CN101094722A - 用于将微流体装置与流体处理装置接口的装置和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明主要涉及用于将微流体装置与分配和流体处理系统接口的装置和方法。具体地,本发明包括以如此方式设计微流体装置的进口,从而利用与现有的工业标准相符的单元接口形式多个单元可以被载入作为单个紧凑装置。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2004年8月4日提交的美国临时专利申请序列No.60/598,598的优先权,其全部内容并入作为参考。
技术领域
本发明涉及用于化学、生物和生化处理或反应的微流体电路领域。更具体地,本发明公开了用于将微流体装置与流体处理装置接口的装置和方法。
背景技术
近年来,制药、生物科技、化学和相关产业已经逐渐采用含有微室和通道结构的装置以用于执行各种不同的反应和分析。这些装置,通常称为微流体装置,允许减少执行一个化验所需要的试剂和样本量。它们还能使其以很可预知和可再现方式并行或依次地发生大量反应而没有人的介入。微流体装置因此保证装置实现微全体分析系统(微-TAS),该定义描述了具有传统实验功能的小型化装置。
通常,在微-TAS装置的所有尝试可以表现为两个方式:根据负责流体运输的力和根据用于指引流体流动的机构。前者称为电动机。后者称为阀门并构成逻辑或模拟促动器,对于多种基本操作是必要的,例如流体的容量定量、流体混合、将一组流体进口连接到一组流体出口、以足够紧密的方式密封容器(根据本发明到气体或到液体通道)而允许流体存储、调节流体流速。微流体网络上的阀门和电动机的组合,由输入装置执行以载入装置,并由读数装置执行以测量分析的结果,使得微-TAS成为可能并可用。随着装置的性能和小型化的逐渐增强,为了研究和商业应用,到宏观领域的可靠和适用的接口的需要成为让使用者开发这些系统的功能的一种需求。
显然,现今的多数试剂以没有专门为微流体设计的形式贮存,且这些形式是不同种类的,例如,在诊断领域和科研领域中的小瓶和试管,药物发现产业中的微板。现存的这些标准(例如,生物分子筛选协会已经定义了微板的公开标准)已经激发了多年的专门为通用标准形式而设计的大量流体处理工具的商业化。仪器的大型安装的底座的可用性引入与流体存储标准不相符的产品变得困难,这是因为与实验空间实用性、维护、成本和使用者习惯的原因。
流体处理装置,也叫做流体处理器、分配装置、样本载入自动机、化合物分配器、分配装置、移液管、移液管工作台,具有转移流体的目的,尤其是液体,从流体贮液器转移到另一流体贮液器。根据它们在过程中的作用,参与典型流体处理过程的组件由此被分为三类:(i)原始流体贮液器的来源,(ii)转移流体的装置,和(iii)流体被移动到的流体贮液器中的容器。
概括地,并不总是确实需要自动分配装置,因为分配操作可以由配有诸如移液管或相似装置的专用工具的人员执行。但是,根据它们的总体特性能描述所有的分配装置,例如运行速度、性能、成本、污染问题和多功能。流体处理装置的期望的需求是尽能的高速(以取得高生产力,以及允许在诸如温度、试剂活性等相似条件下执行化验)、在来源和容器之间的最小污染、每次分配操作时的最小固定成本和最小成本(可消耗)、性能(计量精度、分配的容量范围、足迹等)和多功能(多种形式的相符性、执行的操作类型、来源和容器的自动识别等)。
现有的所有流体处理装置解决或部分解决这些需求,且使用者根据具体的应用和实验环境选择。不同种类的环境,分配仪器-确切为用于流体存储装置-完全不同并采用不同的技术:可弃吸头和吸入装置、浸在流体中的金属钉、吸液针和随后的冲洗和清洁操作、泵和管道、由压电或其他机械装置喷射的液滴。而且,围绕分配技术的构造及其自动化程度大大不同,从制药产业中的化合物实验室管理的复杂安装到单个手持装置。
微流体装置处理在标准试剂化验环境中通常忽略的容量,因此它们通常以分配装置的形式或以容器的形式参与该过程;实际上,不可能将微量流体移动到宏观容器中,因为在化验的随后步骤中使用的检测方法可能达不到灵敏度,或因为反应只需要更大量的样本。微流体分配装置的一个例子是压电喷嘴。微流体容器的一个例子是遗传分析的微阵列。但是,应该注意到,当大量化验以微流体的形式执行时,“微尺度-到-微尺度装置”的流体转移就会变成非常重要;如果那样,微流体装置将会也作为来源参与该过程。
向心装置是微流体装置的特有类别,其中微-流体装置以这种方式在转动轴周围旋转,使得向心加速度在微流体装置自身和包含在微流体装置内的任一流体上产生明显的离心力。如果角动量改变,离心力在径向和切线方向上充当电动机。但是,这种力并行施加到包含在微流体装置内的任一物质,包括被包含在进口中的流体。在大多数的向心微流体装置中,例如Gyros AB、Tecan AG、Burstein科技公司等生产的那些装置。例如,微-流体装置形状为盘形,且转动轴与正面垂直并经过盘的中心。因此,离心力还与盘的表面平行:显然,在表面上制造的非密封输入需要很特有的形状从而防止流体从进口孔溢出。
这些装置中的进口的可能的几何形状是一个圆锥体,其顶点被与其底座平行的平面切开,已知为截锥体,其中进口孔位于被截锥体的顶部上。当包含在进口中的流体上的离心力超过重力和表面张力时,输入贮液器的唯一的可用量是容量的一部分,由比进口孔的最大半径大的半径所描述。这将进口的容量明显限制为实际贮液器容量的一部分,如果流体被分配超过这部分(例如,当处理小容量时流体分配系统的受限的分配精度),则不能防止不期望的溢出。
另外,已知有多种不同的技术,例如,注射模塑约束进口的几何形状。在注射模塑过程中,复制的装置必须从决定其形状的模子中抽出,并且如果先前提到的具有截锥体形状的进口由顶部连接到模子结构,则该操作变得不可行。可以注意到,对于代表性的微流体装置的容量,多数流体的表面张力值特性防止它们当输入端不垂直时流出装置,使得微流体装置能保持静止-以空间的任何方向(例如,水平方向)。当微流体装置受制于小加速度或对于有适当的方向的那些加速度时,这种现象保持有效。
在第一实施例中的接口微流体装置的难题是将流体从传统的来源(例如,小管、微量滴定板或艾本德(Eppendorf)管)载入到微流体装置中的问题。这种接口的难题过去已经典型地提出在:专门的工程学、为给定微流体装置常规的专有分配装置,或适当地“宏观尺度-到-微观尺度界面”的设计提出。这种接口通过将其应用延伸到微观尺度领域,而允许有效使用现有的下部构造和流体载入设备。虽然这种方法具有通过使用现有的下部构造而减少切换成本的优点,但是它时常将该优点限定为随小型化效果产生的优点(例如小的试剂消耗、给定基层的数据点密度等)。
但是,当宏观接口在小型化装置上执行时,通常是大的活动区牺牲地用于输入区及其之间的间隔。这个输入区在用高级高分辨率复制技术制造的装置上执行,有显著的生产成本并减少在固定的微结构的主尺寸(典型为4、6或8寸直径的盘)上的有效空间。不过,依照提到的接口组织的输入的产生增加了显著的加工成本。另外,大的盘直径应该优选保持在标准的微板足迹内,而避免传统的微量滴定板处理器中的盘的管理或对现有处理系统的软件或硬件的需求的问题。当微-装置必须用在为微板形式设计的仪器中时,例如荧光和吸光阅读器、恒温器、成像装置、离心机、振动器、条形码标记器等,最大盘直径的同样限制也是明显的。
目前方法的另外限制是大部分微流体装置根据产生假的三维结构的二维过程而设计和制造。通过以包含在网络中的所有的组件(或它们的一部分)相同的深度蚀刻或有时挤压基层,二维网络被转换成三维微结构层。出于这个原因,大多数的微流体网络基本上为平面或由具有平面构造的多层制得。
这些特性代表在最普通的制造技术中的平版过程。平版印刷需要掩模,且每个掩模在平面基层上典型地对应于给定的蚀刻深度。许多其它的加工过程有相似的约束:例如,基层的激光烧蚀有一个受限的蚀刻深度,而微流体网络典型地在平面基层上产生。还有通过叠层取得的装置基本上是二维,其中不同薄片被切割并叠层在一起。对于热压法同样有效,其中微结构通过将平面基层压在压力机上获得,也对注射模塑技术有效。注射模塑可能是最重要的大量生产技术:底版被蚀刻-在硅、玻璃、SU8、聚醚醚酮或其它材料中-并可以通过电镀到金属模子插入物中来复制。微结构插入物布置在对注入模子中的高温聚合物定形的模孔中,且自从插入物基本产生于平版过程(或实质上的平面技术),以这种方式复制的微结构也分布在一个平面上。
在生产微流体装置过程中通常的问题在于一个事实:通常需要将流体载入装置中的输入必须用不同于在微构造操作中使用的方法制造。这个问题产生于一个需求,即微-流体装置必须从外部载入;因此输入必须到达装置的外表面。输入制造通常需要后处理或特定的制造技术。这些过程的例子是基层本体的激光钻孔、机械钻孔、针穿透过软基层和在含有微结构的基层顶部上包含端口的盖结构的组件。但是,加工过程中的任何另外的过程不是期望的,因为它意味着显著的制造问题,例如成本增加、产量下降、生产率减少、灰尘污染破坏、相对的排列问题和过程质量控制。
具体地,注射模塑过程是制造塑料装置的通用方法。如本领域技术人员已知,介质存储装置出于大量生产规模的考虑可以廉价生产,还因为它们没有穿通连接,且所有的精密分辨率结构、数据被编码的凹坑,可以在单个微平版印刷步骤中复制。当需要穿通结构时,用于制造的模子就变得更为复杂,且模制周期变得更长因而增加了生产成本。例如,穿通连接可能需要另外的其它模子插入物,其应当精确匹配并连接到装置上复制微结构的插入物。在由两个不同插入物形成的装置的零件之间的流体连接意味着插入物位置的很关键的匹配,以及在两个插入物之间的连接中的任一可能的间隙将会被流体聚合物在注入处填充,能潜在地扰乱在复制的块中的流体连接的一种现象。
当它是注射模塑的情况时,其它的生产技术受到用于微流体装置的输入端口的有效和可靠制造的需求的挑战。作为最后一个例子,因为产生灰尘和聚合物残留,其可能会填充毛细管进口并因此阻碍了流体的将来的开口,所以输入端口的简单机械钻孔也是很关键的。
微流体网络的平面结构实际上影响并决定微流体装置的本体结构的整个几何构造。因为所有的微结构位于二维平面上,所以多数基层实际上是平面多面体,特征为具有一个大表面区域(基本比另一个表面大)的两个面,而两个面基本平行于其中微结构所位于的平面。这些面将是多面体的“正面”,而所有余下的面称为“小面”。
可以理解,所有的几何构造,其中尤其为小面的面不能再与该概念有关,例如,通过有限元件分割。例如,盘的侧表面(具有小高度的圆柱体)组成非平面表面,但是相同的表面可以由具有矩形形状的大量小面所表示,并因此这里它可以看作盘的小面。另外,小面的延伸部,压出在由正面所限定的平面之间界定的空间,在所有的情况下可以看作小面(或小面的部分)。
下面的这些考虑,显然,大多数微流体装置基本上有平面结构,“平面”的含义是微结构被放置在空间中的一个或多个表面上。此后,具有基本平面结构的微流体装置也被称为“瓦片(tile)”。
解决上述问题的多种尝试已经在由Caliper生命科学有限公司(Caliper Life Science)提出的专利No.6.251,343中进行了例示,其公开一种接口技术,其中微流体电路的输入由安装在装置的顶部上的包含多个孔的盖产生。该盖板与同微流体网络流体连通的本体结构的端口配对,且孔允许分配流体和应用其中含有流体的电连接。
这种方案依赖于本体结构与盖的接合质量,并具有的优点在于,该盖的制造不需要与微流体装置的制造中需要的相同的复制质量-因此它的成本低(但是损害了另外的生产步骤)。而且,这个方案为了电泳设计,其中输入端口预载有显著量的流体,从而保证填充毛细管并允许电极与毛细管中的流体电接触。这种接口的使用对于需要例如在微-升或次微升级别的非常少量流体的那些装置和技术是很不明显的,因为在盖和芯片之间的接口处收集微量流体更为关键,在不同零件之间的接合点发生。
在另一种方法中,由Aclara生物有限公司的公开号为WO 00/78456的专利,描述一种微流体装置,其接口为平面并制造在微结构层的顶部。接口以这种方式设计以与标准的96或384的微滴定板的井-到-井间距相符,这是制药工业中的发明实验室内的标准。使用这种方法,单个芯片可以从标准的分配系统下载,好像它是单个微-滴定板。多个微流体装置的载入操作因此变成单个装置载入程序的多次重复,而载入时间因此与将被载入的装置数量成比例。
另一种方法公布在Evotec OAI AG的公开号为WO 02/055197的专利中。在这个公开文件中,公开了一种样本载体,其中微反应在与标准的微滴定板相同的井中,但是表现为化验量的显著减少。这种减少通过防止蒸发的专用装置变得可行,其包括用硬盖盖住装置来紧密密封井,通过为了少量分配优化的专用分配装置和为了这种形式设计的读数装置执行。应该强调的是,虽然为了简化载入操作,但是Evotec还商业化了与标准1536/384/96微滴定板形式相符的装置。
这种方法基本接近流体处理和容器的当前机构,通过常规的方法具体提出这些限制(其中的蒸发和分配精度)。尤其,为了完全开发反应小型化,分配精度必须对应于容量的减少来增加,且Evotec因此商业化了具有性能增加的常规的分配装置,以替换在工业中使用的传统系统,其可以构成采用的一个障碍。
这些常规的装置需要基本上不同于常规吸移系统的分配头,例如从其中分配头是可弃(塑料吸头)的技术到分配头部不可弃的技术。与喷射印刷领域不同的是,其中包含在分配头部内的流体在头部使用期间内不变化,这里流体被连续替换,且它们有非常不同的化学属性。最为重要的是会避免任何可能的污染,且不可弃的分配头部的使用因此组成需要清洗和清洗过程的质量检查的限制,否则头部的替换会伴随有操作成本的显著增加。
另一种方法公开在TECAN AG公司提出的公开号为WO 01/87475的专利中。本公开内容描述接口的实施,意味着采用向心微流体盘到传统自动化流体处理系统。这通过在微流体结构占据的区域的内部区域中制造,具有分别对应于行和列的384和96的井-板标准的间隙间距的48个输入井而取得。使用这种方法,一半的微滴定板可以转移到单个微流体装置,而该装置可以载有传统的流体处理装置。不过,由接口占据的表面不能用作另外的微结构,因为流体径向向外流动,并因此在输入中的流体不会到达比输入自身的半径小的微结构。
接口流体处理装置的另一种方法如美国Caplier生命科学公司的美国专利6,620,625和6,149,787中所述。这些公开内容认可用于在药品筛分中的化合物样品的微流体装置的高吞吐量接口的需要。Caliper方法依靠将毛细管浸入液体中(虹吸)产生的毛细管力解决这个难题。根据这个接口,通过首先将毛细管的一端、微流体电路整个部分浸入流体源并随后充满毛细管而获得流体转移。本技术的限制在于采样例如当试剂有不同浓度时所需要的不同量的流体的难度。使用这种技术,不可能在一次操作中转移大量试剂,因为表面张力不会克服重力。这种接口技术的更另一限制在于污染问题。虹吸操作意味着预先虹吸的化合物的残留物可能会转移到下一个井,因此损害了来源的完整性。
还有另一种方法在Capier生命科学有限公司的美国专利号No.6,090,251中公开。该专利公开了一种用于将流体分配到微流体装置中的常规的微结构板。接口被设计为了使流体损失最小,并被优化以并行转移微量流体。虽然,这个方案提高了载入操作的吞吐量,但是,却在多用性方面受到限制,因为有关的量不是任意的并依赖于板的几何结构和有关的流体特性,例如表面张力特性。
还有一种方法在Gyros AB的公开号为WO 03/035538的专利中公开。本公开内容描述了一种适用于向心系统的接口,其中高吞吐量分配的需求通过在固定位置中以高重复率分配液滴而实现,与此并行,微流体装置在分配器下面旋转。这种微流体装置在固定的半径而不是不同的角度位置处出现输入。通过将盘运动与液滴喷射同步,液滴进入出现在盘中的右接受器。这种接口技术优化小量流体的转移速度和计量精度,前提为载入设备是为了这种特定的微流体装置而定制设计。不过,这种分配技术的限制在于污染液滴喷射的头部,其通过非可消耗组件与流体的接触产生。为了避免污染,必须在下一次不同液体的分配操作中再次使用之前精确地清洗。
另一种方法在Orchid生物有限公司的公开号为WO 00/78456的专利中公开。本公开内容是微流体装置接口的一个最初实施,因为流体连接对电子工业比生物化学惯例更容易激励。这些芯片通过流体-紧密槽连接到外面管连接,并且作为被外部促动器施加到试管的压力的结果,液体流入微流体装置内。连接的复杂性使得这个方案对于高吞吐量的液体载入成为不可能,因为每个芯片必须在使用之前被完全连接到载入装置。试管污染是主要的难题,而且它的系统性替换会意味着大量的消耗成本和另外的输给系统。
一种产生微流体装置的制造方法在M.A.Gretillat等人的(传感器和促动器A 60(1997)219-222)中公开。本文章公开了一种用于在Pyrex微流体装置上实现输入的制造方法,其根据多层和多基层结构制造。这种微流体组件、薄毛细管在一层上制造并通过连接孔,与具有更大尺寸的第二层结构、进口连通。进口达到装置的边缘,并且流体载入通过将针插入孔中而成为可能。在这个设计中,进口和微结构位于用相同的技术但独立地制造的两个不同层上。对于总数为四的不同微构造步骤,整个装置的制造需要构造三个不同的平面基层,其中之一在两层之间蚀刻并由该两层共用。
发明内容
在本发明的装置和方法中,多个微-流体装置或瓦片组装在三维空间结构中,同时维持二维接口形式。这种组装允许快速和有效地载入这些微-流体瓦片。根据本发明,多种瓦片可以并行载入,好像它们会是单个传统的微-滴定井板,而不是通过大多数现有的实施依次执行。另外,本发明的微流体瓦片的这些多维特性能通过传统的标准液体处理器装置载入来实现。本发明的三维组件可以是永久的,或优选制成允许分离单个瓦片、或瓦片的一部分,用于其它操作,包括载入、化验处理、化验的读数、流体的布置或组件的部分处理。
为了公开的目的,在输入、进口、出口、端口、连接部、井、贮液器和相似的词之间没有进行区别,全部指流体从微流体网络能进入、或离开的装置。
根据本发明,端口并没有位于基层的平面上,如在现有的方法中,而是位于一个或多个小面上。在示例的一个实施例中,输入位于微流体结构的相同平面中。这使得利用用于复制微结构的相同的制造技术来制造端口成为可能。典型地,端口将会位于接口盖-基层或基层-基层的中间、与其邻接或在其附近;这个接口时常出现在平面的微流体装置中,其中开顶结构在平面的表面上产生,而另一基层关闭顶部以保证流体紧密性。盖和基层可以起到对称作用,例如在两者中的相似的尺寸和出现的微结构,还能在大小、足迹、厚度、尺寸和制造过程上基本不同。
根据本发明制造的一类装置,其由单连通的夹层基层组成,并具有可从夹层外部存取的输入端口。如果它由一块组成并且没有任何的圆形“孔”或“手杆”,则几何物体只被称为单连通。例如,环形室(具有孔)不是单连通,而是球室(即使是空心的)是单连通。圆不是单连通,但是盘和线却是单连通。在单连通的基层中,可以取出一块线绳并线绳的第一端放置在基层的任一点上。当线绳的第二端允许跟随任意路径,而且它可以再次与第一端连接时,线绳形成一个圈。如果总是可以从基层拆卸该圈而不切断线绳或基层,则基层是单连通。换句话说,如果没有任一路径可以使线绳回路脱离成为可能,则基层不是单连通。如果没有来自入口的任何点的路径使该圈抓在基层中,那么它是单连通。
有利地,关于如上所述的本发明的穿通方案,在正面上具有输入,本发明的装置和方法允许使用用于端口和微结构的同样的制造方法,其最小化复制成本和后处理操作。许多生产过程允许在生产微流体结构的并行在小面上产生输入端口。这样减少生产过程的成本并提高相关质量控制。
根据本发明,诸如热压法的生产方法能利用在小面上制造的输入。当温度升高时,热压法技术依赖于聚合物和相似材料的特性的变化,根据本发明形成基层。材料的软化,借助于施加在表面上的压力,允许修改基层表面的形态,达到复制微结构的目的。在本发明的示例性实施例中,能依靠相同的过程制造进口,而不需要对基层的深部分进行任何修改,其将是很难实现并意味着大量材料的移位,还有样本的随后的变形。输入能因此在含有微流体结构的主体中被直接设计,从而复制在单个生产步骤中的微流体组件和进口。
在另一示例性实施例中,通过注射模塑产生的本发明的瓦片优选在小面上允许端口。实际上,穿通进口需要在模子中存有深结构,且它们的设计关于与微流体结构的连接,如前所述,以及关于在喷射期间的流体聚合物的填充行为都关键。该喷射的流量尤其应该允许聚合物到达空腔的所有空的部分,伴随有有限的压力下降和温度减少,而当冲压结构出现在路径上时,这将会变得更困难。典型地,具有低纵横比且放置在复制部分的外部表面上的结构是优选的,当在侧边输入设计的情况下时,因此侧面端口是通过注射模塑复制的装置的一种期望的方案。
在另一示例的实施例中,因为不需要深深穿透进入硅结构,所以在小面上的输入还构成硅微流体装置的生产的一个优点。因为硅是具有晶体结构的硬性材料,所以用机械的方法来制造是脆而难的。穿通输入优选通过化学蚀刻产生,需要长和强烈侵蚀的材料,其意味着在形状的控制和进口的垂直轮廓方面的特别关注。由于小面上的输入,穿透过程可以限制到基层的外皮,独立于能被平面平板印刷的掩模设计调整的端口容量和形状。蚀刻过程因此更可靠,而用于蚀刻的时间被有利地减少。
在另一示例的实施例中,激光烧蚀经常用于生产微流体装置。在这种生产方法中,通过聚合物的紫外线辐射,激光束去除期望的材料,并因此能产生一个小坑,其可在基层上移动以设计出实际的微流体结构。利用这种方法,用现有技术方法实现穿通输入将会需要不切实际的量的时间,或另外的处理。但是,在小面上的输入的情况下,端口可以在基层的外皮上制造。
在传统的正面输入的情况下,需要厚的基层或设计,其中含有空腔的液体比输入的大。但是,使用较大的空腔会产生气泡,该气泡防止端口容易填充,这对于载入而言几乎是人机无法控制的。根据本发明的接口设计考虑到输入几何的大的变化,包括开口的外形和管理流体收集的贮液器的纵向形状。尤其,根据本发明的位于小面上的端口能被分成2等分,每个部分属于不同基层。端口可以对称,例如基层上的一半和夹层的另一基层的一半,但是它也可以不对称,例如完全在一个基层上。
本发明的输入开口的形状可以是任何几何形状的形式,包括但不限于正方形或六边形形状的输入。本发明的输入可以通过热压法或注射模塑或通过压有长方形或梯形底版对称接合两个基层来制造。输入的纵向形状可以基本根据需要选择。在本发明的范围内,可以预期的是,锥体、倒锥体或“膨胀锥体”变得可行,否则在穿通部分位于正面上的情况下,端口会很贵。
根据本发明的在小面上的输入的另一优点涉及正面的光学完整性。根据本发明,微流体瓦片的正面在它的外部表面上没有另外的结构。这个优点允许包含在装置中的微流体结构从外部光学存取,通过同种的、平面的和光级别基层表面。本发明的这个方面具体关于:多个光学读数装置、例如显微镜、共焦成像器、表面等离子谐振读数器、荧光读数器、吸光率读数器、光散射测量设备、极化感光检测器,还有辐射样本的装置或具有光束的微流体装置,例如,在国际的专利申请WO 04050242 A2中公开的微流体装置,其全部内部并入作为参考。
在本发明的范围内,可以预期的是具有微板,侧面输入直接或通过适配器插入在传统的读数器,其可从正面之一或两者的基本平面光存取微流体反应器。这种配置不妥协样本的光学读数,其最好通过平面窗口存取。同样的光学方案,具有仍在正面上但从微流体结构转移的端口,在制造成本方面更低效,因为相同的装置会占领更大的表面。
除了对生产方法的最小修改以外,侧面输入通常不需要对在微流体装置中使用的材料做修改,基本与用于复制装置中的微流体结构采用加工过程相同。例如,在注射模塑中使用的多数聚合物,例如COC、COP、PC、PMMA、PS等均适用于侧面输入的注射模塑生产,而具有侧面输入和不同的制造方法的装置可以由现今使用的诸如PDMS、玻璃、光敏性基层、硅、金属半导体和结晶体制得。
当用例如在国际专利申请WO 04050242 A2中公开的特定的微流体技术执行时,本发明的接口的其它优点变得更显而易见。这样,精确滴定微量液体的需求,其对于传统的分配系统通常很难,通过用精确计量微流体装置内的流体补充分配装置的功能取得。
通过用微流体装置扩充和扩大它们的使用,而不需要利用另外的仪器,本发明有利地允许使用现存的为宏观领域设计的分配方案。例如,从使用者的观点来看,现有的分配装置的计量精确度近乎延伸到微流体,并提高了小量分配。另一方面,仍然可以将大的容量分配到微流体装置,这有时对分配缓冲区液体是必需的。因此增加乐分配操作的动态范围,并允许与为微流体明确设计的方案有关的更灵活的操作。
本发明的另一优点与载入过程有关,尤其当微流体装置的性能意味着高透过(传输)量(或高效率)载入时。高吞吐量载入是需要优化各种不同的方法和装置性能的挑战性的过程,例如流体分配作用和相关的操作,像吸头布置或者针清洗,还有微流体装置的自动处理,其决定需要用新的单元代替在流体处理器设备上的装置的时间。这些操作,尤其在药物发明中,经常需要使用自动化,不仅仅是因为速度,还因为可靠性和再现性。
因此,传统的流体处理站的性能可以沿着各种不同的方向优化:首先,通过平均对流体处理站的单元运算执行较多的化验,即载入过程。这典型是多数微流体装置的目的,即集成读数和不同级别的样本准备并在装置自身的内部进行计量。其次,通过设计微流体装置和它们的接口从而只在化验过程开始或在其结束时与流体处理系统接触,并允许试剂存储在微流体芯片上达到化验期间,从而不在化验治疗方案期间需要外部分配操作。第三,通过减少由在流体处理系统及其相关输给系统上的微流体装置替换产生的停滞时间。
根据本发明,多个微流体装置的并行载入在单个流体处理操作中执行。实际上,传统的流体处理自动机花费大部分的时间,还有最大部分的消耗成本,在清洗分配头部(或替换)的操作中,以及在将右边流体载入分配系统的操作中。因此,由单个或多个分配装置并行载入多于一个的装置允许更快的吞吐量并缩减消耗的成本。
本发明的目的之一是多个微流体装置共同地组织在一个空间中,具有一个提供给流体处理装置一个单元接口的一个适当的形式。接口,可以与现有的标准相符,有利地开发在微流体装置的小面上出现的输入,从而将瓦片组装在紧密的物体中,由此称为“砖”。瓦片可以通过机械解决方式保持在一起,例如通过销钉、外壳、裂缝、槽、锁定器、盖、快速压紧元件、定距片、“乐高(lego)型”连接器、弹性装置,以及还利用粘合层、磁性装置等。
在本发明的范围内,可以预期的是,砖能包含附加结构,例如框架,或能通过只是以无框架形式将瓦片单连接在一起进行组装。可以设计框架从而再生标准微滴定板的载入特征,还可以设计从而最小化,例如进口的灰尘污染。这种框架具有另外的功能作用,例如瓦片喷射装置、瓦片抽出的可拆卸结构,或热绝缘,加热和冷却性能。
框架还可以激发在电子产业中的硅晶片的管理中使用的结构,例如专利US 4248346和US 5125524中所描述的,其全部内容并入作为参考,或激发在用于数据存储的光学介质产业中使用的结构。在本发明的范围内,可以预期的是,该框架能起到运送支撑的作用,保护瓦片好像它们在一个包装里面,或只排在中间从而用传统的流体处理装置易化液体的载入。
这种将砖组装和拆卸成组成瓦片,或将一个或多个瓦片添加到砖中和从砖中去除一个或多个瓦片,能以不同方式获得,并且这些操作在这里个别或共同地称为填塞操作。在一些示例的实施例中,框架可以起到瓦片支架的作用,且瓦片位置由框架限定。在其它的示例的实施例中,瓦片的位置能被邻近的瓦片或砖中的其它瓦片限定。在一些情况下,个别的瓦片可以独立填塞,或可以通过“先入先出”填塞方法存取。
这些瓦片可以通过“顶部面”插入方式填塞在砖中,其中砖的顶部面限定为由提供输入的瓦片面的组装构成的面,还通过从底部或通过一个或多个砖的侧面填塞。还可以理解的是,不依赖于存在的框架,液体进出的砖面并不一定对应于瓦片为填塞操作进出的面。
在本发明的范围内,可以预期的是砖流体可以在化验开始时载入,最小化流体处理的系统的占用时间,以及并行使用诸如吸头的分配的消耗品。砖然后能拆卸到它的组成瓦片内,然后根据使用者的需要独立或并行处理。根据本发明的在小面上的输入的位置允许多种装置的轻巧、单元接口。
在砖组装中,因为瓦片的正面彼此相对,所以表面占有被最小化,而所有的输入保持可存取。如果正面垂直,则瓦片占有适度损害砖的垂直占用完成。
如在国际申请WO 04050242 A2中公开的特别的微流体技术,因为大量有源反应器和计量元件可以在瓦片上制造,所以可以另外开发砖几何结构。因此,载入接口的输入恰好是入口端,其允许流体存取更复杂的流体逻辑,该流体逻辑允许在多种情况下并行执行化验。
砖的功能相对于微-滴定板的功能很大扩展,因为化验可以从未加工的反应物开始执行,不需要预稀释或潜伏,而所有的化验能在载入操作之后而不需要在外部分配系统的化验治疗期间执行。这种可能性允许吞吐量和输给系统显著的提高,因为载入过程成为对砖提供所需试剂的直接操作,然后当来自载入的砖的瓦片正被处理时,可以为了后来的载入操作松开流体处理仪器。
根据本发明的在小面上的输入和砖设计的另一优点,涉及微流体装置对微结构中出现的颗粒或残留物的固有灵敏度,该微结构能潜在相符它们的功能。这些颗粒可以在不并行刻进入微结构:在制造过程期间,当液体插入在微流体装置中时,还有在进口周围的气体含有灰尘时,其在液体被载入装置之前进入输入端。在最终情况下,液体运送在微流体装置内的颗粒,且当颗粒的尺寸与液体通道的尺寸类似时,会发生堵塞现象。
典型的用于防止灰尘颗粒在输入内部沉积的过程在于,通过应用密封、薄膜、盖或相似的装置对进口进行系统性保护。当其在侧面输入上执行时,这个程序是更简单、更有效和更经济,因为在具有侧面输入的瓦片中的盖的每个单元表面的密封输入的数量相对于在正面上具有相同输入的瓦片更大,且当它们被组装进砖内时,更多的瓦片能在并行被一个盖保护。
根据本发明的砖的概念的另一优点在于,将砖密封为单个目标的可能性,目的在于保留载入在瓦片中的试剂,防止在操作和实际化验之间的时间间隙中蒸发。这很重要,因为载入和处理步骤之间的时间间隙不影响化验的结果,考虑到仪器和其它有关资源的最优分配和安排。密封可以在砖中的整组瓦片上执行,或在砖中的部分组的瓦片上执行,还有在砖中的整组的瓦片输入上执行或在砖中的部分组的瓦片输入上执行,或这些方案的任一组合。
根据本发明,密封存在于将薄膜沉积在由瓦片输入组成的砖输入表面的顶部上。密封薄膜可以是一层聚合物、金属或两者的组合。薄膜可以通过施加另外的压力敏感或热敏感的胶粘剂,而且薄膜本身会呈现固有的粘连性。热密封是与大多数试剂相符的选择之一,且它可用于临时密封(防止蒸发的可剥薄膜)或永久密封(长期存储,其保证样本的完整性,例如在药物包装中)。密封选择的其它实施例包含使用薄膜,其能被针或吸头刺穿,允许在分配期间通过流体但防止在已经执行了流体分配之后气体通过,如美国专利号No.US5789251所公开。在本发明的范围内,可以预期的是侧面输入的设计可以再生标准微滴定板的一或多行(或列),从而可以使用用于微滴定板的多数现有的密封技术。
本发明的范围内,可以预期的是当砖已经被密封时,如果需要可以沿着平行于正面的方向切割密封砖的薄膜,将单个瓦片独立地分离和处理,因此在从砖组件去除后,具有保持砖密封的可能性。
当用特定的微流体技术执行时,单个瓦片的密封变得更重要,例如在国际申请WO 04050242 A2中公开的技术。利用在该国际申请中描述的阀门技术,包含在密封的贮液器中的液体可以转移到微流体结构中而不需要打开密封。因此,预载有试剂的单个瓦片,能被直接处理,而不需要打开密封贮液器,因此可以被永久密封。实际上,贮液器通过打开两条线以与微流体电路流体连通方式放置,一种为液体流动所需,而另一为气体通道所需,通常为空气,以避免在在贮液器中形成防止抽出液体的欠压。利用这种方法,瓦片预载变得可能并还可以施加到在砖中存在的一小部分的输入。
根据本发明的将瓦片组装到砖中的另一优点在于标记瓦片的可能性,或单独地,作为一个块或两块。在本发明的范围内,可以预期的是砖的识别可以依据为微板采用的相同的通用做法,且单个瓦片标记可以由用户可读,而不需要另外的仪器,以在砖中进行简单和快速的瓦片存储。当执行化验时,同样的信息可以用于知道,哪些试剂已经被载入瓦片以及哪种化验应该为特定的瓦片执行。
通过光学、机械、磁性或无线电装置可以获得标记,而标记读数需要外部仪器,或也通过简单的视觉检验进行。条形码实施的例子是瓦片或砖(冲压或者去除标记)的修改、瓦片的颜色、对砖瓦排序的绘制的附图(例如跨越许多瓦片的对角线或文本)、应用粘合条码标记、通过喷射或热方法将标记直接印刷在瓦片上,应用具有磁的特性的基层,或插入无线电发射器或转发器。
光学标记信息可以以一维或二维的形式编码,或者考虑到空间节省。光学条码可以按一种方式预先应用在小面上,该方式为当瓦片以砖的形式组装时,标记仍然是可存取和可视。光学条码也可以放置在侧面输入位于的相同的面上,还可以在侧向或可选在底部或凸出部分上。
本发明的砖的另一重要优点在于极其轻巧的形式,其中每单元容量(或每单元表面)的化验的数量可以急剧增长。这种轻巧的形式在制药产业所需要化合物的存储的应用中有用,且上述的优点不仅可以通过化合物你那个在砖基底上存取和通过抽出单独瓦片而被进一步提高。
附图说明
本发明的这些和其它优点、目标和功能将通过实施例的详细描述以及与其有关的附图而变得显而易见。还可以理解的是,前述的总体描述和下列的详细描述是示例性而不是限制本发明的范围。
图1A、IB、1C和1D图示了根据本发明的转子瓦片的实施例,其中进口在瓦片的小边上而瓦片能被设计成装入砖中;
图2图示了根据本发明的输入接口的一个设计,为注射模塑大量生产而优化;
图3例示了根据本发明的另一具体的实施例,其中侧面输入可以被制造,使得在瓦片上的微流体结构和进口在基层的生产期间被实体分开;
图4图示了根据本发明的单个瓦片,其通过应用防止流体蒸发的薄膜密封;
图5A、5B和5C图示了另一示例性实施例,具有与1536微板相符的形式,其中只有输入的768被实际实现;
图6图示了根据本发明的一块瓦片和相关的砖组件图;
图7图示了多头分配装置的吸头,和用微-滴定板执行的瓦片载入图;
图8图示了根据本发明的向心微流体系统,其中微流体瓦片通过允许在微结构内移动流体的旋转装置而受制于离心力;
图9例示了根据本发明的另一示例性实施例,其中多块砖用在载入操作中,其相对于单块砖加载器的设计有微小修改;
图10例示了根据本发明的另一示例性实施例,其中砖内的瓦片从砖的底部抽出;
图11例示了根据本发明的另一示例性实施例,其中示出了为了去除瓦片的自动抽出方案;以及
图12例示了根据本发明的适用于容纳瓦片的转子。
具体实施方式
本发明提供微流体瓦片,其用在离心的转子和微系统中,并具体为纳米尺度或中间尺度的微流体平台,以及用于提供向心动力显微操作的多种应用。为了例示的目的,附图和说明书主要提及向心系统。但是,在本发明中公开的装置同样应用在依赖其他的力实现流体运输的微流体组件中。
为了说明的目的,术语“样本”将会被理解为包含任何的流体,溶液或混合物,或被隔离或被检测作为更为复杂的混合物的组分,或从前体种类中综合。
为了说明的目的,术语“流体连通”或“流体连接”意在限制可操作性互连的组件以允许流体在组件之间流动。在示例的实施例中,微-分析平台包括在可旋转平台中的微流体瓦片,例如盘,或实验的微芯片,由此在芯片旋转时可以由向心力促动流体在芯片上运动,而由泵促动流体在实验的芯片上运动。
为了说明的目的,术语“生物样本”、“重要样本”或“生物流体样本”将会被理解为意味着任一生物衍生的分析样本,包括但不限于血、血浆、血清、淋巴、唾液、泪、脑脊液、尿、汗、植物和蔬菜提取液、精液或任何的细胞或这种样本的细胞组分。
为了说明的目的,术语“中间尺度”,或“纳米尺度”将会被了解为意味着任何的量,能够含有如流体,尺寸优选在次微米到毫米范围。
在向心系统(例如,离心机)中的微流体瓦片的代表性应用使用矩形形状的装置,转动轴放置在装置的足迹之外。为了例示的目的,附图还有说明书将主要提及这种装置。除了矩形形状之外的其它装置包含在本发明的范围内,包括但不限于椭圆和圆装置、不规则表面和容量,而转动轴穿过本体结构的装置,可以对具体的应用有益。
参考图1A和1B,示出了根据本发明的第一实施例的瓦片101。瓦片101是由第一基层102和第二基层106形成的基本平面的物体。
本发明的范围内,可以预期的是瓦片101还能由超过两个的基层形成。基层102、106可以是任何几何形状。基层102、106含有凹坑、空袭或凸出部,其当基层连结在一起时形成微流体。在第一示例的实施例中,基层102、106具有夹在它们之间的薄膜层110。薄膜层110考虑到在形成微流体电路的基层中分离薄膜层110,其通过对薄膜层110穿孔而被放置与彼此流体连通。在本发明的范围内,可以预期的是基层102、106能加入在它们之间的薄膜层110中。
在这个第一示例的实施例中,瓦片101基本为矩形结构,具有输入端103、底端105、第一平表面109和第二平表面108。底端105具有联结翼片107,考虑到处理和将瓦片101插入支架或框架中。在这个示例性的实施例中,输入端103,也称作小面,具有多个输入端口113。输入端口113与至少一个流体处理微流体电路115流体连通。在本发明的范围内,可以预期的是这些微流体电路115可以由一系列阀门、室、贮液器、微反应器和微毛细管组成。在本发明的范围内,可以预期的是一系列的微反应器和微毛细管与检测室流体连通。
瓦片101有一个附加区117,其为了制造而使用,把手、结构支撑、精确间隔条、冲洗量、接合区、识别区等。
特定微流体电路115的功能可以配置在瓦片101内以在选定的样本上执行需要的化验。在本发明的范围内,可以预期的是本领域已知的任何的微流体或流体化验能配置在瓦片101中以取得期望的功能。参考图1C,流体电路121示出具有第一状态,为在第一贮液器120和第二贮液器122中包含试剂。进一步参考图1D,流体电路121示出在第二状态,为在阀门矩阵123中的阀门被促动之后。可以预想,通过促动如在如图1C和1D所示的流体电路121的第一和第二状态所例示的阀门矩阵123,本发明的瓦片101有能在不同的区域中执行过程的多个流体电路121。
如图1C所示,示出了在选定的时间以给定比例联结两个流体的方法,有关于第一贮液器120内的第一试剂和第二贮液器122内的第二试剂。根据本发明,第一和第二试剂以期望的比例传递到混合室125。每个试剂的期望比例通过促动如图1D所示的阀门矩阵123而传送到混合室125。这些试剂包括但不限于将试剂稀释到缓冲区中、与给定比率量的试剂发生化学反应、通过添加酸或碱修改溶液的pH值、蛋白质与抗体等开始接触的酶化验。
流体处理过程起始于打开阀门矩阵123内的阀门130,该阀门矩阵可以是专利申请WO 04050242 A2(‘242申请)中描述的类型,其中薄膜层被穿孔以促动该阀门,‘242申请的教示在此并入作为参考。在本发明的范围内,可以预期的是阀门机构可以是现有技术中已知的不同类型,例如机械阀门等。根据本发明,贮液器120、122相对于阀门矩阵123内连接毛细管的放置在不同的平面上,且它们可以依靠在选定的位置通过辐射穿孔的薄膜层110分开,由此产生如图1D所示的虚拟阀门130。
打开阀门130,还有将非平衡力施加在流体上,考虑到将液体移动到混合室125。非平衡力可以由本领域已知的方法产生。在这个第一示例的实施例中,非平衡力通过离心法取得,使得液体受制于指向瓦片101底部的向心加速度。根据本发明,转移到混合室125的流体的量由阀门130的半径位置决定,因为只有包含在对应的阀门130上面的流体被允许降至混合室125内。过程可以在多个随后的层中复制,给出不同级的幅度的连续稀释的可能性,一起混合两种或多种类型的液体,对流体恒温达给定量的时间进入反动器中,或甚至在矩阵层上执行实时方案。
转向图2,示出了描述根据本发明的微流体瓦片的第二示例性实施例。微流体瓦片210由第一基层200和第二基层201构成。两个基层200、201的接合形成微流体瓦片210。微流体瓦片210有底部面202、输入面203、第一平面(未示出)和第二平面207。输入面203,已知为微流体瓦片201的小面,含有在第一输入行211和第二输入行212之间的多个输入端口209。该输入面203挤在第一和第二平面之间限定的空间的外部,从而使得形成砖的多个微流体瓦片210有期望的入口接口。
在这个示例的实施例中,输入面203含有输入端口209,该输入端口有标准的384井微-板形式的间距和开口尺寸。在本发明的范围内,可以预期的是输入端口209能配置成适用于任何标准的实验接口。微流体瓦片210适用于手动载入操作,因为更容易避免在输入端口209之间的污染,并将期望的输入端口209定位在微流体瓦片210上。根据本发明,输入端口209在形成微流体瓦片210的基层200和201上对称制造。这些基层200、201不是单连通,因为它们的输入与在基层200和201的接触表面出现的微流体组件流体连通,其也是基层200、201接合在一起的表面。
转向图3,示出了通过单接合连接的基层制造的装置的一个实施例。第一基层301和第二基层303形成微流体瓦片305。输入307在任一基层301、303上制造成凹部。这些凹部通过微构造方法制造。在本发明的范围内,可以预期的是凹部也可以通过具有有限精度的宏观方法制造,例如通过研磨。
在制造步骤期间,输入307并没有与在基层301、303其中之一上的微流体电路流体连通。当微流体瓦片305被组装时,在微流体电路和输入307之间有流体连通。当两个基层301、303接合在一起时,通过基层301、303建立了与微流体结构的流体连通。同样地,所有的其它输入端口307与微流体瓦片305的微流体电路流体连通。
如图4所示,永久存储应用的典型需求,例如在微流体装置上诊断化验的分配,需要试剂以液体、固体、在微流体装置内的胶囊或冻干形式存储。根据本发明的具有输入端口402的瓦片401通过使用防渗透盖403密封。当在载入试剂和实际的化验操作之间使用标准的微板时,覆盖输入端口402的不渗透盖403的使用通常在药物发现方面被常规使用。防渗盖403防止微量流体蒸发,结果改变了它们的浓度并因此修改了化验条件。
在本发明的范围内,可以预期的是防渗盖403能由聚合材料、天然橡皮或具有对使用的液体惰性特征的任何材料,其可刺穿以引入液体,并行维持气密性以随后避免蒸发存储的试剂。在本发明的范围内,还可以预期的是防渗盖403能通过应用含有金属和聚合层的叠片薄膜取得。金属层对气和液体允许低渗透性,而聚合层允许在瓦片402内存储的试剂的简易而有效的密封。
转向图5A、5B和5C,平面微流体瓦片501通过微构造第一密封面503和第二密封面504的一个或两个的密封面产生。输入端口505在两个密封面基层503、504的其中之一中制造,并完全包含在密封面基层503、504的一个或两个中。输入端口505在基层503、504内有一个长度,其能对应于将被载入的流体的量而任意决定,而在连续的输入端口505之间的间距能对应于现有的标准和特定的集成需要而选定。标称节距值2.25毫米、4.5毫米或9毫米分别对应于1536、384和96井微-滴定板标准。在这个示例的实施例中,所选择的间距对应于1536微-滴定板形式,输入端口505有正方形开口。
具有输入端口505的基层503、504单连通。输入端口505能通过产生形成微流体电路的微结构所需要的相同的模子插入物产生,或通过位于微流体电路产生插入物的相同边上的第二插入物(或模子组件)产生。在这两种情况下,可以不需要可移动的零件而把该片从模子去除。
在如图6所示的另一示例性实施例中,如先前在图5中所描述的微流体瓦片601含有一行输入端口602,和如图1所示的微结构阀门矩阵603。微流体瓦片601由第一基层和第二基层组成,其彼此面对并接合在一起,在其中间有薄膜层。
在这个示例的实施例中,微流体瓦片601有48个输入端口602,和16个微流体瓦片601形成砖607。在这个示例的实施例中,砖607被框架608保持在适当的位置。在本发明的范围内,可以预期的是可以使用将微流体瓦片601联结到砖607的其它方法。砖607有上部表面609和下部表面610。上部表面609由包含微流体602的多个输入端口601形成。多个输入端口602在第一方向上在微滴定板中形成1536形式的输入端口,和输入端口602,其在第二方向上具有384输入间距的微滴定板。上部表面609是输入端口602的高密度区域,其考虑到用标准的现有多个头部或单头分配装置有效填充砖607,其典型具有与96和384输入微滴定板形式相符的头部间距。
在本发明的范围内,可以预期的是本发明的设备和方法考虑到以任何的标准实验室形式或常规形式组装砖607形式的微流体瓦片601。在这个示例的实施例中的微流体瓦601平行于砖607的长边,但具有不同的瓦片设计,砖可以容纳(host)平行于微流体瓦片607短边的瓦片,每块微流体瓦片601的32个输入端口602(1系列32个输入),砖607含有16个微流体瓦片601。
每个微流体瓦片601的输入602的数量,在砖607中的微流体瓦片601的数量,以及微流体瓦片601的定向可以变成取得具有标准实验形式或常规形式的多种配置。多种不同的配置依赖于微流体瓦片601设计和应用以及将微流体瓦片601收集到微板样的方式(strategy)。在微流体瓦片601上的微流体瓦片601的分割和输入端口602的数量可以实现,而不需要改变流体处理装置和载入过程。
转向图7,其图示了具有96个输入微-板并行分配器702的砖701的载入操作。在这个示例的实施例中,砖701由具有多个输入端口709的多个瓦片705形成。并行分配器702有8个头部712并通过柱体执行载入。在这个示例的实施例中,头部712平行于砖701的长边移动,并允许将试剂或其它选定的流体分配进入瓦片705的输入端口709内。因为许多化验存在于方案的重复,以并行测试不同的目标或不同的化学实体,化验的试剂或选定的流体的一部分共用,而试剂的一部分变化。一旦试剂在分配器头部712中可用,它能因此以非常有效的方式在不同的瓦片上分配,因为瓦片需要小量而移液管吸头只此一次用于包含在砖中的所有瓦片。
并行分配装置702有典型的间距,因为大多数分配头部比1536微板的间距大,以维持与每个微板含有384和96个井的低密度形式相符。在这个示例的实施例中,用于输入的间隔由瓦片705的凸出结构和砖框架710决定。在本发明的范围内,可以预期的是瓦片705可以通过梳状支撑保持垂直。
如图8所示,在以手动或自动方式从砖802拆卸之后,根据本发明的瓦片801以固定的半径放置在锭子支撑803上。根据吞吐量需要,瓦片801能单独或成组处理。在本发明的范围内,可以预期的是不需要将瓦片801距离转动轴固定的距离放置,而是瓦片801能以多行形式载入从而在锭子支撑803上节约空间。根据本发明,优选为在对着转动轴的瓦片801的边缘上具有输入804。这种定位是所期望的,因为受制于向心加速度的流体将会趋向于向锭子的外部部分径向移动,而输入804最佳为流体收集而设计。
配置了正面上的输入804以避免溢出。当瓦片801的输入804在小面上时,如前所述,另外的优点在于去除气泡。实际上,大气压的气体的密度比任何液体的密度低。气泡还遵循阿基米德定律。在液体中的气体静止时,如果气泡的重量加上表面张力克服了阿基米德力,则气泡能保持在液体中。在向心装置中,通过旋转可以快速克服重力。
因此,在向心装置中的气泡,会受制于指向转动轴并与之垂直的强力,其强度等于移位的液体的表面重量。输入804应该放置在指向转动轴的瓦片801面上,因为向心力会将气泡推向液体/气体界面,结果气泡消失。相同的考虑适用于外部分配系统载入的流体位于气体体积顶部的情况,现象通常发生在液体的引入没有在容器本身的最底部发生时。这一种现象通常是小型端口,因为通过在侧壁的接触区域处产生的表面张力,流体向开口快速堵塞下面的气体的通道。在先前描述的侧面输入配置中的向心加速度将会驱动流体进入进口的“底部”。
可以按照不同的方式完成砖802的处理,与包含在瓦片801的特定的微流体技术有关。因此,在阀门技术用在向心平台的特定实施例中,砖802的处理例子能用国际申请WO 04050242 A2中公开的微流体技术产生。在这个实施例中,瓦片801能在向心平台上处理,其旋转以将阀门促动器放置在正确位置中,能通过离心力移动瓦片内的流体,并允许读数传感器在局域位置中检测化验的结果。
如图8所示,平台在一些方面与离心转子主水平瓦片相似。瓦片801能以多种方式从砖802转移到转子,一种方法如图所示作为例子。过程的步骤可以确认为砖载入、瓦片抽出、瓦片定位、瓦片处理、瓦片卸载。砖802可以下载在仪器上,瓦片801处于水平位置,得益于一个事实:由于表面张力(或通过施加到进口的密封),流体不能从进口漏出。在附图中的砖802的垂直平移允许选择要处理的瓦片801,而不需要直接的瓦片识别,这种方法允许正在处理的瓦片801与载有试剂的微板列(或行)唯一相关。
从砖802抽出瓦片能通过外部促动器施加压力来实现,例如以向着转轴的方向推动瓦片的底部。在另一示例的实施例中,瓦片801可以被夹子抓住,或在瓦片801上产生的特定结构(例如插销、孔、折翼、卡口、磁铁、粘合层)可以用作与促动器建立连结的装置。瓦片定位能通过在专门为容纳瓦片801而设计的转子槽内垂直移动抽出的瓦片801而取得。
在另一示例性的实施例中,转子可以提供可从转子外部部分存取的槽,且瓦片801通过活动机构锁在槽内部,例如钥匙或电机促动器,防止瓦片801由于转动而从转子脱离。
依靠定位在转子下面的光学拾取器,通过以有源方式打开瓦片801中的阀门而产生瓦片处理,化验的读数依靠相同的光学路径执行。应该注意到,在这个配置中,瓦片801的识别条码还可以定位在瓦片801的正面上,并在锭子转动期间读取。实际上,即使当瓦片801在砖802中成组时,条形码也不可光学存取,当瓦片801放置在砖802上时,条形码的读数允许执行在砖中的瓦片位置(换句话说,微板的行或列识别符)与条形码唯一相关,产生不必要的另外的瓦片识别程序。
在处理之后,瓦片的卸载能通过经过相同的移动路径将瓦片801重新定位在砖框架(在相同的位置或不同的位置中)中取得。作为瓦片卸载的另一种可能性,瓦片801可以通过完全举起(或放下)砖的垂直译码器,放置到与砖相似的布置单元或到用于布置的单堆瓦片。
如图9所示,可以设想对于砖处理的各种不同的方案并不限制成将瓦片901从砖902转移到处理仪器905,而是还指将瓦片901从多块砖902转移到仪器的移动过程,而不需要实质性的修改。在本发明的一个方面,砖902在砖承载器907内垂直堆积,并由砖承载器907的单垂直平移的载入所选定。
根据本发明的砖901因此能设计成考虑多个砖902的垂直堆积,因为它通常在井板完成,而且还堆积含有水平砖902的瓦片901,达到侧面堆积的目的。根据本发明的瓦片901的堆积可以通过机械定位装置易化,例如用针、槽、“乐高连接”、凸出互补结构等,从而允许砖902的垂直和侧面堆积。在本发明的范围内,可以预期的是组装多块砖902并将它们处理作为单块砖902的可能性在所有的步骤是基本可能的,包括载有流体的砖,这个特征基本上与瓦片901的组件的模块概念有关。
载入步骤的数量由在化验中出现的不同的基本试剂的总数量决定。在典型的化学筛选程序中,根据化验的结果,化学化合物的数量N对目标(例如,蛋白质)的数量M筛选,典型包含少数试剂(在下面的考虑中并对于这个目的被忽略),操作已知为是在化合物成形的情况下。
在药业产业的化合物成形程序是很平常的,例如它们的其中之一存在于确定在各种不同的现有激酶抑制剂中的激酶蛋白质族的催酶活动率。当向同族的其它蛋白质测量相同的分子的边际效果但调整不同生物过程时,激酶成形具有重要的目标来估计潜在药物的效力。在化合物成形的操作中,有用数据点的数量基本与N倍M成比例,而载入操作的数量存在于N加上M步骤。
如果载入过程随后的所有步骤被自动化,则在将微流体装置收集在一起以产生一个尽可能多的数据点方面具有显著的比例优势,如本发明所实现,因为载入步骤将只会缓和增加:例如,用基本20个载入步骤对比10个目标筛选10个化合物产生100个数据点,而对100个目标筛选100个化合物产生100倍多的数据点,只增加了十倍的载入步骤(即使用者所作的工作量)。对于集成和集体接口相同的自变量对于大部分药发现和诊断应用有效,其中一板多个化验在多个生物样本上执行,而我们能预测药学一基因学的未来发展将会增加用于筛选与潜在的治疗剂相符的病人的板的需要和利用。
根据本发明的瓦片被有利地提供,具有适用于特别应用的多种合成和表面涂层。瓦片合成将会是结构需求、制造过程、试剂相符性和化学电阻特性的函数。尤其,瓦片可以由无机晶体或非晶态材料制成,例如硅、氧化硅、石英、惰性金属、或由有机材料,例如塑料性物质,例如,聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、氰代甲烷-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚碳酸酯、聚乙稀、聚苯乙稀、聚烯烃、聚丙烯和茂金属制成。这些可以用于未修改或修改的表面。
这些材料的表面特性可以为特定的应用所修改。表面修改可以通过本领域已知的方法取得,例如包括但不限于硅烷化、离子注入和用惰性气体等离子层的化学处理。在本发明的范围内,可以预期的是瓦片可以用这些材料的化合物或组合物做成,例如,由聚合材料制造的瓦片已经在其中嵌入包含诸如瓦片检测室的光透明表面。
本发明的范围内,还可以预期的是瓦片可以由塑料性物质,例如聚四氟乙烯、聚乙稀、聚丙烯、甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯制成,此外,还因为它们易于模制、冲压和研磨。在本发明的范围内,可以预期的是能用氧化硅、玻璃、石英或惰性金属制成。在一个示例的实施例中,有流体电路的瓦片能通过使用已知接合技术连接具有其中蚀刻有补充微流体电路的相对基层建立。
本发明的瓦片能用注射模塑光清晰或不透明连接基层或部分清晰或者不透明的基层制成。瓦片可以是长方形、矩形或任一几何形状,厚度大约在1毫米和10毫米之间。基层内的光学表面能用来提供用于检测分析或其它流体操作的装置,例如激光阀门。包括除了聚碳酸酯之外的材料的层能并入瓦片。
形成瓦片的基层的合成主要仰赖特定的应用和与瓦片一起用的试剂的化学相符性的需求。电层和对应的组件能合并在需要电子电路的瓦片中,例如电泳应用和电控阀门。控制机构,例如集成电路、激光二极管、光电二极管和能形成选择性加热区域或柔性逻辑结构的电阻网络,能适当合并在与瓦片的绕线区。能被干存的试剂可通过在制造瓦片期间使用本领域已知的技术喷洒到贮液器中而引入适当的开着的室。液体试剂还可以喷射到适当的贮液器中,紧接着应用包含薄塑料膜的盖层,该薄塑料膜可以用于在瓦片内的流体电路中的阀门的装置。
本发明的微流体瓦片可以具有多种组件,或直接在形成瓦片的基层上制造,或放置在作为预先制造的模块的瓦片上。除了整个流体组件,某些装置和元件可以位于瓦片的外部,优选放置在瓦片的组件上,或在当在转动装置内旋转或与砖形成静止时放置使其与瓦片接触或与单个瓦片接触。
根据本发明的优选包含瓦片的流体组件包含但不限于检测室、贮液器、阀门机构、传感器、传感器、温度控制元件、过滤器、混合元件和控制系统。
例子
下列的例子提供用于特别选择的上述的几个部件以例示本发明的方法和产品。如上所述,在这些特别的例子上的许多变化是可以的。这些例子只是示例性的而不是限制本发明。
第一例
根据本发明的砖1000如图10所示。砖1000由在砖框架1005内的多个微流体瓦片1001组成。在第一示例的实施例中,为了用有关装置处理,瓦片1001从框架1002的底部抽出。微流体瓦片1001在砖1000的顶部面上由微流体进口1003存取。
这个示例的实施例允许独立于机器接口设计的人类接口。试剂可以在砖1000的顶部面载入进口1003,或通过手动或自动化装置。进口1003以传统的微-板形式安排。因为微流体技术消耗非常有限的量的试剂,因此试剂量基本上很小。本领域已知小量的液体受制于迅速蒸发,具由于蒸发可以耗尽液体或改变试剂的浓度。对蒸发问题的解决方案包含在试剂载入后,在顶部面的顶部上应用粘合聚合物薄膜(未示出)。通过使用热胶粘剂、压力敏感粘合剂或相似的装置以保证气密性,粘合的聚合物薄膜为暂时性或永久性,其防止由增加的蒸汽压力产生的液体蒸发。
在本发明的范围内,可以预期的是能用于砖1000。砖1000特征为底部抽出,如图10所示。底部抽出的优点在于薄膜层(未示出),放置在顶部面上,能保持在适当的位置直到瓦片1001从框架1002抽出,使液体暴露到空气的时间最小,由此提高化验质量并最小化外部污染的风险。
根据本发明的瓦片1001和框架1002以一种方式设计,使得在正常的实验操作期间,瓦片1001没有从框架1002的底部离开。在一个示例的实施例中,粘合紧固件防止瓦片1001滑离出框架1002。在本发明的范围内,可以预期的是瓦片的去除可以用任何机械的方法取得,例如翼片、杠杆等。
在进一步示例的实施例中,在瓦片1001中或在框架1002中或在两者内的弹性元件,在瓦片1001的位置中施加压力从而避免了不期望的瓦片抽出。瓦片1001能通过依靠推动或拉插销、推动或推杆,各种不同类型的夹子、夹具、磨擦轮、旋转齿轮、滑动杆等,沿着向底部开口1007的方向施加而取得。尤其,弹性元件可以集成到框架1002中,最小化瓦片1001的复杂性和成本。
例2
转向图11,示出了用于去除瓦片的自动化抽出方案。在第一示例的实施例中,在砖1102中选定的微流体瓦片1112被选为通过盘子1101的线性运动抽出。在这个示例的例子中,只有砖1102被抽出装置存取。本领域技术人员可以理解的是,这个拆卸的过程能在一个仪器中或在生产线中依次或以期望的顺序应用到多个砖1102。这种类型的自动化是有效率的解决方法,考虑到高吞吐量或无人照料的生产线,范围在化合物载入、试剂分配、方案运行和实验读数。生产线可以由轨条或皮带驱动机构组件,其中有或没有试剂的砖1102,供给到运送机的槽内,而连续流动的实验可以通过运送机的“分支”、瓦片抽出、再分配和砖处理而依次或并行执行。
如图11所示,微流体瓦片1112通过夹子1103抽出,其从底部抓住瓦片1112、在第一示例的例子中,在瓦片1112上的清洗容量1008被配置使得夹子1103的运动被螺线管1104或步进电动机、气压促动器等促动,在考虑到在夹子1103中的瓦片1112的薄膜支持的瓦片1112施加压力。通过将包含在砖中的垂直瓦片1114(未示出)带到操作位置1106,其中瓦片处于水平,曲线轨条1105配置成沿着复杂迹线运送夹子1103。指状元件1107,由诸如电磁线圈1108或电动机的气体或电装置促动,打开在锭子1110的固定支架1109,在该时刻,线平台1111允许锭子1110移动到设定位置106的瓦片1112上。
如图12所示,锭子1201有用于将瓦片保持在转子中的槽1202。瓦片依靠指状元件1207、1208由按钮1205、1206促动的支撑装置1203、1204径向锁住。还参考图11,指状元件1107被禁用,而来自夹子1103的压力从瓦片1106释放。转向图12,瓦片保持在锭子1201的槽1202内,而锭子1201的随后运动拖着瓦片远离载入机构,由此对下个操作做好准备。与载入操作相似,瓦片的卸载(从锭子到框架)能以相似的方式按照反向路径执行。应该注意到,一块瓦片还可以送到另一块砖,或到指定为类似于瓦片布置或瓦片恒温的区域。
虽然瓦片处理的例子对仪器和公开的阀门技术是特定的,但是本领域人员可以理解的是同样的原理可以应用于使用无源阀门系统的系统,或在向心和非向心环境内,应用于基于机械和电促动器的阀门系统。
虽然根据本发明的示例的微流体瓦片由其中间有薄膜层的第一和第二基层构成,但是本领域技术人员可以理解的是,本发明的微流体瓦片能由多个基层形成。同样,而且本领域技术人员可以理解基层可以组装,在其中间具有或没有薄膜层。
虽然根据本发明的示例的微流体瓦片应用于纳米或中间尺度实施例中,本领域技术人员可以理解,不管尺度如何,在此公开的原理能应用到流体处理技术。
当前公开的原理、优选实施例和操作模式已经在前面的说明书中进行了描述。但是,目前公开的内容,并不构成对示出的特别的实施例的限制,因为这些实施例被视为示例性而非约束性。而且,本领域技术人员可以进行变化和修改,而不背离其中公开的以及随附的权利要求引用的此时的公开内容的精神和范围。
Claims (55)
1、一种用于执行化验的设备,包括:
瓦片,具有顶部和底部平表面,所述瓦片还有输入端和相对端,所述输入端具有至少一个输入端口;
至少一个流体处理构件,位于所述瓦片的顶部和底部平表面之间,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通。
2、根据权利要求1所述的设备,还包括用于将所述瓦片连接到另外的瓦片的装置。
3、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片具有用于连接到向心转子设备的装置。
4、根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个流体处理构件选自包括通道、检测室、贮液器、阀门机构、检测器、传感器、温度控制元件、过滤器、混合元件和控制系统的组。
5、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片连接到多个瓦片,所述多个瓦片形成一个瓦片砖。
6、根据权利要求1所述的设备,进一步包含用于识别所述瓦片的装置。
7、根据权利要求5所述的设备,进一步包含用于识别所述砖的装置。
8、根据权利要求6所述的设备,其中所述识别装置选自包括光学识别、机械识别、物理识别、电识别、磁识别和无线电识别的组。
9、根据权利要求5所述的设备,其中所述瓦片砖包含多个输入端口,所述输入端口形成标准的实验室输入形式。
10、根据权利要求5所述的设备,其中所述瓦片砖可被堆叠。
11、根据权利要求10所述的设备,其中所述可被堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得所述输入端口在砖的顶部上。
12、根据权利要求10所述的设备,其中所述可堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得所述输入端口在所述瓦片砖的侧面上。
13、根据权利要求10所述的设备,其中所述可堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得输入端口在所述瓦片砖的顶部上,且输入端口在所述瓦片砖的侧面上。
14、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片含有多种流体部件。
15、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片由选自包括聚四氟乙烯、聚乙稀、聚丙烯、甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、硅、氧化硅、氰代甲烷-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚碳酸酯、聚乙稀、聚苯乙稀、聚烯烃、聚丙烯、茂金属或其混合物的组。
16、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片还包含另外的部件,该部件选自包括电控阀门、集成电路、激光二极管、光电二极管和电阻加热元件、热点和冷点以及光学构件。
17、根据权利要求1所述的设备,其中所述输入端口还包含用于密封的装置。
18、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置是薄膜。
19、根据权利要求18所述的设备,其中所述薄膜是自密封件。
20、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置是微板盖。
21、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置密封一个子集或可用的输入端口。
22、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有气体、液体或固体试剂。
23、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有蛋白质或核酸或细胞或有机试剂。
24、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有处于冻干或脱水状态的分子。
25、一种用于执行化验的设备,包含:
至少一个微流体瓦片,所述至少一个微流体瓦片具有与至少一个流体电路流体连通的至少一个输入端口;
多个所述微流体瓦片,形成所述瓦片的组件,其中所述组件形成具有多个输入端口的单元表面,所述多个输入端口形成标准的实验室接口;以及
拆卸装置,用于从所述组件分离瓦片以用在处理装置中。
26、根据权利要求25所述的设备,其中所述至少一个输入端口位于微流体瓦片的小面上。
27、根据权利要求25所述的设备,其中所述处理装置选自包括向心转子和微板读数器的组。
28、根据权利要求25所述的设备,其中所述组装和拆卸装置选自包括销钉、外壳、狭缝、槽、锁定器、盖、快速压紧元件、定距片、乐高型连接器、弹性装置、粘合层、磁性装置、抽吸器的组。
29、根据权利要求25所述的设备,其中所述标准的实验室接口选自包括96、384、1536微板标准接口的组或它们的规格的一部分。
30、一种执行化验的方法,包含以下步骤:
提供至少一个微流体瓦片,所述至少一个微流体瓦片具有与至少一个流体电路流体连通的至少一个输入端口;
组装形成所述瓦片的组件的多个所述微流体瓦片,其中所述组件形成具有多个输入端口的表面,所述多个输入端口具有标准的实验室接口;
将样本插入至少一个输入端口;
将所述瓦片的组件拆卸成各个瓦片;以及
将所述各个瓦片放进处理装置中。
31、根据权利要求30所述的方法,其中所述处理装置是向心转子设备。
32、根据权利要求31所述的方法,其中所述输入端口接近于所述向心转子设备的转动轴。
33、根据权利要求30所述的方法,其中所述含有选定样本的输入端口在样本插入之后被密封。
34、根据权利要求30所述的方法,其中所述插入选定的样本的步骤由标准流体处理自动机系统完成。
35、根据权利要求30所述的方法,其中所述标准的实验室接口等同于96、384或1536微板。
36、根据权利要求30所述的方法,其中所述至少一个流体电路与至少一个检测室流体连通,所述检测室具有用于检测所关注分析物的装置。
37、根据权利要求30所述的方法,其中所述化验选自包括化合物成形、蛋白质晶体形成、酶生化化验、细胞化验、用于诊断目的的体液测试的组。
38、根据权利要求36所述的方法,其中所述检测室含有专用于所关注分析物的一种试剂。
39、根据权利要求30所述的方法,其中所述至少一个输入端口与所述多个流体电路流体连通。
40、根据权利要求39所述的方法,其中所述多个流体电路能在单个样本上并行执行多个化验。
41、根据权利要求39所述的方法,其中所述多个流体电路能在多个样本上并行执行相同的化验。
42、一种形成微流体瓦片的方法,包括以下步骤:
模制第一基层,该基层具有第一和第二平坦表面,在所述第一和第二平坦表面的至少其中之一上具有至少一个凹坑,以及在相同的平面上的第一流体电路;
模制第二基层,该基层具有第一和第二平坦表面以及其中的第二流体电路;以及
粘结形成微流体瓦片的所述第一和第二基层,其中所述凹坑在微流体瓦片内形成至少一个输入端口,所述微流体瓦片具有顶部和底部平坦表面和输入边缘,所述输入边缘具有与所述流体电路流体连通的至少一个输入端口。
43、根据权利要求42所述的方法,其中所述输入端口利用第二流体电路与所述第一流体电路流体连通。
44、一种用于执行化验的设备,包括:
微流体瓦片,它包含单连通和粘结在一起的第一和第二基层;
至少一个输入端口;以及
至少一个流体处理构件,它位于所述瓦片的第一和第二基层之间,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通。
45、根据权利要求44所述的设备,其用选自如下的方法制造:热压、注射模塑、激光烧蚀、层叠、化学蚀刻。
46、根据权利要求44所述的设备,还包含在顶部和底部基层之间粘结的薄膜层。
47、一种用于形成瓦片的方法,包含:
粘结形成至少一个输入端口的第一单连通基层和第二单连通基层;以及
在所述瓦片的第一和第二基层之间形成至少一个流体处理构件,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通。
48、一种用于执行化验的设备,包括:
第一和第二瓦片,它们粘结在一起以形成微流体瓦片;
至少一个输入端口,被放置在所述的微流体瓦片的小面上;
至少一个流体处理构件,它位于所述第一和第二瓦片之间,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通;以及
用于将所述微流体瓦片附于另外的微流体瓦片的装置。
49、根据权利要求48所述的设备,还包括在所述第一和第二瓦片之间的薄膜。
50、一种用于形成瓦片的方法,包括:
粘结第一和第二瓦片,在其之间具有薄膜以形成微流体瓦片,所述微流体瓦片包括放置在所述微流体瓦片的小面上的至少一个输入端口,以及在所述第一和第二瓦片之间的至少一个流体处理构件,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通。
51、根据权利要求49所述的方法,其中所述至少一个流体处理构件包括与至少一个腔室流体连通的通道,所述腔室具有用于探测所关注分析物的装置。
52、根据权利要求7所述的设备,其中所述识别装置选自包括光学识别、机械识别、物理识别、电识别、磁性识别和无线电识别的组。
53、根据权利要求16所述的设备,其中所述输入端口预载有冷冻状态的分子。
54、根据权利要求24所述的设备,其中所述瓦片通过底部抽出部从所述组件分离。
55、根据权利要求29所述的方法,其中从组件抽出所述瓦片的步骤是在组件的底部执行的。
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