CN101037303A - 用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘 - Google Patents
用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘 Download PDFInfo
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Abstract
用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,涉及光纤技术领域,本发明包括桶和法兰,所述法兰分别与桶的两端固定连接,所述桶上设置有通气孔。本发明的有益效果是在桶上设置有通气孔后,由于桶为中空的轴体,则光纤在进行氘处理的时候,由于里层的光纤是缠绕在桶上的,所以气体则可以通过桶上的通气孔与里层光纤接触,可以从内层光纤开始渗透,进行处理。克服了现有技术的缺点,提高了每次氘处理的效率,降低了成本。
Description
技术领域
本发明涉及光纤技术领域,更具体的涉及一种用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘
背景技术
光纤在拉制过程中会产生Si-O键的断裂,从而产生一些Si-O-自由基团,这些自由基团容易和H-生成Si-OH,OH-离子在1350~1450nm波长范围会使光纤有很高的吸收损耗。所以低水峰光纤拉制完成后都要经过氘处理,才能够经受得住长时间的含氢环境的侵蚀。氘处理的原理是让氘和Si-O-自由基团形成Si-OD从而避免形成OH-,这样在光纤的整个寿命期间,氢无法取代氘的位置。
可是,在现有进行氘处理的技术中存在一个缺陷,由于光纤是缠绕在承绕盘上送入具有一定压力的氘处理室进行的。在经过一定时间处理的过程中,只有缠绕在外层的光纤可以接触到气体,或者氘气只能渗透进一定卷绕厚度的光纤中对其进行处理,而更深处的光纤则不容易被处理。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,使处理气体能充分渗透进里层光纤进行相应处理。
本发明所述技术问题所采用的技术方案是,用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,包括桶和法兰,所述桶端面有通孔,桶内中空,法兰分别与桶的两端固定连接,所述桶体上设置有通气孔,桶体上设置的通气孔可以通过桶端面的孔与周围环境气体相通。
进一步的,所述通气孔在桶体上呈均匀状规则排列,且所述通气孔为封闭的几何形状。
更进一步的,所述通气孔为圆形,方形、菱形或矩形槽。
本发明的有益效果是,在桶上设置有通气孔后,由于桶为中空的轴体,则光纤在进行氘处理的时候,由于里层的光纤是缠绕在桶上的,所以气体则可以通过桶上的通气孔与里层光纤接触,渗透并进行氘处理,如此当整盘卷绕好的光纤进行氘处理时,处理气体可以通过外层和桶体上的通气孔分别同时进行处理,克服了现有技术的缺点,提高了每次氘气处理的效率,大大的降低了成本。
以下结合附图说明和具体实施方式对本发明作进一步说明。
附图说明
图1是本发明实施例1的结构示意图。
图2是本发明的主视图。
图3是图2的A-A向剖视图。
图4是原有技术下缠绕在承绕盘上的光纤进行氘气处理时一定时间内氘气渗透处理的示意图。
图5是缠绕在本发明的承绕盘上的光纤进行氘气处理时一定时间内氘气渗透处理的示意图。
图6是本发明实施例2的结构示意图。
图7是本发明实施例3的结构示意图。
具体实施方式
实施例1
参见图1-3,本发明用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,包括桶2和法兰1,所述法兰1分别与桶2的两端固定连接,所述桶2为中空的轴体,并在其轴体上设置有通气孔6。所述通气孔6为圆形,且在桶2上呈均匀状规则排列。当光纤进行氘处理时,气体则可以通过桶2上设置的通气孔6与缠绕在桶上的光纤接触,进行相应处理。
图4中所示为缠绕在原有技术的承绕盘上的光纤进行氘气处理时的处理示意图,其中3为从外面进行处理时,处理较充分的光纤,4为从外面进行处理时,处理较充分的光纤范围曲线。5为没有进行充分处理的光纤。
图5中所示为本发明中缠绕有光纤的承绕盘,3为处理气体9外表面进行处理时处理较充分的光纤,4为从外表面处理时,处理较充分的光纤范围曲线,7为处理气体9经过法兰1侧面上的孔进入桶2内并经过桶2上的通气孔6对缠绕在桶体上的光纤进行处理时处理较充分的光纤,其中8为从桶体上的通气孔6进行处理时,处理较充分的光纤范围曲线。
从图5中我们可以看出,此种技术可以使光纤在一定时间内得到较充分的处理。
实施例2
参见图6,本实施例与实施例1的区别在于,所述桶2上设置的通气孔6为矩形,为均匀状规则排列。
实施例3
参见图7,本实施例与实施例1的区别在于,所述桶2上设置的通气孔6为矩形槽状。每个独立的槽均从桶2的一端延伸至另一端。且矩形槽之间为并行排列。
结合本实施例的思路,所述通气孔6的作用在于与桶2的内部空腔连通后,可以使气体从桶2的空腔中经过通气孔6渗透进缠绕在内层的光纤上,使光纤与处理气体充分接触,所以通气孔6还可以设置成其它形状,只要达到使里层光纤与桶内气体能够通气的目的,任何基于此思路的发明创造均属于本发明的保护范围。
Claims (7)
1、用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,包括桶(2)和法兰(1),所述法兰(1)分别与桶(2)的两端固定连接,其特征在于,所述桶(2)上设置有通气孔(6)。
2、如权利要求1所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述通气孔(6)在桶(2)上呈均匀状规则排列。
3、如权利要求1所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述通气孔(6)为封闭的几何形状。
4、如权利要求3所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述通气孔(6)为圆形、椭圆形、矩形或菱形。
5、如权利要求1所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述通气孔(6)为槽状。
6、如权利要求5所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述通气孔(6)为矩形槽。
7、如权利要求6所述的用于低水峰光纤处理用的光纤承绕盘,其特征在于,所述槽状通气孔的两端与桶(2)两侧的法兰(1)外端面贯通。
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