CN101101757A - 磁头滑块的检查方法及检查装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供的磁头滑块检查方法是一种大致呈长方体形状的磁头滑块的检查方法,其包括如下步骤:将媒体相对面或成为媒体相对面的表面的第一表面之外的表面作为下表面而支撑所述磁头滑块,同时,将磁头滑块向上方移动,并停止在检查位置上的移动步骤(S2、S3);利用预先将光轴对准检查位置而设置的第一相机检查第一表面的同时,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第二相机检查不同于第一表面也不同于下表面的所述磁头滑块的第二表面的检查步骤(S4)。通过本发明可以抑制对磁头滑块的影响的同时有效地进行磁头滑块的外观检查。
Description
技术领域
本发明涉及一种磁头滑块的检查方法及检查装置,特别是关于一种,用于硬托架上的磁头滑块的光学检查方法及其装置。
背景技术
磁头滑块的形成方式如下:在A1203-TiC等陶瓷晶圆上利用薄膜技术形成读写元件,并将该晶圆切断成构成媒体相对面的表面在长度方向上排成一列的长形条,进而,将长形条切断成一个个磁头滑块。在晶圆上形成读写元件时,在成膜面上附带各个磁头滑块的编号,并在切出晶圆之后,通过该编号来管理磁头滑块。磁头滑块从晶圆切断之后,以长形条状态、单个状态、以及组合在磁头折片组合(HGA)的状态下,接受多次通过光学显微镜等装置的外观检查。磁头滑块组合在HGA之后的最终阶段进行检查的话,次品率高,并且不能有效查明其原因。为此,为了掌握在各个工序中的废品产生比例并查明原因及对其进行改善,在每个工序中进行检查是尤为重要的。
主要的外观检查对象是,在媒体相对面或者通过研磨而成为媒体相对面的表面(下称第一表面)上检查附带异物或脱落部位现象,但是,由于磁头滑块编号附在成膜面上,因此,检查第一表面时有必要同时检查成膜面。并且,在长形条的工序管理上,有必要在每个工序上确认磁头滑块编号,并且,反而在成膜面上的实际检查机会多于第一表面。磁头滑块编号的确认也通过显微镜来进行。特定磁头滑块时,晶圆编号与磁头滑块编号等两个编号是必要的,但是,晶圆编号有可能附在成形面的相反侧表面(晶圆背面),此时,有必要利用显微镜对包括第一表面的共计3个表面上进行检查。另外,在本说明书中,磁头滑块的检查不仅包括第一表面等的点检检查、外观的状态检查,还包括确认磁头滑块编号或晶圆编号的工作。
但是,由于长形条非常脆弱,因此,通常放入壳体(托架)内,由此进行保管及移动。图7表示现有技术的一个实施例相关的托架。托架121由框体构成,多个长形条可以同时被收容。托架的两个相对边上设置有台阶部123,长形条B被保持在台阶部123上。如上所述,由于频繁确认磁头滑块编号,因此,为了易于看到磁头滑块编号,使附有磁头滑块编号的成膜面指向上方而收容长形条B。
进行第一表面的外观检查时,首先,在放入托架内的状态下利用光学显微镜对磁头滑块编号进行确认。晶圆编号附在晶圆背面的情况下,通过翻转托架来确认晶圆编号。其次,利用镊子从托架一个一个地取出长形条,并移动备有显微镜的检查台,针对第一表面进行检查。但是,这种检查的质量和效率在很大程度上依赖于操作者的技能(定位、检查时间等),因操作者引起的偏差也很大。由于对脆弱的长形条进行操作,所以,取出长形条、并在检查之后返回到托架的操作需要高度的熟练度,而且,很容易发生因失败而破损长形条或附着污垢等现象,由此构成了次品率高,或者,检查时间长等问题的原因。有时,为了在第一表面上发现缺陷时特定该磁头滑块,保持原状而将其长形条倾斜90度,并再次确认磁头滑块编号,因此,当次品较多时,其检查时间更长。为了缩短检查时间,不得不增加操作者的人数。
为了解决如上所述的问题,目前为止一直致力于实现合理化的磁头滑块的检查方法。专利文献1揭示了从多个方向检查磁头滑块的方法。具体来讲,旋转磁头滑块的支撑体的外周面上固定有多个相机,并将旋转支撑体而改变磁头滑块的方向,由此,利用固定相机来检查外观。作为固定磁头滑块的方法记载了预先利用胶带固定磁头滑块,并将胶带卷在支撑体的方法。
专利文献2揭示了利用镜子将同时检查磁头滑块的多个表面的方法。具体来讲,在作为检查对象的磁头滑块的侧方设置形成45度角度的镜子。把镜子设置在光学显微镜的视野范围内的话,在光学显微镜的视野内可以同时采集磁头滑块与通过镜子映入的磁头滑块侧方状况,从而,不仅仅是磁头滑块的正面,还可以同时检查到侧方状况。
专利文献1:特开1993-223534号公报
专利文献2:特开2002-048716号公报
在专利文献1、2所记载的技术中,从长形条中切出磁头滑块,并且有必要再次把被切断的磁头滑块安装于专用支撑工具上,因此,工作效率不高。安装在支撑工具时使用粘结剂的话,粘结剂有可能直接贴付在磁头滑块上,因此,有可能影响磁头滑块的可靠性。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种抑制对磁头滑块的影响的同时,可以有效地进行磁头滑块的外观检查的检查方法以及检查装置。
本发明相关的磁头滑块检查方法是一种大致呈长方体形状的磁头滑块的检查方法,其包括如下步骤:移动步骤,即,所述磁头滑块通过其第一表面之外的表面作为下表面而被支撑,其中,所述第一表面是媒体相对面或将成为媒体相对面的表面,同时,将所述磁头滑块向上方移动,并停止在检查位置上;以及检查步骤,即,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第一相机检查所述第一表面的同时,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第二相机检查不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁头滑块的第二表面。
如上所述,在本发明的磁头滑块检查方法中,支撑磁头滑块的下表面的同时将磁头滑块向上提升至规定的检查位置上。即,磁头滑块仅仅通过其重量而被支撑,因此,不需要预先利用专用夹具固定磁头滑块等步骤。并且,支撑磁头滑块的下表面是所述第一表面之外的表面,因此,在检查过程当中不会对第一表面施加不必要的作用力,也不会产生附着物,因此,可以简单地保护媒体相对面。
检查步骤还可以包括:利用第一相机检查第一表面的同时,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第三相机来检查不同于第一表面、也不同于下表面、也不同于第二表面的所述磁头滑块的第三表面。
移动步骤包括将多个磁头滑块沿着长度方向排成一列的磁头滑块集合体移动到上方,并停止在检查位置上的步骤,检查步骤之后还可以具备:使被检查磁头滑块之外的磁头滑块到达检查位置而将磁头滑块集合体向长度方向移动,并以移到该检查位置上的磁头滑块为对象重复进行检查步骤。
磁头滑块集合体可以为形成有多个磁头滑块的长形条。
移动步骤包括:仅仅两端通过自身重量而被支撑在支撑体上的长形条的下表面抵接移动平台,并通过把移动平台向上移动,从而使长形条分离于支撑体并向上移动,检查步骤之后还可以具备:将下降移动平台,并将长形条支撑在支撑体上。
磁头滑块集合体可以为,从形成有多个磁头滑块的长形条中切断分离,并利用切断用夹具一同保持的多个磁头滑块。
移动步骤包括:在收容于底部具有贯通孔的托架内的磁头滑块下面上,通过该贯通孔抵接移动平台,并通过将移动平台向上方移动,从而将磁头滑块分离于托架并向上方移动,检查步骤之后还具备:下降移动平台,并将磁头滑块收容于托架内。
检查步骤可以包括:同时检查的磁头滑块的各表面状况同时显示在一个图像显示装置上的功能。
磁头滑块的第一表面朝向上方而被支撑为好。并且,优选的,磁头滑块以贴附有磁头滑块编号的表面成为第二表面而被支撑。
本发明的磁头滑块检查装置,其包括:第一平台,其具有在长度方向上形成多个备磁头滑块的长形条的仅仅两端被自身重量被支撑的支撑体;第二平台,其从长形条的下方与该长形条的下表面抵接,并且,使该长形条从该支撑体分离且移动到检查位置为止而可以上下移动;第一相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到磁头滑块的媒体相对面或成为媒体相对面的表面的第一表面;第二相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于第一表面也不同于下表面的所述磁头滑块的第二表面。
由此,本发明的磁头滑块检查装置可以以长形条的状态下,即,以长形条为单位对磁头滑块进行多面检查。为此,不必为了检查而将磁头滑块改变方向而一次次安装于夹具上,从而实现了合理的检查顺序。并且,支撑磁头滑块的下表面是第一表面之外的表面,因此,在检查过程当中不会对第一表面施加不必要的作用力,也不会产生附着物。
本发明的检查装置还可以具有第三相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于第一表面也不同于下表面,又不同于第二表面的所述磁头滑块的第三表面。
本发明的检查装置还可以包括:可以同时显示各相机的拍摄信息的图像显示装置。
优选的,使第一及第二平台可以在长形条的长度方向上运动而移动地设置为好。
优选的,在支撑体上多个长形条相互平行而被放置,第一平台可以向着垂直于长度方向的方向在水平面的范围内移动。
根据本发明的另一实施例,磁头滑块的检查装置包括:底部具有贯通孔且可以收容磁头滑块的托架;通过贯通孔且抵接在磁头滑块下表面,并且使磁头滑块分离于托架并移动到检查位置为止而可以上下运动的移动平台;预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到磁头滑块的媒体相对面或成为媒体相对面的表面的第一表面的第一相机;预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于第一表面也不同于下表面的所述磁头滑块的第二表面的第二相机。
如上所述,本发明可以提供抑制对磁头滑块的影响的同时,有效进行磁头滑块的外观检查的检查方法以及检查装置。
附图说明
图1表示本发明相关的磁头滑块检查装置的整体结构图。
图2表示本发明相关的磁头滑块检查方法的流程图。
图3是表示磁头滑块的检查中的状况的模式图。
图4表示被显示在图像显示装置上的相机所拍摄图像的概念图。
图5表示将长形条切断成磁头滑块时使用的切断夹具的外形图。
图6表示磁头滑块检查装置的其他实施例相关的简略结构图。
图7表示在现有技术中使用的托架的立体图。
具体实施方式
首先,结合附图针对作为本发明的实施例之一的磁头滑块检查装置进行说明。图1表示本发明相关的磁头滑块检查装置的整体结构图。磁头滑块检查装置1包括:第一平台2,第二平台3,对准检查位置T而设置光轴的第一~第三相机11、12、13,显示第一~第三相机11、12、13的拍摄信息的图像显示装置14。
第一平台2具有作为长形条B的支撑体的托架21,以及支撑托架21的底座22。托架21通过适当方式被固定在底座22上,并且,可以从底座22分离。托架21及底座22均为框体状,托架21对准底座22的框体而被固定。为此,在托架21固定于底座22的状态下,其内部成为开口部。托架21的形成可以使在长度方向上形成有多个磁头滑块S的长形条B因自身重量而被支撑。具体来讲,托架21的相互面对的两个边上形成有可放置长形条B的台阶部23,长形条B的两端部B1、B2被放置在台阶部23上并通过自身重量而被保持。托架21也可以具有利用真空卡具固定长形条B的功能。托架21使多个长形条B具有相互平行的位置关系而保持。
底座22上连接有移动装置(图未示),第一平台2可以在水平面上的,长形条的长度方向x以及垂直于此的方向y上移动。
托架21具有保管长形条B的功能,其具备与现有技术中所使用过的托架相同的结构。不过在本实施例中,托架21使磁头滑块的第一表面朝向上方而构成。在磁头滑块制造工序中的大部分情况下单独使用托架21,仅仅在有必要进行磁头滑块的外观检查的情况下,才组装在磁头滑块检查装置1上。
第二平台3设置在第一平台2的开口部内,并且从长形条B的下方抵接在长形条B的下表面上,由此,从托架21中分离长形条B并移向检查位置T而可以在上下方向X上移动。第二平台3与第一平台2可以联动,由此可以在长形条的长度方向X上移动(以上可以参照图中的粗黑箭头)。
第二平台3的上方设置有第一~第三相机11、12、13。第一相机11设置方式如下:预先对准检查位置T而设置光轴,并且可以拍摄到媒体相对面或成为媒体相对面的表面的磁头滑块的第一表面M1(参照图3)地、面向垂直方向的下方而被设置。第一相机11可以替换200倍与500倍的两个倍率,由此,可以利用恰当的倍率来检查一个磁头滑块的整体第一表面与元件(pole)周围。
第二相机12设置方式如下:预先对准检查位置T而设置光轴,并且可以拍摄到磁头滑块的成膜面地、面向水平方向而被设置。第二相机12可以利用200倍的倍率检查一个磁头滑块的整个成膜面。不过,第二相机12所拍摄到的磁头滑块的表面可以为成膜面之外的其他表面,磁头滑块编号附在其他表面时可以为该表面,也可以检查到有必要检查的磁头滑块的某一特定表面。即,第二相机12可拍摄到的磁头滑块的表面可以为第一表面M1以及下表面之外的任意第二表面M2。
第三相机13也预先对准检查位置T而设置光轴,并且可以拍摄到磁头滑块的背面(晶圆背面侧)地、面向水平方向而被设置。第三相机13可以利用200倍的倍率检查一个磁头滑块的整个背面。当没必要拍摄晶圆背面时,可以省略第三相机13。并且,第三相机13所拍摄的磁头滑块的表面并不一定是晶圆背面,其还可以拍摄到磁头滑块的某一特定表面。即,第三相机13可拍摄到的磁头滑块的表面为,不同于磁头滑块的第一表面M1、下面、以及第二表面M2的第三表面M3。
作为各个相机11、12、13可以使用搭载CCD(Charge-Coupled Device)的数码相机,但是,并不局限于此,可以利用任意拍摄装置。并且,并不局限于上述倍率,也可以采用可变倍率。
各个相机11、12、13均被连接在图像显示装置14上。图像显示装置14将把各个相机11、12、13所拍摄到的数据可以同时显示在被分割的同一画面上。各个相机11、12、13及图像显示装置14也可以连接在图像处理及图形显示用计算机(图未示)上。
接下来,结合图2所示的流程图说明应用上述检查装置的磁头滑块的检查方法。图3表示磁头滑块检查中的状态的模式图,图3(a)为从a-a方向观察到图1的侧视图,图3(b)为从b-b方向观察到图1的侧视图。
(步骤S1)首先,如图1所示,使第一表面朝向上方而将把从晶圆切出的多个长形条B放置在托架21上。如上所述,长形条B是将多个磁头滑块沿着长度方向x排成一列的磁头滑块集合体。磁头滑块大致呈长方体状,其一侧表面上形成有媒体相对面或经研磨而成为媒体相对面的表面的第一表面M1。
(步骤S2)接下来,沿着y轴方向移动第一平台2(图3(a)中的空心箭头方向),由此,使作为检查对象的长形条B移到检查位置T的正下方为止(第二平台3正上方)。
(步骤S3)在此状态下,上升第二平台3。第二平台3通过底座22内部而沿着图3(a)中的实心箭头方向上升,这样,其上端部抵接在作为检查对象的长形条B的下表面上。第二平台3继续上升,长形条B的第一表面M1的背面被支撑在第二平台3而向上移动,并停止在检查位置T上。由于长形条B的仅仅两端部B1、B2通过自身重量而被支撑在托架21上,因此,第二平台3的上端部抵接在长形条B的下表面上,并且,通过第二平台3进一步向上移动,由此,轻易从托架21分离。
(步骤S4)接下来,如图3(b)中的空心箭头以及实心箭头所示,沿着长度方向x移动第一平台2及第二平台3,并且,当作为检查对象的磁头滑块到达检查位置T时停止移动。第一平台2及第二平台3在长度方向x上移动相同距离而预先被调整。另外,还可以仅仅移动第二平台3,从而使作为检查对象的磁头滑块移动到检查位置T上。此时,有必要规定第二平台3的形状,从而避免其与第一平台2之间的相互干涉。
(步骤S5)利用预先对准检查位置T而设置光轴的第一相机11检查作为检查对象的磁头滑块的第一表面M1。第一相机11可以通过自动操作或者菜单操作替换其倍率,从而可以取得第一表面M1的整体图像与两极附近的放大图像。通过观察整体图像,由此,可以检查第一表面M1是否存在划痕或者污垢的现象。两极附近是磁头滑块的功能上特别重要的部位,并且,其属于有必要再利用高倍率进行检查的部位。通过改变倍率并在恰当范围内进行拍摄,由此可以提高检查精度。利用第一相机11进行拍摄的同时,通过预先对准检查位置T而设置光轴的第二相机12获得第二表面M2的整体图像。第二表面M2可以为贴附有磁头滑块编号的成膜面。在成膜面上设置有焊垫(图未示),并且,由于清洗后的污垢或碎屑很容易构成问题,因此很有必要对其进行检查。与此同时,通过预先对准检查位置T而设置光轴的第三相机13获得第三表面M3的整体图像。第三表面M3可以为晶圆背面侧的表面(成膜面的背面)。一般来讲,在该表面上贴附有晶圆编号。另外,同时获得图像,或者说,同时进行检查并不是指严格地同时进行,很显然,可以相差一定的时间间隔。
图4表示被显示在图像显示装置上的相机所拍摄图像的概念图。图像显示装置14的显示屏分为4个界面,在各界面上同时显示出上述第一表面M1的整体图像(右下)、两极附近(图中A部)的放大图像(右上)、第二表面M2的整体图像(左上)、以及第三表面M3(左下)的整体图像。同时显示碎屑等缺陷部C1、C2,并且,还同时显示出磁头滑块编号N1、晶圆编号N2,因此,确认有无缺陷以及特定磁头滑块变得容易。可以取代同时表示4个图像的方式而采用在整个显示屏上依次表示一个个图像的方式,也可以采用选择两个或者三个图像并同时表示的方式。并且,当不需要第三表面M3对应图像时,也可以省略相机等拍摄手段。
(步骤S6)当检查下一个磁头滑块时,使作为下一检查对象的磁头滑块到达检查位置T而沿着长度方向x移动第一平台2及第二平台3(图3(b)中的空心箭头及实心箭头),由此沿着长度方向移动长形条B。其次,以到达检查位置T的磁头滑块为对象重复步骤5。
(步骤S7)当结束一个长形条B检查之后,下降第二平台3,并使长形条B支撑在托架21上。如上所述,由于长形条B的仅仅两端部B1、B2通过自身重量被支撑在托架21上,因此,通过下降第二平台3而长形条B自动被放置在托架21的原来位置上。
(步骤S8)进而对其他长形条B进行检查时,必要次数为止重复上述步骤S2~S7。
如上所述,通过本实施例所述的检查装置及检查方法,可以通过有效且可靠的方法来同时检查磁头滑块的多个表面。即,长形条在收容于托架上的状态下,提升媒体相对面的背面侧而上下移动,由此减少通过镊子等的接触而在检查过程当中对媒体相对面产生损伤的可能性。由于在图像显示装置上同时显示各表面的检查结果,因此,可以轻易找到不合格磁头滑块,由此提高工作效率。碎屑或污垢引起的不合格通常是在待检查各表面上具有关联性,由于同时显示各表面的检查信息,因此,更轻易地进行分析或查找原因。从提高工作效率的角度来看,减少了设置多个利用光学显微镜的检查装置的必要性,由此,对工作空间的消减也有贡献。
并且,在本实施例中,可以使磁头滑块的第一表面朝向上方而保管长形条。由于在磁头滑块的第一表面朝向上方的状态下进行的工序比较多,因此,有必要采取这样的长形条保管方法。在现有技术当中,有必要频繁确认磁头滑块编号,为此,多数采用成膜面朝向上方的方法。但是,在本实施例中,由于可以轻易识别贴付在成膜面上的磁头滑块编号,因此,没必要使成膜面朝向上方而对其进行保管,可以采用使在工序上有利的第一表面朝向上方的保管方法。
在上述说明中,在长形条的状态下检查磁头滑块,但是,从长形条中切出磁头滑块之后也可以适用本发明而进行检查。图5表示将长形条切断成磁头滑块时使用的切断夹具的外形图。切断夹具31包括支撑板33,以及垂直安装于支撑板33上的磁头滑块支撑部32,磁头滑块支撑部32之间设置有间隙34。长形条通过粘接剂被固定在切断夹具31上,并通过规定切断工具而被分离。间隙34的上部构成长形条的切断间隙部,切断工具通过间隙34而切断长形条的切断间隙部,被切断的长形条的各部位(磁头滑块S)被保持在磁头滑块支撑部32上。为此,切断长形条之后的磁头滑块S通过切断夹具31依然构成一体化的集合体。并且,如同上述长形条,被固定在切断夹具31上的磁头滑块S安装于托架21上,由此,可以适用相同的检查方法。
并且,磁头滑块剥离于切断夹具,并成为完全独立的状态之后也可以适用相同的方法。图6表示磁头滑块检查装置的其他实施例相关的简略结构图。第一平台2a具备支撑磁头滑块托架25的托架接受部26。磁头滑块托架25具备收容各个磁头滑块的凹部28,各凹部28的底面具有贯通孔27。贯通孔27也可以作为以每个磁头滑块托架25为单位清洗磁头滑块时的清洗水排水孔而使用。第二平台3a在其上端部上具有销24,其设置方式如下:其通过贯通孔27而接触到磁头滑块下表面上,由此,从磁头滑块托架25中分离磁头滑块且移到检查位置T为止而可以上下运动。
可拍摄到磁头滑块的第一表面M1的第一相机11将其光轴预先对准检查位置T而被设置,与此相同地,可拍摄到磁头滑块的第二表面M2的第二相机12将其光轴预先对准检查位置T而被设置。进而,可拍摄到磁头滑块的第三表面M3的第三相机13将其光轴预先对准检查位置T而被设置。各个相机11、12、13均被连接在图像显示装置14上。这些相机11、12、13以及图像显示装置14的构成如同上述实施例。
检查磁头滑块时,被收容在底面具有贯通孔27的磁头滑块托架25上的磁头滑块的下表面通过贯通孔27接触于第二平台3a的销24,并通过把第二平台3a向上方移动,由此,从磁头滑块托架25提升磁头滑块,并朝向上方移动为好。相机11、12、13的拍摄、以及利用图像显示装置14的图像显示可以完全相同于上述实施例。
Claims (19)
1.检查大致呈长方体形状的磁头滑块的检查方法,其特征在于包括如下步骤:
移动步骤,即,所述磁头滑块通过其第一表面之外的表面作为下表面而被支撑,其中,所述第一表面是媒体相对面或将成为媒体相对面的表面,同时,将所述磁头滑块向上方移动,并停止在检查位置上;及
检查步骤,即,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第一相机检查所述第一表面的同时,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第二相机检查不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁头滑块的第二表面。
2.根据权利要求1所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述检查步骤包括:利用所述第一相机检查所述第一表面的同时,利用预先将光轴对准检查位置而设置的第三相机来检查不同于所述第一表面、也不同于所述下表面、也不同于所述第二表面的所述磁头滑块的第三表面的步骤。
3.根据权利要求1或者2所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述移动步骤包括:将多个所述磁头滑块沿着长度方向排成一列的磁头滑块集合体向上方移动,并在所述检查位置上停止,所述检查步骤之后还具备:使被检查磁头滑块之外的磁头滑块到达所述检查位置而将所述磁头滑块集合体向所述长度方向移动,并以移到该检查位置上的磁头滑块为对象重复进行所述检查步骤。
4.根据权利要求3所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述磁头滑块集合体为形成有多个磁头滑块的长形条。
5.根据权利要求4所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述移动步骤包括:仅仅两端通过自身重量而被支撑在支撑体上的所述长形条的所述下表面抵接移动平台,并通过把所述移动平台向上移动,从而使所述长形条分离于所述支撑体并向上移动,所述检查步骤之后还具备:将下降所述移动平台,并将所述长形条支撑在所述支撑体上。
6.根据权利要求3所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述磁头滑块集合体是,从形成有多个磁头滑块的长形条中被切断分离,并且一同被切断用夹具保持的多个磁头滑块。
7.根据权利要求1或者2所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述移动步骤包括:使收容于底部具有贯通孔的托架内的所述磁头滑块的下表面通过该贯通孔而抵接移动平台,并通过将所述移动平台向上方移动,从而将所述磁头滑块分离于所述托架并向上方移动,所述检查步骤之后还具备:下降所述移动平台,并将所述磁头滑块收容于所述托架内。
8.根据权利要求1至7的任一项所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:在所述检查步骤中,同时检查的所述磁头滑块的各表面状况同时显示在一个图像显示装置上。
9.根据权利要求1至8的任一项所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述磁头滑块使其第一表面作为上表面而被支撑。
10.根据权利要求1至9的任一项所述的磁头滑块的检查方法,其特征在于:所述磁头滑块使贴附有磁头滑块编号的表面成为所述第二表面而被支撑。
11.一种磁头滑块的检查装置,其特征在于包括:第一平台,其具有在长度方向上形成多个磁头滑块的长形条的仅仅两端通过自身重量而被支撑的支撑体;第二平台,其从所述长形条的下方与该长形条的下表面抵接,并且,使该长形条从该支撑体分离且移动到检查位置为止而可以上下移动;第一相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到所述磁头滑块的媒体相对面或成为媒体相对面的表面的第一表面;第二相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁头滑块的第二表面。
12.根据权利要求11所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:该装置包括第三相机,其预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于所述第一表面也不同于所述下表面,又不同于所述第二表面的所述磁头滑块的第三表面。
13.根据权利要求11或者12所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:该装置还包括可以同时显示所述各相机的拍摄信息的图像显示装置。
14.根据权利要求11至13的任一项所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:所述第一相机具有多个倍率。
15.根据权利要求11至14的任一项所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:所述支撑体具有放置所述长形条的台阶部。
16.根据权利要求11至15的任一项所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:所述支撑体使所述第一表面成为上表面而支撑所述长形条。
17.根据权利要求11至16的任一项所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:所述第一及第二平台可以在所述长形条的所述长度方向上联合移动。
18.根据权利要求17所述的磁头滑块的检查装置,其特征在于:在所述支撑体上多个长形条相互平行而被放置,所述第一平台可以向着垂直于所述长度方向的方向在水平面的范围内移动。
19.一种磁头滑块的检查装置,其特征在于包括:底部具有贯通孔且可以收容磁头滑块的托架;通过所述贯通孔且抵接在所述磁头滑块下表面,并且使磁头滑块分离于所述托架并移动到检查位置为止而可以上下运动的移动平台;预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到所述磁头滑块的媒体相对面或成为媒体相对面的表面的第一表面的第一相机;预先将光轴对准检查位置而被设置,并且可以拍摄到不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁头滑块的第二表面的第二相机。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006176617A JP2008010029A (ja) | 2006-06-27 | 2006-06-27 | スライダの検査方法および検査装置 |
JP2006176617 | 2006-06-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101101757A true CN101101757A (zh) | 2008-01-09 |
Family
ID=38873160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA2007101264878A Pending CN101101757A (zh) | 2006-06-27 | 2007-06-19 | 磁头滑块的检查方法及检查装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8040375B2 (zh) |
JP (1) | JP2008010029A (zh) |
CN (1) | CN101101757A (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2053350A1 (de) * | 2007-10-23 | 2009-04-29 | Zumbach Electronic Ag | Vorrichtung zum optischen Vermessen und/oder Prüfen von länglichen Produkten |
JP2010122167A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Daiichi Jyushi Industrial Co Ltd | 表面検査方法とこれを利用した表面欠陥探知装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05223534A (ja) | 1992-02-13 | 1993-08-31 | Hitachi Ltd | 微小物の外観検査方法およびその装置 |
AU4277501A (en) * | 2000-03-24 | 2001-10-03 | Olympus Optical Co., Ltd. | Apparatus for detecting defect |
JP2002048716A (ja) | 2000-07-03 | 2002-02-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 小型部品の外観検査治具およびその治具を用いた検査方法 |
US7147539B1 (en) * | 2000-08-09 | 2006-12-12 | Seagate Technology Llc | Head performance based nano-machining process control for stripe forming of advanced sliders |
US7129484B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-10-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for pattern recognition in energized charge particle beam wafer/slider inspection/measurement systems in presence of electrical charge |
-
2006
- 2006-06-27 JP JP2006176617A patent/JP2008010029A/ja active Pending
-
2007
- 2007-06-19 CN CNA2007101264878A patent/CN101101757A/zh active Pending
- 2007-06-25 US US11/819,032 patent/US8040375B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8040375B2 (en) | 2011-10-18 |
JP2008010029A (ja) | 2008-01-17 |
US20070296812A1 (en) | 2007-12-27 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |