装置适合于从狭缝顶端喷出涂敷液从而在薄板状构件上涂敷的方法，特别是适合于涂敷以有机溶剂为主成分的涂敷液的情况、使狭缝顶端部与薄板状构件接触而进行涂敷的情况。例如，能在光学补偿薄膜、反射防止薄膜等光学薄膜的制造工序中，涂敷光学用涂敷液的情况等范围广的领域中应用。
[实施例]
下面，根据实施例，说明本发明的实质的效果。
使用本发明的涂敷头10，观察对薄板状构件S在一定时间涂敷了包含液晶性化合物的涂敷液时的涂敷头10的顶端部。
作为透明薄板(薄板状构件S)，使用厚度80μm的三醋酸纤维素(フジタツク、富士胶片(株式会社)制造)。然后，一边以30m/分钟输送透明薄板一边在透明薄板的表面涂敷包含液晶性化合物的涂敷液，从而形成光学各向异性层，所述透明薄板形成有取向膜用树脂层，所述取向膜用树脂层通过在每1m2薄膜涂敷25ml长链烷基改性聚乙烯醇(MP-203，クライ(株式会社)制造)的2重量％溶液后，在60℃干燥1分钟而形成。
作为包含液晶性化合物的涂敷液，相对于图6所示的盘状化合物TE(1)41.01质量份，添加环氧乙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸脂(V#360，大阪有机科学(株式会社)制造)4.06质量份、乙酸丁酸纤维素(CAB551-0.2，イ一ストマンケミカル公司制造)0.9质量份、乙酸丁酸纤维素(CAB531-1，イ一ストマンケミカル公司制造)0.21质量份、含有氟脂肪族基的聚合物(メガフアツクF780、大日本油墨(株式会社)制造)0.41质量份、光聚合引发剂(イルガキユア907，日本チバガイギ一(株式会社)制造)1.35质量份、敏化剂(カヤキユア一DET-X，日本化药(株式会社)制造)0.45质量份，最终形成为该混合物的107质量份的甲基乙基酮溶液。在包含该液晶性化合物的液体中进一步添加0.3重量％的氟类界面活性剂(含有氟脂肪族基的共聚合物，メガフアツクF780、大日本油墨(株式会社)制造)。
[实施例1]
关于上游侧块12和下游侧块14，进行比成形品形状小5μm的磨削后，使用图3所示的压粉体电极26，形成厚度10μm的耐磨损涂层24。进而，研磨所形成的耐磨损涂层24，直到形成为成形品形状(研磨5μm)，在涂敷头10的顶端面形成耐磨损涂层24。然后，在透明薄板上涂敷2小时包含所述液晶性化合物的涂敷液后，测定涂敷头10的顶端面的形状精度、翘曲、硬度。评价方法如下。
1)头顶端部23的精度
通过对位于宽度100mm的区域的3μm以上的缺陷的个数进行计数来进行测定。
缺陷的个数：0个…◎，1个…○，2～4个…△，5个以上…×。
2)头顶端部23的翘曲
在磨床上通过度盘式指示器测定1m长的起伏的P-V值。
翘曲：5μm以下…◎，超过5μm～10μm…○，超过10μm～20μm…△，超过20μm…×。
3)硬度
通过简易硬度计(ミツトヨHARDMATIC UD-410)测定。
硬度：HV1000…◎，HV700…○，HV500…△，HV300…×。
4)综合评价
关于所述1)～3)的项目，全部为◎，就表示为◎，全部为○以上，就表示为○，有一个为×，就表示为×，在表1中表示其结果。
[实施例2]
关于上游侧块12和下游侧块14，与成形品形状相比，磨削45μm后，使用图3所示的压粉体电极26，形成50μm厚度的耐磨损涂层24，再研磨厚度5μm，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[实施例3]
关于上游侧块12和下游侧块14，与成形品形状相比，磨削90μm后，使用图3所示的压粉体电极26，形成100μm厚度的耐磨损涂层24，再研磨厚度10μm，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[实施例4]
关于上游侧块12和下游侧块14，加工为与成形品形状相同的尺寸后，使用图3所示的压粉体电极26，形成50μm的厚度的耐磨损涂层24，再研磨厚度50μm，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[实施例5]
关于上游侧块12和下游侧块14，与成形品形状相比，磨削10μm后，使用图3所示的压粉体电极26，形成50μm的厚度的耐磨损涂层24，再研磨厚度40μm，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[比较例1]
使用没有形成耐磨损涂层24的上游侧块12和下游侧块14，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[比较例2]
在上游侧块12和下游侧块14的顶端面不形成耐磨损涂层24，而是粘贴厚度2mm的超硬合金(组成与所述压粉体电极26同样)，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[比较例3]
在上游侧块12和下游侧块14的顶端面不形成耐磨损涂层24，而是进行100μm的化学镀敷(组成是HCr)，此外与实施例1同样。表1表示其结果。
[表1]
  耐磨损涂层   涂层厚度(μm)   边缘顶端的形状精度   翘曲   硬度   综合评价   备注
 实施例1   本方法   10   ○   ◎   ○   ○   良好
 实施例2   本方法   50   ◎   ◎   ◎   ◎   良好(最佳模式)
 实施例3   本方法   100   ◎   ○   ◎   ○   良好
 实施例4   本方法   50   ◎   ◎   ○   ○   形状精度良好
 实施例5   本方法   50   ◎   ◎   ◎○   ○   良好
 比较例1   无   -   ×   ○   ×   ×   表面柔软，精度低
 比较例2   粘贴   -   ○   ×   ◎   ×   发生翘曲
 比较例3   化学镀敷   120   △×   ○   △   ×   在镀敷的不均匀部产生缺陷
如表1所示，在涂敷头10的顶端部形成有耐磨损涂层24的本发明的实施例1～5中，能将顶端部的表面形成为高加工精度且高硬度。因此，翘曲能抑制在10μm以下。而在涂敷头10的顶端部没有形成耐磨损涂层24的比较例1～3中，无法同时满足顶端面的加工精度和硬度，在一部分产生翘曲。
通过比较实施例2、5可以知道，即使最终形状相同，但在耐磨损涂层24的形成过程中，通过开始多磨削，正因如此壁较多地隆起，然后再进行磨削而取得的耐磨损涂层能显著提高涂敷头10的顶端面的硬度和形状精度。这是因为，在涂敷头10的主体内部较多地埋入耐磨损涂层的构成部分。
此外，通过比较实施例4、比较例1可以知道，开始不磨削涂敷头10的顶端部，直接形成耐磨损涂层后，完全磨削该形成的量的实施例4，也能较高地维持顶端部的硬度和形状精度。
相对于此，在比较例1中，涂敷头10的顶端部不是高硬度，所以顶端部比较柔软，形状精度下降。此外，在比较例2中，能将顶端部形成为高硬度且高加工精度，但是由于是粘贴异种金属的构造，所以产生了翘曲。
此外，在比较例3中，对顶端部进行了超硬合金的化学镀敷，但产生不均匀的部分，从这里产生了缺陷。
通过以上可知，根据在涂敷头10的顶端部形成耐磨损涂层的本发明，能抑制涂敷头10的顶端部的翘曲，能提高涂敷精度。
下面，研究了在涂敷头形成撞击痕迹的情况。
[实施例6]
在涂敷头的顶端面形成深度0.8mm、宽度2mm、长度5mm的撞击痕迹。使用制作为与该撞击痕迹的形状一致的大小的压粉体电极，形成1000μm厚度的耐磨损涂层，再研磨厚度20μm，此外，用与实施例2同样的条件修补。其结果，能以高精度修补撞击痕迹。

Claims (10)

1.一种涂敷头，其在头顶端部设置具有喷出口的狭缝，从该喷出口喷出涂敷液，其特征在于，
在所述头顶端部的表面涂敷有涂层，
并且该涂层通过涂敷处理形成，所述涂敷处理如下所述，即，使用由将包含TiC(碳化钛)的导电材料的粉末或包含cBN(立方晶氮化硼)的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体构成的压粉体电极，在油中或气中使所述头顶端部和所述压粉体电极之间产生脉冲放电，通过其放电能量，使所述压粉体电极的电极材料或该电极材料的反应物质附着在所述头顶端部。
2.根据权利要求1所述的涂敷头，其特征在于，
所述涂层通过磨削在所述涂敷处理的作用下涂敷为比成形品形状的涂层厚度厚的层而形成。
3.根据权利要求1所述的涂敷头，其特征在于，
所述涂层涂敷在将所述头顶端部的表面磨削与成形品形状的涂层厚度相同或其以下的厚度而成的凹陷部分。
4.根据权利要求2或3所述的涂敷头，其特征在于，
所述成形品形状的所述涂层厚度是1000μm以下。
5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的涂敷头，其特征在于，
涂敷有所述涂层的头顶端部的由直线度表示的翘曲为5μm/m以下。
6.一种涂敷装置，其特征在于，
具有权利要求1～5中的任意一项所述的涂敷头，通过使该涂敷头相对于被涂敷构件相对地在一方向移动，在被涂敷构件的表面上涂敷涂敷液。
7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的涂敷头，其特征在于，
所述涂敷液包含有机溶剂。
8.一种涂敷头的制造方法，所述涂敷头在头顶端部设置具有喷出口的狭缝，从该喷出口喷出涂敷液，所述涂敷头的制造方法的特征在于，
包括如下工序，即，使用由将包含TiC(碳化钛)的导电材料的粉末或包含cBN(立方晶氮化硼)的导电材料的粉末压缩成形的压粉体、或将该压粉体加热处理后的处理完毕压粉体构成的压粉体电极，在油中或气中使所述头顶端部和所述压粉体电极之间产生脉冲放电，通过其放电能量，使所述压粉体电极的电极材料或该电极材料的反应物质附着在所述头顶端部，由此对所述头顶端部进行涂敷。
9.根据权利要求8所述的涂敷头的制造方法，其特征在于，
包括：
将所述头顶端部从成形品形状磨削50μm以下的厚度的工序；
在所述被磨削的头顶端部，通过所述压粉体电极将所述电极材料或该电极材料的反应物质涂敷5～100μm的厚度的工序；
磨削所述被涂敷的电极材料或该电极材料的反应物质，直到成为所述成形品形状的工序。
10.根据权利要求8所述的涂敷头的制造方法，其特征在于，
包括：
在所述头顶端部，通过所述压粉体电极将所述电极材料或该电极材料的反应物质涂敷5～100μm的厚度的工序；
磨削所述被涂敷的电极材料或该电极材料的反应物质，直到成为成形品形状的工序。
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