CN101096574A - 陶瓷研磨液 - Google Patents

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仲跻和
李家荣
周云昌
李薇薇
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Abstract

一种陶瓷研磨液，其特征在于它是由磨料、渗透剂、润滑剂、pH值调节剂、表面活性剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料5.0％～20.0％；pH值调节剂10％～20％；渗透剂3％～5％；润滑剂1％～3％；表面活性剂0.1％～1.0％；螯合剂0.1％～1.0％；去离子水为余量。本发明所制备的研磨液的优点是：具有一定的润滑、冷却防锈作用，易于研磨后的清洗，悬浮性能好，金属离子螯合能力强。

Description

陶瓷研磨液
(一)技术领域
本发明涉及一种研磨液，特别是一种陶瓷研磨液。
(二)背景技术
研磨是切片后陶瓷表面的第一次机械加工，磨片的目的去除陶瓷表面的切片刀痕和凹凸不平，使表面加工损伤达到一致，这样在化学腐蚀过程中，表面腐蚀速率才能达到均匀一致。美国发明的多氨19-C是世界上唯一销售量最大的悬浮状磨削液。多氨19-C是一种白色微有刺激性气味的奶状液体，显弱碱性。它的特征有：具有非常高的稀释能力，很强的悬浮特性，具有生物降解能力。多氨19-C的缺点是价格昂贵，粘度大，表面吸附比严重，不容易清洗，导致磨片清洗后表面易出花斑，这些直接影响磨片的成品率，并且对下道工序加工带来危害。因此，如何提高研磨液性能，提高研磨效率，减少陶瓷粉、磨料等粒子和金属离子在表面的吸附，便于清洗，是当前研磨中需解决的问题之一。
(三)发明内容
本发明提供一种陶瓷研磨液，它解决了目前存在的问题，克服了悬浮能力差和金属离子含量高等缺点。
本发明的技术方案：一种陶瓷研磨液，其特征在于它是由磨料、渗透剂、润滑剂、PH值调节剂、表面活性剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料5.0％～20.0％；PH值调节剂10％～20％；渗透剂3％～5％；润滑剂1％～3％；表面活性剂0.1％～1.0％；螯合剂0.1％～1.0％；去离子水为余量。
上述所说的磨料是指SiO2、Al2O3、CeO2、TiO2或碳化硼。
上述所说的PH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或其组合。
上述所说的表面活性剂系采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙稀醚或烷基醇酰胺。
上述所说的渗透剂是指脂肪醇聚氧乙烯醚或磷酸脂。
上述所说的润滑剂是指甘油或聚乙二醇。
上述所说的螯合剂具有水溶性和不含金属离子，可为EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐和胺中的一种或其组合。
本发明所制备的研磨液的优点是：具有一定的润滑、冷却防锈作用，易于研磨后的清洗，悬浮性能好，金属离子螯合能力强。
(四)具体实施方式
实施例1：一种陶瓷研磨液，其特征在于它是由碳化硼磨料、烷基醇酰胺、NaOH、磷酸脂、甘油、六羟基丙基丙二胺和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：碳化硼磨料10％；烷基醇酰胺0.3％；KOH 10％；磷酸脂3％；甘油1％；六羟基丙基丙二胺0.6％；去离子水为余量。
将上述研磨液与去离子水按1∶100稀释，在研磨机上做实验，研磨后的晶片表面光洁，平坦度良好，研磨后的易于清洗。
实施例2：一种陶瓷研磨液，其特征在于它是由Al2O3磨料、三乙醇胺、脂肪醇聚氧乙稀醚、JFC、甘油、四羟基乙基乙二胺和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：Al2O315％；三乙醇胺20％；脂肪醇聚氧乙稀醚0.4％；JFC 5％；甘油2％；四羟基乙基乙二胺0.9％；去离子水为余量。
将上述研磨液与去离子水按1∶100稀释，在研磨机上做实验，研磨后的晶片表面光洁，平坦度良好，易于清洗。

Claims (7)

1、一种陶瓷研磨液，其特征在于它是由磨料、渗透剂、润滑剂、PH值调节剂、表面活性剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料5.0％～20.0％；PH值调节剂10％～20％；渗透剂3％～5％；润滑剂1％～3％；表面活性剂0.1％～1.0％；螯合剂0.1％～1.0％；去离子水为余量。
2、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的磨料是指SiO2、Al2O3、CeO2、TiO2或碳化硼。
3、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的PH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或其组合。
4、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的表面活性剂系采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙稀醚或烷基醇酰胺。
5、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的渗透剂是指脂肪醇聚氧乙烯醚或磷酸脂。
6、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的润滑剂是指甘油或聚乙二醇。
7、根据权利要求1所述的一种陶瓷研磨液，其特征在于所说的螯合剂具有水溶性和不含金属离子，可为EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐和胺中的一种或其组合。
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