CN101231828A - 画素修补方法及影像显示系统 - Google Patents

Abstract

本发明是有关于一种画素修补方法及影像显示系统。该一种画素修补方法，用于一薄膜晶体管基板，其中薄膜晶体管基板具有一基板、一资料线及一画素，画素中设置有一绝缘层、至少一画素电极以及至少一反射层。资料线设置于基板上，绝缘层设置于资料线上；画素电极设置于绝缘层上，反射层设置于画素电极上。画素修补方法包含下列步骤：提供一能量束；以及以能量束焊接画素的反射层与资料线。本发明还公开了该影像显示系统。本发明能够修补显示用的画素。

Description

画素修补方法及影像显示系统

技术领域

本发明涉及一种修补方法及显示系统，特别是涉及一种画素修补方法及影像显示系统。

背景技术

随着数码时代的来临，液晶显示装置的技术亦快速成长，已成为不可或缺的电子产品，相对地对于液晶显示装置的技术及功能要求则越来越高，尤其具有轻、薄、短小等特性的液晶显示装置，更是扮演着相当重要的角色，目前液晶显示装置已被广泛地应用在各式电子产品上，例如手机、个人数码助理(Personal Digital Assistant，PDA)及笔记型电脑(Notebook，NB)等，而对于小尺寸的液晶显示装置的无亮点的需求，则为液晶显示装置的技术要项之一。

目前，液晶显示装置具有一液晶显示面板及一背光模组，背光模组作为光源以提供光线穿过液晶显示面板来显示影像，液晶显示面板具有一薄膜晶体管基板、一液晶层及一彩色滤光片基板，而液晶层设置于薄膜晶体管基板及彩色滤光片基板之间。薄膜晶体管基板控制液晶层中液晶的旋转方向使得穿透彩色滤光基板的出光量得以控制，因此液晶显示装置可显示出各种不同的色彩。

请参照图1所示，对于现有的薄膜晶体管基板1而言，其具有多条资料线11、多条扫描线12及多个画素13，各画素13具有一薄膜晶体管131及画素电极132，薄膜晶体管131分别与资料线11及扫描线12电性连接。

薄膜晶体管基板1可应用于大尺寸或小尺寸的液晶显示面板。对于大尺寸显示面板来说，若显示面板的薄膜晶体管基板上具有无法正常显像的亮点画素，通常可以将画素的储存电容两端导通，亦即将画素电极与共通电极导通，以使画素电极与共通电极等电位而成为暗点。

但是，对于小尺寸显示面板来说，通常为了开口率考量并不会在薄膜晶体管基板1侧设置额外的共通电极，因此，大尺寸面板的修补方法并无法应用于小尺寸的面板上。所以，一般而言，当小尺寸的液晶显示面板有亮点时，例如于画素电极132上的缺陷W，则通常会被列为不良品，并淘汰而不贩售，因此当有上述情形发生时，则不仅降低生产品质，更浪费制造成本。

因此，如何提供一种画素修补方法及影像显示系统，以期能够修补显示用的画素，实属当前重要课题之一。

发明内容

有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种能够修补显示用的画素的画素修补方法及影像显示系统。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种画素修补方法，用于一薄膜晶体管基板，其中该薄膜晶体管基板具有一基板、一资料线及一画素，其中该画素中设置有一绝缘层、至少一画素电极以及至少一反射层，该资料线设置于该基板上，该绝缘层设置于该资料线上，该画素电极设置于该绝缘层上，该反射层设置于该画素电极上，该画素修补方法包含：提供一能量束；以及以该能量束焊接该画素的该反射层与该资料线。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的画素修补方法，其中所述的能量束为激光。

前述的画素修补方法，其中所述的画素电极的材质为铟锡氧化物、铟锌氧化物或铝锌氧化物。

前述的画素修补方法，其中所述的反射层的材质为一金属。

前述的画素修补方法，其中所述的画素以正常显白(Normal White)模式驱动，该画素在用能量束焊接之前为一亮点画素。

本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种影像显示系统，其具有一薄膜晶体管基板，该薄膜晶体管基板包含：一基板；一资料线，设置于该基板上；一绝缘层，设置于该资料线上；至少一画素电极，设置于该绝缘层上；至少一反射层，设置于该画素电极上；以及一连结部，穿设于该绝缘层，并连接该反射层与该资料线。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的影像显示系统，其中所述的连结部以激光焊接反射层与资料线所形成。

前述的影像显示系统，其中所述的画素电极的材质为铟锡氧化物、铟锌氧化物或铝锌氧化物。

前述的影像显示系统，其中所述的反射层的材质为金属。

前述的影像显示系统，其更包含一画素，其中绝缘层、画素电极、反射层与连结部设置于该画素中。

承上所述，因依本发明的画素修补方法及影像显示系统，藉由能量束焊接画素中的反射层与资料线，以使能量束焊接时形成的连结部穿射绝缘层，并连接于反射层与资料线。与现有技术相较，本发明于画素有亮点时，则利用连结部连接反射层与资料线的画素修补方法，让画素电极的电位随着资料线的电位而改变，即可使影像显示系统修复为无亮点状态。此种方式，可避免薄膜晶体管基板一有亮点的画素就需淘汰的情形，更于修补画素后，可控制画素电极的电位，即画素电极的电位随着资料线的电位而改变，让有亮点的画素转变为非亮点的画素，进而提升制造良率及节省生产成本。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1为显示现有的一种薄膜晶体管基板，其中一画素具有一开口的示意图；

图2A为显示依本发明较佳实施例的一种薄膜晶体管基板的上视图；

图2B为图2A中线段AA’的剖面图；

图2C与图2D为依本发明较佳实施例的画素修补方法的示意图；

图3为显示依本发明较佳实施例的一种液晶显示装置的示意图；以及

图4为显示依本发明较佳实施例的一种电子装置的示意图。

1：薄膜晶体管基板    11：资料线

12：扫描线           13：画素

131：薄膜晶体管      132：画素电极

2：薄膜晶体管基板    21：基板

211：绝缘层          212：透明玻璃基板

22：资料线           23：画素

230：薄膜晶体管      231：绝缘层

232：画素电极        233：反射层

24：扫描线           25：连结部

3：液晶显示装置      4：背光模组

5：矩阵显示面板      51：薄膜晶体管基板

511：基板            5111：绝缘层

5112：透明基板       512：资料线

513：绝缘层          514：画素电极

515：反射层          516：连结部

52：液晶层           53：彩色滤光片基板

6：电子装置            61：矩阵显示面板

611：薄膜晶体管基板    62：输入单元

A-A’：直线            L、L’：能量束

S：光线                W、H：缺陷

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的画素修补方法及影像显示系统其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参照图2A所示，为本实施例的薄膜晶体管基板2的上视图，薄膜晶体管基板2具有一基板21、多条资料线22、多个画素23、以及多条扫描线24。薄膜晶体管基板2上扫描线24与画素23上的晶体管230的闸极电性连接，晶体管230受到扫描线24所控制而与资料线22导通。此外，薄膜晶体管基板2于实施上具有多条资料线22、多个画素23、及多条扫描线24。

薄膜晶体管基板2用于半穿反式的矩阵面板，通常半穿反式矩阵面板的画素中分别设有穿透区与反射区。在画素23中，一透明的画素电极232设置在穿透区上，一反射层233设置在反射区上。薄膜晶体管基板2可配合主动光源，主动光源产生的光线穿过穿透区来显示影像，外界光源从反射区反射之后可显示影像。

请参照图2B所示，其中，图2B为图2A中线段AA’的剖面图，线段AA’通过此画素23与另一画素23之间的资料线。基板21具有一缓冲层211及一透明玻璃基板212；而在各画素23中则设置一绝缘层231、至少一画素电极232以及至少一反射层233，薄膜晶体管230与画素电极232电性连接，并使画素电极232与资料线22(如图2A所示)相互导通。此外，画素23于实施上以正常显白(Normal White)模式驱动。

基板21的缓冲层211设置于透明玻璃基板212上，资料线22则设置于基板21上，绝缘层231设置于资料线22上，画素电极232设置于绝缘层231上，反射层233则设置于画素电极232上。此外，本实施例的绝缘层231于实施上为一平坦层，其材质为光阻材料为绝缘材料，甚至可为具有平坦效果的材质；而反射层233的材质为一金属；画素电极232的材质可为铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)或铝锌氧化物(AZO)。

当画素23受制程变异等因素影响而产生断裂或是如图示中的缺陷H时，则此画素23的画素电极232将无法获得足够的电位或是电位不准确，甚至无法有效控制画素电极232的电位，意即此画素23为一亮点画素或是暗点画素，若画素23以正常显白模式驱动则其将成为亮点画素。此时，画素23可藉图2C中的修补方法进行修补。

请参照图2C所示，画素23的反射层233与资料线22以能量束L来焊接。本实施例的能量束L的照射方向，于实施上可自反射层233与画素电极232向资料线22照射，以击穿反射层233至资料线22，而反射层233受到能量束L照射，因而受热产生熔化，使反射层233熔化部份穿过画素电极232与绝缘层231而流向资料线22，且反射层233熔化部份形成一连结部25，其穿设绝缘层231并连接画素电极232及资料线22，因而画素电极232的电位将与资料线22相同。

另一方面，如图2D所示，另一能量束L’可自基板21朝向反射层233方向照射，藉以击穿资料线22至反射层233，使资料线22受能量束L’照射所产生的热能而熔化，资料线22熔化部份则通过绝缘层231流向画素电极232及反射层233，而资料线22熔化部份形成连结部25，其穿设绝缘层231并同时连接资料线22及画素电极232。因而可产生与图2C同样的效果。

对于半穿反式的亮点画素23来说，藉由前述能量束L修补方法来焊接画素23的反射层233与资料线22，虽然修补的画素23呈现的亮度将随资料线上的资料而变动，但是其并非固定为一个亮点，这种方式可避免一有亮点的薄膜晶体管基板2就淘汰的情形，更于修补薄膜晶体管基板2后，可使画素电极232的电位随着资料线22的电位而改变，让有亮点的画素23转变为非亮点的画素23，进而提升制造良率及节省生产成本。

本实施例的画素修补方法可应用于各种电子装置、或平面显示装置等影像显示系统上。请参照图3所示，在另一实施例的影像显示系统中具有一液晶显示装置3，其包含一矩阵显示面板5及一背光模组4，而背光模组4输出一光线S至矩阵显示面板5，以使矩阵显示面板5显示影像。

于本实施例中，矩阵显示面板5，具有一液晶层52以及一彩色滤光片基板53及薄膜晶体管基板51，而薄膜晶体管基板51具有一基板511、一资料线512、一绝缘层513、至少一画素电极514、至少一反射层515以及一连结部516，且基板511具有一缓冲层5111及一透明基板5112。其中，液晶层52设置于薄膜晶体管基板51与彩色滤光片基板53之间。矩阵显示面板5包含多个画素，绝缘层513、画素电极514、反射层515与连结部516设置于其中一个画素中。

本实施例的薄膜晶体管基板51及其基板511、资料线512、绝缘层513、画素电极514、反射层515与上述实施例的薄膜晶体管基板2及其基板21、资料线22、绝缘层231、画素电极232、反射层233具有相同的构成，设置、特征及功效，故于此不再赘述。

此外，矩阵显示面板5于实施上为有机发光二极管面板，或是扭转向列型(Twisted Nematic，TN)、多象限垂直配向(Multi-domain VerticalAlignment，MVA)、横向电场驱动(In-Plane Switching，IPS)、边缘电场驱动(Fringe-Fiele Switching，FFS)、穿透式(Transmissive)、反射式(Reflective)、半穿反式(Transflective)、或低温多晶硅(LTPS，LowTemperature Poly-Si)的液晶显示面板。

当矩阵显示面板5中的画素具有亮点时，意即画素具有缺陷H，则可藉由前述实施例的画素修补方法来修补，即利用能量束来焊接反射层515与资料线512以形成连结部516，以使资料线512与画素电极514导通，因而亮点可被修正为非亮点。

当然，本实施例的画素修补方法于实施上，可应用于上述的各种矩阵显示面板5，而在此则以画素修补方法应用于半穿反式的液晶显示面板为例。

另外，请参照图4所示，再一实施例的一电子装置6包含一矩阵显示面板61及一输入单元62，其中，矩阵显示面板61具有薄膜晶体管基板611，而矩阵式显示面板61与薄膜晶体管基板611分别与前述实施例的矩阵显示面板5与薄膜晶体管基板51具有相同构成，故于此不再赘述。

输入单元62与矩阵显示面板61耦合，并提供输入至矩阵显示面板61，以使矩阵显示面板61显示输入单元62所指定的影像或资料。在本实施例中，电子装置6可为移动式电话、数码照相机、个人数码助理、笔记型电脑、桌上型电脑、电视机、车用显示器、头戴式显示器、印表机荧幕、MP3播放器、掌上型游戏或可携式DVD机等。

综上所述，因依本发明的画素修补方法及影像显示系统，藉由能量束焊接画素中的反射层与资料线，以使能量束焊接时形成的连结部穿射绝缘层，并连接于反射层与资料线。与现有技术相较，本发明于画素有亮点时，则利用连结部连接反射层与资料线的画素修补方法，让画素电极的电位随着资料线的电位而改变，即可使影像显示系统修复为无亮点状态。此种方式，可避免薄膜晶体管基板一有亮点的画素就需淘汰的情形，更于修补画素后，可控制画素电极的电位，即画素电极的电位随着资料线的电位而改变，让有亮点的画素转变为非亮点的画素，进而提升制造良率及节省生产成本。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种画素修补方法，用于一薄膜晶体管基板，其特征在于其中该薄膜晶体管基板具有一基板、一资料线及一画素，其中该画素中设置有一绝缘层、至少一画素电极以及至少一反射层，该资料线设置于该基板上，该绝缘层设置于该资料线上，该画素电极设置于该绝缘层上，该反射层设置于该画素电极上，该画素修补方法包含：

提供一能量束；以及

以该能量束焊接该画素的该反射层与该资料线。

2.根据权利要求1所述的画素修补方法，其特征在于其中所述的能量束为激光。

3.根据权利要求1所述的画素修补方法，其特征在于其中所述的画素电极的材质为铟锡氧化物、铟锌氧化物或铝锌氧化物。

4.根据权利要求1所述的画素修补方法，其特征在于其中所述的反射层的材质为一金属。

5.根据权利要求1所述的画素修补方法，其特征在于其中所述的画素以正常显白模式驱动，该画素在用能量束焊接之前为一亮点画素。

6.一种影像显示系统，其特征在于具有一薄膜晶体管基板，该薄膜晶体管基板包含：

一基板；

一资料线，设置于该基板上；

一绝缘层，设置于该资料线上；

至少一画素电极，设置于该绝缘层上；

至少一反射层，设置于该画素电极上；以及

一连结部，穿设于该绝缘层，并连接该反射层与该资料线。

7.根据权利要求6所述的影像显示系统，其特征在于其中所述的连结部以激光焊接反射层与资料线所形成。

8.根据权利要求6所述的影像显示系统，其特征在于其中所述的画素电极的材质为铟锡氧化物、铟锌氧化物或铝锌氧化物。

9.根据权利要求6所述的影像显示系统，其特征在于其中所述的反射层的材质为金属。

10.根据权利要求6所述的影像显示系统，其特征在于更包含一画素，其中绝缘层、画素电极、反射层与连结部设置于该画素中。

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