CN101023397A - 用来自动产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用来自动地产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统。这种方法和系统包括两个分离的但相关联的软件部分。本发明的第一软件部分用来以规定格式产生光掩模定单。本发明的第二软件部分把光掩模定单(它使用第一软件部分而产生)的至少一部分处理成基本上准备写作业组文件和/或基本上准备写检查文件，该文件又传送到远程光掩模制造商的系统，以制造光掩模。这些软件部分可安装成在计算机系统上的分离的程序，或者作为完成多种功能的单个软件包而操作。

Description

用来自动产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统

对于相关申请的交叉参考

本专利申请是如下共同待决专利申请的继续：(1)美国专利申请No.10/852,532，提交于2004年5月24日，标题为“用来处理光掩模的自动制造过程和方法”，该专利申请是提交于2002年3月14日的美国专利申请No.10/099,522的继续(现在为美国专利No.6,760,640)；和(2)美国专利申请No.10/981,201，提交于2004年11月3日并且标题为“用来自动产生光掩模定单的基于用户友好规则的系统和方法”，该专利申请是提交于2004年5月25日的美国专利申请No.10/877,001的继续，后者是提交于2002年7月30日的美国专利申请No.10/209,254的部分继续(现在为美国专利No.6,842,881)。这些申请的内容通过参考全部包括在里。

技术领域

本发明一般涉及用来自动产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统。更具体地说，本发明涉及基于软件的应用程序，该应用程序以规定格式产生光掩模定单，并且然后把该光掩模定单处理成基本上准备写的作业组(jobdeck)文件和基本上准备写的检查文件，该检查文件又传送到远程光掩模制造商的用于光掩模制造的系统。

背景技术

光掩模是包含电子电路的显微图像的高精度板。光掩模典型地由在其一侧上具有一层铬的非常平石英或玻璃片制成。在铬中蚀刻的是电子电路设计的一部分。在掩模上的这种电路设计也称作“几何结构”。

在半导体器件的生产中使用的典型光掩模由“空白”或“未开发”光掩模形成。如图1中所示，典型空白光掩模10包括三个或四个层。第一层11是一层石英或其它基本上透明材料，通常称作基片。下一层典型地是一层不透明材料12，如Cr，该层常常包括第三层抗反射材料13，如CrO。抗反射层可以包括或不包括在任何给定光掩模中。顶层典型地是一层光敏抗蚀剂材料14。其它类型的光掩模也是已知的和被使用，包括但不限于相移掩模、嵌入衰减相移掩模(“EAPSM”)及交变孔径相移掩模(“AAPSM”)。这些类型的相移掩模的特征在于，包括不透明区域和部分透明区域的设计特征，通过该部分透明区域，光的相位被移动例如近似180°。这样的掩模的例子在授予Photronics，Inc.的美国专利No.6,682,861、美国专利公报No.2004-0185348 A1、美国专利公报No.2005-0026053及美国专利公报No.2005-0053847中描述，它们的内容通过参考包括在这里。

制造光掩模的过程涉及多个步骤，并且可能是耗时的。在这方面，为了制造光掩模，将被创建在光掩模10上的不透明材料12的所希望的图案典型地由加载到曝光系统中的电子数据文件定义，该曝光系统典型地在空白光掩模上以光栅或向量样式扫描电子束(E-束)或激光束。光栅扫描曝光系统的这样一个例子在授予Collier的美国专利No.3,900,737中描述。每个独特曝光系统具有其自己的用来处理数据的软件和格式，以在曝光空白光掩模时指示设备。当E-束或激光束在空白光掩模上10扫描时，曝光系统把E-束或激光束指向到在光掩模上由电子数据文件所定义的可寻址位置处。暴露于E-束或激光束的光敏抗蚀剂材料的区域变得溶解，而未曝光部分保持不溶解。

为了确定在何处E-束或激光束应该曝光在空白光掩模10上的光敏抗蚀剂、以及在何处它不应该曝光，需要以作业组形式提供到处理设备的适当指令。为了创建作业组，把希望图案的图像分散(或分解)成较小标准化形状，例如矩形和梯形。分解过程可能是非常耗时的。在分解之后，图像可能需要进一步修改，通过例如：如果需要则确定尺寸数据，如果需要则旋转数据、添加基准和内部参考标记等等。典型地，专用计算机系统用来进行分解和/或创建作业组。作业组数据然后必须传送到处理工具，以向这样的工 具提供曝光光掩模的必要指令。

在曝光系统已经把所希望的图像扫描到光敏抗蚀剂材料14上之后，如图2中所示，溶解光敏抗蚀剂材料由在本技术中熟知的装置除去，并且未曝光的、未溶解光敏抗蚀剂材料14′保持粘着到不透明材料13和12上。因而，待形成在光掩模10上的图案由剩余光敏抗蚀剂材料14′形成。

所述图案然后从剩余光敏抗蚀剂材料14′经已知的蚀刻过程转印到光掩模10，以除去在未被剩余光敏抗蚀剂14′覆盖的区域中的抗反射材料13和不透明材料12。在本技术中有已知的各种各样的蚀刻过程，包括干式蚀刻以及湿式蚀刻，并因而各种各样的设备用来进行这种蚀刻。在完成蚀刻之后，剥去或除去剩余光敏抗蚀剂材料14′，并且完成光掩模，如图3中所示。在完成的光掩模中，以前由剩余抗反射材料13′和不透明材料12′所反映的图案，位于在先前步骤中除去溶解材料之后剩余光敏抗蚀剂14′所剩下的区域中。

为了确定在具体光掩模中是否有任何不可接收的缺陷，必须检查光掩模。缺陷是影响几何结构的任何瑕疵。这包括不希望的铬区域(铬斑点、铬延伸部、在几何结构之间的铬桥接)或不想要的空旷区域(针孔、空旷延伸部、空旷裂纹)。缺陷可使由光掩模制成的电路不起作用。订购光掩模的实体将在其缺陷规格中指示影响其过程的缺陷尺寸。该尺寸的和更大的所有缺陷必须修理，或者如果它们不能修理，则必须剔除和重写掩模。

典型地，自动掩模检查系统，如由KLA-Tencor或AppliedMaterials制造的那些，用来探测缺陷。这样的自动系统把照明束对准光掩模，并且探测透过光掩模和从其反射回的光束部分的强度。探测的光强度然后与期望光强度相比较，并且任何偏差记录为缺陷。系统的细节可在授予KLA-Tencor的美国专利No.5,563,702中找到。

在通过检查之后，完成的光掩模被清除污物。其次，薄膜可以涂敷到完成的光掩模上，以保护其关键图案区域免受浮在空中的污染。以后可以进行穿过薄膜缺陷检查。在某些实例中，在涂敷薄膜之前或之后，可以切割光掩模。

在完成上述的制造步骤的每一个之前，半导体制造商(例如客户)必须首先向光掩模制造商提供与待制造的光掩模有关的不同类型的数据。在这方面，客户典型地提供光掩模定单，该光掩模定单包括制造和处理光掩模需要的各种类型的信息和数据，包括例如与光掩模的设计有关的数据、使用的材料、交付日期、记账信息及处理定单和制造光掩模需要的其它信息。

在光掩模制造中长期存在的问题是从客户接收到光掩模定单时起制造光掩模所占用的时间量。在这方面，处理光掩模定单和制造光掩模占用的整个时间可能是漫长的，并因而光掩模的整个产量不被最大化。这个问题的部分归因于，订购光掩模的许多客户常常把他们的定单置于各种不同格式的事实，该格式常常与光掩模制造商的计算机系统和/或制造设备不兼容。因而，常常要求光掩模制造商重新格式化定单数据和条件、把它转换和/或补充到与其计算机系统和/或制造设备相兼容的不同格式，这可能占用大量时间，并因而延迟制造光掩模的时间。

在解决这些问题的尝试中，光掩模工业已经开发了各种标准光掩模定单格式，光掩模定单应该置于该定单格式中。例如，SEMI P-10标准是在光掩模制造中使用的一种标准格式。另外，少数半导体制造商已经开发了他们自己的定单要置于其中的专有光掩模定单格式，而不是采纳标准格式。这些标准和专有光掩模定单被创建为使得光掩模定单以统一格式从客户接收，由此减少制造光掩模占用的整个时间。

尽管这样的标准和/或专有光掩模定单格式在减少制造光掩模占用的时间方面是有用的，但许多半导体制造商由于各种原因不愿意把他们的光掩模定单置于这样的标准和/或专有格式中。例如，SEMI P-10标准定单格式十分复杂，并且要求填写定单的客户具有与这样的标准有关的要求的完善加工知识。由于许多半导体制造商不制造光掩模，所以这样的制造商不可能具有学习这样的标准格式的复杂性的资源、时间或能力。因而，半导体制造商常常以未组织和通常不完整方式向光掩模制造商提供光掩模定单数据。结果，要求光掩模制造商彻底分析这种数据并且以有用格式(例如，以SEMI P-10格式)组织它。另外，在其中不完整掩模定单数据提供给光掩模制造商的这些实例中，将要求这样的制造商从客户请求丢失信息。结果，大量时间常常浪费在得到完整和准确光掩模定单的过程中，并因而制造光掩模所占用的整个时间可能大大地延迟。尽管其它人已经尝试通过自动系统的使用解决这些问题。然而，这些现有系统具有几个缺点。

例如，在过去，AlignRite Corporation(对于Photronics，Inc.前身组织)尝试通过基于因特网的交付系统的使用加速电子数据的交付。然而，AlignRite系统能够把光掩模数据从客户迅速交付给光掩模制造商的计算机系统，并且能够实时地生效这种数据的准确性，但这种现有系统不供单一标准和/或专有格式的光掩模定单数据的自动产生。在这方面，一旦从客户接收到数据，对于数据的标准修改也必须由操作者人工地输入。每当必须输入人工变化时，人为错误的危险增加，并且作业的整个长度会延长。

从那时以来，其它人已经公开了其中制造和记账数据在因特网上下载并且在线自动地验证的系统。一种这样的系统在发布于2002年1月10日、授予DuPont Photomask的PCT公布02/03141中描述，它也是美国专利No.6,622,295的主题。更具体地说，DuPont PCT公布公开了一种其中光掩模定单数据由客户在线输入并且传输到光掩模制造商的系统以进行处理。在这种系统中，提示客户输入光掩模定单数据。这样的数据传输到光掩模制造商，该制造商又进行数据的诊断估计。如果任何数据不完整或不准确，则系统把消息发送到客户，通知他这样的错误。此后，用户必须校正错误。在数据已经由制造商验证(并且在必要时被校正)之后，制造商处理这种数据，并且把它放入标准(或专有)格式中，如SEMI P-10标准格式中。

尽管可用于诊断目的，但DuPont PCT公布的系统是非常麻烦的，并且在依据正在输入其数据的客户列出光掩模定单时向用户提供非常少的灵活性。DuPont系统提供成没有基于通用信息的输出来描绘客户信息的轮廓。DuPont的系统的另一个缺点是，每当客户使用系统时要求客户重新输入关于定单的特定信息并且不能使用在以前定单中输入的信息。因而，使用DuPont系统产生光掩模定单是耗时的。

在现有技术中，一旦光掩模定单从客户接收到并且放入适当格式中，就仍然必须处理该定单，从而光掩模可由相关制造设备写出和由相关制造设备检查。在典型的光掩模生产过程中，形成完整光掩模的多个步骤必需被人工地进行或由不同的个人进行。结果，用来完成这些步骤的现有已知方法和系统低效、耗时及经受大量的人为错误。

更具体地说，一旦制造商接收到客户的光掩模定单，要求操作者分类接收的信息，并且把该信息人工地转送到适当处理站或提供信息的部门。例如，记账信息必须转送到记账部门，并且进行分解必需的图案数据需要提供到分解计算机，以及剩余作业组信息必须转送到适当处理站。如果信息以不同于制造商提供的格式来提供，则这个事实也需要人工识别，并且然后文件转换成适当格式。如果光掩模制造商希望在生产中跟踪光掩模的进展，则必需个别地接触每个站和从操作者确认状态。就半导体制造商需要相同图案被多个不同机器使用而论，要求操作者人工地编程分解计算机，以进行适当修改。类似地，就某些客户的规定格式由于所使用的光掩模制造过程而需要修改而论，输入到分解计算机的数据的这些类型的修改因此也需要由操作者人工地输入。现有技术系统绝没有提供成自动地考虑和处理这些变化。

在光掩模生产工业中长期存在的问题是，如何减少从客户定单的接收到处理光掩模的形成和交付所占用的时间。在过去使用的加速这个过程的某些方法是工业标准的创建，如在过去几年已经修改和更新的SEMI P10标准，这些标准规定了其中数据应该电子地提供到光掩模制造商的格式。尽管这样的标准是有益的，但它们没有自然地实现在光掩模制造中必需的信息处理的无缝自动化。

在完成上述制造步骤之后，完成的光掩模发送到客户，以便用来制造半导体和其它产品。具体地说，光掩模通常用在半导体工业中，以把定义半导体电路的微小规模图像转印到硅或砷化镓基片或晶片上。用来把图像从光掩模转印到硅基片或晶片上的过程通常称作平版印刷或显微平版印刷。典型地，如图4中所示，半导体制造过程包括沉积、照相平版法、及蚀刻的步骤。在沉积期间，一层电绝缘或导电材料(像金属、多晶硅或氧化物)沉积在硅晶片的表面上。这种材料然后涂有光敏抗蚀剂。光掩模然后以与照相底片用来形成照片的大致相同的方式被使用。照相平版法涉及把在光掩模上的图像投影到晶片上。如果在光掩模上的图像分几次并排地投影到晶片上，则这称作步进，并且光掩模叫做原版(reticle)。

如图5中所示，为了在半导体晶片20上创建图像21，光掩模10插入在半导体晶片20与光学系统22之间，该半导体晶片20包括一层光敏材料。由通常称作分档器的能量源23产生的能量，禁止通过其中不透明材料存在的光掩模10的区域。来自分档器23的能量通过不透明材料12和抗反射材料13未覆盖的石英基片11的透明部分。光学系统22把不透明材料12和13的图案的成比例图像24投影到半导体晶片20上，并且引起在半导体晶片上光敏材料中的反应。光敏材料的溶解性在曝露于能量的区域中变化。在正照相平版过程的情况下，曝光的光敏材料变得溶解，并且可被除去。在负照相平版过程的情况下，曝光的光敏材料变得不溶解，并且未曝光的溶解光敏材料被除去。

在溶解光敏材料被除去之后，在未溶解光敏材料中形成的图像或图案通过在本技术中熟知的通常称作蚀刻的过程转印到基片。一旦图案蚀刻到基片材料上，剩余抗蚀剂就被除去，生成成品。新材料和抗蚀剂层然后沉积在晶片上，并且在下个光掩模上的图像投影到它上。再次显影和蚀刻晶片。重复这个过程，直到完成电路。因为在典型半导体器件中，可以沉积多层，所以对于即使单个半导体器件的制造，多个不同光掩模也是必要的。的确，如果多于一件的设备由半导体制造商用来制造半导体器件，则可能的是，即使对于每个层也可能需要多于一个光掩模。此外，因为不同类型的设备也可以用来曝光在不同的生产线中的光敏抗蚀剂，所以即使多个相同的光掩模图案也可能要求确定尺寸、方位、定比例及其它属性的另外变化，以考虑半导体制造设备的差别。类似调节也可能是必要的，以考虑光掩模制造商的照相平版法设备的差别。这些差别在光掩模制造过程中需要考虑。

发明内容

尽管现有技术是有价值的，但现有技术的已知方法和设备呈现本发明寻求克服的几种限制。

具体地说，本发明的目的是，提供一种用来产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统。

本发明的另一个目的是，提供一种用来自动地把光掩模定单产生成一种或多种标准和/或专有格式的基于规则的系统和方法，其中所述规则可改编或修改，以满足现在已知或此后开发的任何数量的不同标准和/或专有格式。

本发明的另一个目的是，提供一种用来自动地把光掩模定单产生成一种或多种标准和/或专有格式的基于规则的系统和方法，其中所述系统和方法要求用户遵守与用于光掩模定单的标准和/或专有格式有关的一组规则。

本发明的另一个目的是，提供一种用来自动地把光掩模定单产生成一种或多种标准和/或专有格式的基于规则的系统和方法，其中通过把包含光掩模数据的现有光掩模定单和/或模板合并成一种单个的新定单而产生定单。

本发明的另一个目的是，提供一种用来减少光掩模定单和数据输入时间的基于规则的光掩模定单系统和方法。

本发明的另一个目的是，提供一种用来增加制造的光掩模的整个产量的基于规则的光掩模定单系统和方法。

本发明的另一个目的是，提供一种用来减少与光掩模定单的人工输入有关的抄录错误的基于规则的光掩模定单系统和方法。

本发明的另一个目的是，消除在用于光掩模制造的光掩模定单数据的传输和处理过程中的人工干预。

本发明的另一个目的是，减少从光掩模制造商从前端光掩模处理器接收到必要处理信息时至把成品光掩模交付给该前端光掩模处理器所占用的引导时间和总处理时间。

本发明的另一个目的是，改进光掩模数据被处理和传输以用于制造的精度和效率。

本发明的另一个目的是解决现有技术中的不足。

其它目的由前面描述将成为显然的。

现在已经发现，本发明的以上和相关目的以一种前端方法和系统的形式获得，该前端方法和系统用来以基本上准备写(ready-to-write)格式和基本上准备检查(ready-to-inspect)格式自动地产生和处理至少一部分光掩模定单。

更具体地说，本发明涉及一种通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的方法。这种方法包括如下步骤：使用电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；确定尺寸设计数据，以助于在光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；把设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；确认被分解的设计数据的完整性；合并由如下数据类型的一种或多种产生的两个或更多的数据集：(i)所述被输入的设计数据；(ii)确定尺寸的设计数据；(iii)被分解的数据；及(iv)被分解数据的验证；把所述数据集调整成与掩模制造过程相兼容；及把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

类似地，本发明旨在一种通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的方法。这种方法包括步骤：使用电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；施加光学近似性校正，以助于在光掩模中的相移和基本上不透明特征的处理移动；把设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；确认被分解的设计数据的完整性；合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)被输入的设计数据；(ii)确定尺寸的设计数据；(iii)被分解的数据；及(iv)被分解的数据的验证；把数据集调整成与掩模制造过程相兼容；及把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

另外，本发明旨在一种用来通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，该自动系统包括包含指令的计算机可读介质。这些指令能够在处理器上执行，能够完成如下步骤：使用电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；确定尺寸设计数据，以助于在光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；把所述设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；验证被分解的设计数据的完整性；合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)被输入的设计数据；(ii)确定尺寸的设计数据；(iii)被分解的数据；及(iv)被分解的数据的验证；把数据集调整成与掩模制造过程相兼容；及把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

况且，本发明旨在一种用来通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统。这种系统包括：至少一个服务器，其包括存储器、用来处理掩模数据的第一软件部分和第二软件部分，其中与掩模设计相关的数据存储在存储器中，第一软件部分包括规定用户输入的要求数据以用于处理按照设计数据制成的光掩模的定单的指令，第二软件部分包括用来把掩模图案数据和要求数据分析成适于制造的格式的指令，其中第二软件部分包括用来执行如下任务的指令：(i)确定设计数据的尺寸，以助于在光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；(ii)把设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；(iii)验证被分解的设计数据的完整性；(iv)合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(a)被输入的设计数据；(b)确定尺寸的设计数据；(c)被分解的数据；及(d)被分解的数据的验证；(v)把数据集调整成与掩模制造过程相兼容；和电路，用来把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

而且，本发明旨在一种用来通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，该自动系统包括包含指令的计算机可读介质。这些指令在处理器上是可执行的，能够完成如下步骤：使用电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；施加光学近似性校正，以助于在光掩模中的相移和基本上不透明特征的处理移动；把所述设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；验证被分解的设计数据的完整性；合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)被输入的设计数据；(ii)确定尺寸的设计数据；(iii)被分解的数据；及(iv)被分解的数据的确认；把数据集调整成与掩模制造过程相兼容；及把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

本发明也旨在一种用来通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统。系统包括：至少一个服务器，其包括存储器、用来处理掩模数据的第一软件部分和第二软件部分，其中与掩模设计相关的所述数据存储在存储器中，第一软件部分包括规定用户输入的要求数据以用于处理按照设计数据制成的光掩模的定单的指令，第二软件部分包括用来把掩模图案数据和所述要求数据分析成适于制造的格式的指令，其中第二软件部分包括用来执行如下任务的指令：(i)施加光学近似性校正，以助于在光掩模中的相移和基本上不透明特征的处理移动；(ii)把设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；(iii)验证被分解的设计数据的完整性；(iv)合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(a)被输入的设计数据；(b)确定尺寸的设计数据；(c)被分解的数据；及(d)被分解的数据的验证；(v)把数据集调整成与掩模制造过程相兼容；和电路，用来把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

附图说明

当结合附图进行时，通过参考本发明的优选、尽管是说明性的实施例的如下详细描述，将更充分地理解本发明的以上和相关目的、特征及优点，在附图中：

图1代表现有技术的空白或未开发光掩模；

图2代表在已经部分处理之后的图1的光掩模；

图3代表在已经充分处理之后的图1和2的光掩模；

图4是流程图，表示使用处理光掩模制成或处理半导体晶片的方法；

图5表示使用晶片分档器制成半导体的过程；

图6表示按照本发明用来产生和处理光掩模定单的一般工艺流程；

图7表示根据本发明典型实施例的光掩模定单产生系统；

图8表示与本发明一起使用以指导用户输入规定数据的图形用户界面的例子；

图9是方块图，表示本发明的自动制造系统的配置；

图10是在本发明的处理服务器中实现的数据阵列的屏幕照片；

图11是超级链接到在本发明的处理服务器中实现的图10的数据阵列的屏幕照片；及

图12是方块图，表示在图9中表示的本发明的替换的多设施配置。

具体实施方式

本发明涉及一种用来自动地产生和处理光掩模定单的综合前端方法和系统。这种方法和系统包括两个分离的但相关的软件部分。本发明的第一软件部分用来以规定格式产生光掩模定单。本发明的第二软件部分处理所述光掩模定单的至少一部分(该光掩模定单使用第一软件部分、或基本上准备写作业组文件和/或基本上写检查文件产生，它又被转移到远程光掩模制造商的系统以制造光掩模)。这些软件部分在计算机系统上可安装成分离的程序，或者作为完成多功能的单一软件包操作。本发明的系统和方法的一般工艺流程参照图6描述，并且这种系统和方法的细节参照图7-12描述。

参照图6，从希望订购光掩模的实体(例如，从半导体制造商的计算机系统)得到光掩模设计数据和制造过程要求数据。典型半导体制造商的计算机系统可以是前端处理器的计算机网络的部分或与其分离。如果它被远程地连接，则它可以通过FTP连接、固定因特网连接、数据服务网络(如下面描述的那样)或其它已知或未来开发的技术等等连接。本发明的软件的第一部分安装在光掩模定单处理器的计算机系统上，并且用来以规定格式(例如，SEMI P-10)输入和调整的制造过程要求数据。在优选实施例中，本发明的软件的第二部分也与第一软件部分安装在相同系统上。可选择地，第二软件部分可安装在不同的计算机系统上，该计算机系统可通过例如网络连接、数据服务网络与作为第一计算机系统的第一部分通信，如下面讨论的那样。

本发明的第二软件部分接收在系统上作为电子文件已经输入的光掩模设计数据。此后，第二软件部分处理接收的设计数据和要求数据。在这方面，第二软件部分：(i)确定设计数据的尺寸用于二进制光掩模设计，或对所述设计数据进行光学近似性校正以用于相移掩模设计；(ii)分解所述设计数据；(iii)确认被分解的设计数据的完整性；(iv)合并在所述设计数据要求数据的处理期间创建的数据集；及(v)把合并的数据集调整成基本上准备检查和/或准备写数据文件。一旦完成这些步骤，调整数据就由电子信号(例如，电子邮件)发送到光掩模制造商以便处理。在一个实施例中，在这些步骤完成之前，电子信号(例如，电子邮件)发送到制造商，通知光掩模定单正在输入，并且从制造商请求与用来制造光掩模的制造设施和相关设备有关系的信息。制造商又将电子信号传送到提供这种信息的光掩模处理器的系统。这种信息将在最后定下用于制造的数据时考虑。尽管在优选实施例中，按在图6中表示的顺序进行以上步骤，但应该理解，本发明和附属权利要求书不限于这些步骤顺序，该步骤顺序可修改以满足具体定单和制造过程的需要。

在描述本发明的软件部分和相关方法之前，首先必须描述创建光掩模定单和按照该定单制造光掩模所需要的信息的类型。更具体地说，如这里讨论的那样，典型地需要光掩模来制造半导体和其它器件。通常是，在制造光掩模之前，需要光掩模的实体必须首先设计待制造的光掩模。为了这样做，这个实体将产生某些数据和技术要求，以提供给光掩模制造商。更明确地说，这个实体将在其计算机上产生：(1)图案数据；和(2)与特定作业相关的其它特定要求，这些要求常常以诸如SEMI P-10之类的工业标准格式提供，但可以以其它定制格式提供。

图案数据典型地以图的形式产生，并且典型地表示将要包括在光掩模上的各种形状和线条。然而，图案数据不必成比例。换句话说，图案数据不必包括与图案数据相对应的必要技术要求，包括但不限于诸如图案的关键尺寸之类的信息、将要在图案的不同区域中使用的颜色的深浅、登记信息、掩模的图案的实际放置、曝光信息、检查信息等等。而且，图案数据仅表示待蚀刻在光掩模上的图案的整体形状。图案数据能以可分析的任何电子格式提供。

因而，除提供图案数据之外，设计光掩模的实体也把另外的必要信息典型地以SEMI P-10形式提供给制造商，以便完成处理步骤。SEMI P-10是打算助于在软件系统之间的光掩模定单数据的传输的数据结构规范，以允许由光掩模制造商自动地处理这样的定单。已经在过去几年修订的SEMI P-10形式包括这样的信息，例如客户信息、关键尺寸信息、色调信息、登记信息、记账信息、被分离提供的图案信息的格式代码、用于完成光掩模的尺寸和比例系数、分解比例、基片和薄膜类型等等。SEMI-P10-0301标准以及其前身通过引用而被包括在这里，作为识别可包括在从客户到光掩模制造商的数据传输中的信息类型的例子。为了便于引用，被电子提供的非图案信息这里称作光掩模定单。然而，应该注意，本发明不限于SEMI P-10标准的当前版本，并且可容易地修改，以符合在这样的标准中的任何未来变化。而且，本发明不限于甚至标准格式，并且也可应用于定制格式，该定制格式为了便于引用而在这里被称作光掩模定单。根据本发明，第一软件部分和相关方法用来指导用户进行定单输入过程，从而以特定格式产生定单。

更具体地说，根据本发明，提供一种用来自动地以规定格式产生光掩模定单的计算机化基于规则的系统和方法，其中在输入制造光掩模所要求的定单数据的过程中指导希望制造光掩模的实体(下文称作“前端光掩模处理器”)，从而所述数据是完整和准确的，并且满足规定定单格式的要求。前端光掩模处理器的例子包括但不限于，光掩模设计者、半导体制造商、光掩模制造商的客户等等。

为了实现这些功能，系统和方法利用第一软件部分，该第一软件部分包括如下五个子部分的一个或多个的组合，以把光掩模定单产生成希望格式：(1)模板，其中输入数据；(2)规则，用来把在模板中输入的数据转换成规定标准和/专有格式；(3)用来使用模板以规定格式创建光掩模定单的方法；(4)用来相对于规定标准格式生效光掩模定单的分离的规则集；及(5)技术要求等级，其是与光掩模模板或定单有关的一个或多个独特属性对象并且可以由模板或定单所参考引用。

软件在本发明的系统中实施，以把特定模板与特定规则相关联而保证前端光掩模处理器输入完整和准确的光掩模定单信息。同样，软件在本发明的系统中实施，以把特定光掩模定单与特定规则相关联而保证前端光掩模处理器输入完整和准确的光掩模定单信息。所述技术要求等级可处理为参考数据，并且可应用于模板、定单、或创建定单使用的模板。通过使模板和定单包括技术要求等级作为参考数据，人们仅通过修订少数的技术要求等级可以容易地更新大量模板和/或定单。

在描述这种软件之前，首先必须描述模板、定单及规则被存储和组织的方式。更具体地说，系统包括：服务器，包括至少一个处理器；和外部数据存储介质，其存储在所述服务器上。用来助于光掩模定单数据的输入和用来产生定单的规则和模板存储在所述外部存储介质中。外部数据存储介质可以是不同类型的存储介质，包括但不限于关系数据库、面向对象类别、XML文件及现在已知或以后开发的其它类似存储介质。通过把存储介质保持在系统外部和通过提供与本发明的系统和方法一起使用的存储介质类型的灵活性，各种不同的用户和自动系统可以动态地跨过各种不同平台而操作所述系统。

在优选实施例中，基于具体标准和/或专有光掩模定单格式的要求，创建一组模板和定单。在这方面，模板和定单组织为部分和子部分的层级，其中每个部分和子部分由具体标准和/或专有光掩模定单格式的要求定义。例如，具体光掩模定单格式可能要求，掩模数据部分包括某些子部分，如标题、条码及图案数据，等等。这些子部分可以具有更详细的子部分(“子级部分”)。例如，是掩模数据部分的子部分的图案数据部分可以具有与其相关的一组子级部分。依据标准和/或专有光掩模定单格式的要求，这些子级部分也可以具有另外的子部分，该子部分又可具有它们自己的子部分，并且依此类推等等。

部分的每一个和其有关子部分由一组属性(例如，二进制、串、整数、实数、日期、Boolean、清单等等)定义。由于模板用来创建光掩模定单，所以与任何给定模板有关的规则(下面更详细地讨论)是与从模板创建的光掩模定单相关的规则的子集。在本发明下，模板、定单、部分、子部分等等每个可以分离地存储。这将允许用户留下某些部分或子部分在模板之外，并且使这些分离存储的部分或子部分被模板参考作为技术要求等级。在由给定模板创建的新定单要求这些部分或子部分变化的情况下，人们只需要对于分离存储的技术要求等级进行变化，而不必对模板进行任何变化。

表1表明模板和定单的部分和子部分可以根据标准和/或专有光掩模定单格式如何组织的例子：

表1

定单
						供给图案数据
	图案组
							图案放置
	掩模数据
							标题
		条码
							OPC定义
		阵列登记
							测量文件登记
		模具对数据的检查
							模具对模具的检查
		表面定义
							肉眼检查
		图案
								关键尺寸
			模具对模具的检查
								模具对数据的检查
		字段

			图案
									关键尺寸
				模具对模具的检查
									模具对数据的检查

在表1中，在第一(最左)列中的条目是在第二列中的条目(子级)的父级，并且在第二列中的条目是在第三列中的条目的父级，以此类推。可替换地，在表1中的任何两个相邻列可以定义部分(左列)和子部分(右列)。如在表1中表明的那样，相同部分可以作为对于其它部分的子部分出现。例如，关键尺寸数据作为对于在表1的列4和列5中的图案数据的子部分。由于每个部分和其有关子部分可以彼此以及与定单或模板分离地存储，所以它们的任一个也可以从定单的一部分拷贝到同一定单或不同定单、模板、部分、子部分等等的另一部分。拷贝和粘贴部分和子部分的这种灵活性允许用户迅速地创建多个光掩模定单，而不必重新输入相同的定单信息。

模板和定单可以使用图形用户界面人工地创建。模板和定单也可以使用来自其它、外部介质的信息自动地创建或修改，该外部介质包括但不限于非格式化文本文件、XML文件、或某种类型的数据存储器件或机构。例如，前端光掩模处理器的计算机可以包括这样的文件、数据库或其它电子信息，在创建新模板或定单或提供用于现有模板或定单的丢失信息时有用。数据处理机构可以用来把必要信息从这些外部介质输入到新的或现有的模板或定单。例如，转换或映像软件可用来把前端光掩模处理器的文件或数据库转换成应用程序所需要的格式。这样的软件的可购买到的例子是Data Junction，一种用来在几百个应用程序和结构数据格式之间迅速集成和转换数据的可视设计工具。然而，任何适当的商业或专有转换或映像软件可用来完成这个任务。外部信息可以局部地通过定单处理系统、或经像广域网或局域网或因特网等等之类的现有网络连接而输入到模板或定单。它们也可以由诸如FTP协议、电子邮件、http、专有协议、或可能适于传输信息的任何其它已知协议之类的其它已知技术接受。当使用GUI时，用户可以由GUI提示以用户输入具体列出的数据。图8是可由光掩模定单产生系统使用的典型GUI。在这个例子中，在图8中表示的GUI提示用户与待订购的掩模相关的描述性信息。在这个例子中，输入包括掩模名称、状态、产品类型等等的信息。在例如具有掩模名称的某些实例中，直接输入所述信息。在其它实例中，可以从下拉菜单选择信息，如关于产品类型种类的情形。

模板和定单也可以使用来自其它、外部介质的信息自动地创建或修改，该外部介质包括但不限于非格式化文本文件、XML文件、或某种类型的数据存储器件或机构。例如，前端光掩模处理器的计算机可以包括这样的文件、数据库或在创建新模板或定单或提供用于现有模板或定单的丢失信息时有用的其它电子信息。类似地，定单模板、部分、子部分等等可以由例如扫描仪、或其它文件转换技术电子地输入，从而预先存在的定单、模板、部分或子部分可以转换和重新格式化，以便由光掩模定单产生系统使用。例如，转换或映像软件可用来把前端光掩模处理器的文件或数据库转换成应用程序所需要的格式。这样的软件的可购买到的例子是Data Junction，一种用来在几百个应用程序和结构数据格式之间迅速集成和转换数据的可视设计工具。然而，任何适当的商业或专有转换或映像软件可用来完成这个任务。外部信息可以局部地通过定单处理系统、或经像广域网或局域网或因特网等等之类的现有网络连接，由诸如FTP协议、电子邮件、http、专有协议、或任何其它已知协议之类的各种数据传输技术，而输入到模板或定单。

也可以至少部分地以自动方式进行由个人经图形用户界面进行所有操作，而不用直接人工干预。在本发明下，这可基于纯文本指令集或命令行由脚本技术实现。纯文本指令集是可解释成应用程序编程界面以指示应用程序进行一系列操作的高级编程语言。例如，开始“用器件名称‘器件B’替换器件名称‘器件A’”的命令行可由用户在前端光掩模处理器的网络处、或自动地发送到系统，如这里细化的那样。当系统接收到这个命令行时，它用新器件名称替换在特定模板或定单中的器件名称。当然，这只是可如何使用指令集的一个例子，并且不意味着在本发明范围内的限制。定制模块为了用在前端光掩模处理器的系统上可以被创建，以使用能够产生ASCII或二进制文件和执行操作系统命令的任何编程语言访问这个指令。自动实施将允许由授权用户经现有网络连接对任何授权系统进行访问。诸如防火墙、注册、口令等等之类的典型安全性措施可用来保护数据库和掩模订购系统的机密性和数据安全性。

因而，定单、模板、部分、子部分等等可以通过使用脚本技术经命令行或某种其它开发环境产生和/或修改。优选地，脚本技术涉及命令行程序，该命令行程序把由用户输入的脚本的名称当作变元，该变元包含多条命令以便以某种规定方式操纵定单、模板、部分和/或子部分等等。优选地，经图形用户界面适用于用户的某些或所有编辑功能性也可经脚本命令使得在脚本技术中适用。

在优选实施例中，脚本命令可以用于这样的编辑功能，如创建新定单；编辑现有定单；由模板创建定单；把新部分或子部分添加到定单、模板、部分、或子部分；修改部分或子部分；保存定单；以其它可比较格式或标准由定单创建SEMI P-10文件；等等。另外，可使得脚本技术能够同时对多个定单和模板查询数据和进行批编辑。

在脚本技术中使用的脚本文件可以处于包含一条或多条脚本命令的纯文本文件的形式。脚本命令可以包括这样的功能，如变量说明、赋值、函数调用、if(如果)-语句、for(循环)或foreach(循环每一个)语句、while(当)-语句及包含等等。变量说明命令用来在其使用之前说明用来存储以后使用的数据值的变量。变量说明命令可以包括待使用的变量的数据类型的说明。变量的数据类型可以是如下一种：串、数字、Boolean、日期、清单、树项。串可以代表零或多个字符的序列。数字可以代表可以是正、零、或负的任何实际大小的整数或分数。Boolean可以代表真或伪。日期可以代表具体哪天，并且也可以包括当天的时间。清单可以代表相同数据类型的值的清单。树项可以代表来自光掩模订购系统的树层级的对象，如定单、光掩模、模板、或图案等等。

借助于函数调用命令，可对系统库中的函数进行调用。可从系统库调用的函数可以包括用于定单、模板、部分、及子部分的一般管理的函数，用来处理个别树项的函数，用来处理具体树项的字段的函数；用来处理日期值的函数，用来操纵值的清单的函数，及任何其它一般或特定目的函数。

用于定单、模板、部分、及子部分的一般管理的函数调用的例子可以包括但不限于：创建定单(以创建新的空定单)、由模板创建定单(以由给定模板创建新定单)、打开定单(以打开现有定单)、创建模板(以创建新模板)、打开模板(以打开用于编辑的现有模板)、应用日程表(以从规定日期开始把给定预先存在的日程表应用于定单或模板)、保存(以把对于定单模板的变化保存到数据库)、创建SEMIP-10文件(以由给定定单创建“SEMI P-10”文件)、创建和发送SEMIP-10文件(以由给定定单创建SEMI P-10文件，并且把它经规定传输方法，例如在因特网上的FTP，发送到规定位置)、删除定单(以从数据库删除规定定单)、删除模板(以从数据库删除规定模板)等等。

用来处理个别树项的函数调用的例子可以包括但不限于：创建树项(以创建特定类型的新的、空白树项)、拷贝树项(以创建树项的准确拷贝，包括其有关子级树项)、查找树项(以在满足一定给定标准的另一个树项下的任何地方定位给定类型的树项)、查找多个树项(以查找满足一定给定标准的所有树项)、获得父级(以得到给定树项的父级树项)、在树中替换(以替换在从特定对象开始的特定类型的树项内的所有文本字段中的给定文本件)等等。

用来处理树项的字段的函数调用的例子可以包括但不限于：获得字段(以得到树项字段的值)、设置字段(以设置树项字段的值)、添加字段项(以把新值添加到具有类型清单的树项字段)、除去字段项(以从类型清单的树顶字段除去项)等等。

用来处理日期值的函数调用的例子可以包括但不限于：创建日期(以创建具有规定值的新日期)、日期添加(以把规定时间段添加到日期)、日期减去(以把规定时间段从日期减去)等等。

用来操纵值的清单的函数调用的例子可以包括但不限于：添加清单项(以把新项添加到清单，其中新项具有与在清单中的其它项相同的数据类型)、除去清单项(以从清单除去项)、清单包含(以确定特定值是否包含在清单中)、清单尺寸(以确定在清单中的项数)等等。

一般或特定目的函数的例子可以包括但不限于：是零(以确定值是否是零值)、打印(以把消息打印到屏幕)等等。用户可能希望的任何类型或形式的功能可潜在地被包括作为在系统库中的函数。在系统库中的函数调用的清单可以在任何时间更新或修订。

赋值命令把变量赋予新值。If(如果)-语句命令允许脚本基于某些标准做出决定。For(循环)或foreach(循环每一个)语句允许在某种规定清单上的迭代。While(当)命令是通常环路建造。Include(包含)命令规定另一个脚本应该在该点运行。

潜在地，命令行可以出现在任何定单中。然而，一般要求定单符合逻辑，因为命令典型地按顺序执行。命令行依据系统设计者的偏好可以是情形敏感的或不敏感的。

命令行可以作为文本包括在脚本文件中，从而通过以用户的母语(例如，英语、俄语等等)解释什么正在进行而改善脚本文件的可读性。典型地，当命令行包括在脚本文件中时，在执行脚本文件时将拒绝该信息。而且，脚本文件可以格式化，以允许用户包括空白区域或空白回车，以提高文件的可读性而不影响脚本文件的执行。

在公开系统的一个实施例中，一旦被整体或部分地产生，定单、模板、部分和/或子部分就可以传输到本发明的系统的不同用户、或本发明的不同系统，或由他们访问。例如，在前端光掩模处理器处的用户可以发电子邮件，或者否则把模板或定单传送到在该前端光掩模处理器处或在不同前端光掩模处理器处的用户，从而传送的模板或定单可用来形成新的或修改的模板或定单。当然，这样的传送可以由其它传送方法进行，如FTP协议、或盘或其它存储介质上的运送等等。作为安全措施，访问代码或其它访问限制技术可以应用于定单、模板、部分和/或子部分等等，以防止越权访问和/或修改。

当形成光掩模定单时，前端光掩模处理器可能不能获取或知道完成定单的所有要求信息。在过去，这样的信息的缺少会延迟定单完成过程，并且要求从适当源人工地收集这样的信息。

在本发明的一个实施例下，这样的信息至少部分地从其它源自动地检索，所述其它源具有所要求的信息，并且要求在前端光掩模处理器的部分上的很少输入、或没有输入。例如，在要求输入到由第一组规则支配的定单中的信息对于前端光掩模处理器不可得到的情况下，本发明的数据处理机构可访问数据服务，该数据服务将提供搜索这种所要求的信息的能力。这样的数据服务的例子包括ServiceObjects，这使用户能够同时访问因特网站点、数据库、内网及其它内部和外部资源，就像所述内容在单个位置中存在那样，并且以其它程序可访问的格式打包信息，如运送信息。在这个例子中，应用程序把数据查询发送到寻找特定运送选项的数据服务，对于订购的光掩模可以得到该选项。数据服务又把被请求的信息发送回应用程序，该应用程序然后把这样的信息提供给使用应用程序的前端光掩模处理器。其它类型的数据服务也可应用于这样的信息，如物流、目录、供给特性、设备适用性、运行时间、装备时间、水平加载、容量信息、或为了准备特定光掩模定单前端光掩模处理器希望的任何其它这样的信息。脚本命令也可以创建以通过数据服务或其它访问数据。

数据服务可以本地位于在前端光掩模处理器的计算机或网络上，或者远离前端光掩模处理器的定单处理系统，并且本身可以通过对于应用程序软件和数据服务都已知的界面访问来自任何数量或类型的远程计算机系统(例如，物流零售商的计算机系统、零件供应商的计算机系统、设备供应商的计算机系统、光掩模制造商的计算机系统等等)，及可使用任何数量的可接受协议，包括例如SOAP、XML、XML-RPC、ebXML、HTML等等。数据服务可以从这些远程系统搜索(例如，通过查询)对于前端光掩模处理器不可得到的信息，并且如果可得到，则取得这样的数据。可选择地，数据服务可配置成验证数据，如果需要的话。数据服务的搜索机构可以基于用户的希望信息(例如、物流、供给、处理时间等等是可配置的，该信息基于由用户的系统提供的任何数量的可能参数(例如，成本、时间、前端光掩模处理器名称、掩模尺寸、待使用的分档器设备等等)。

由个人经图形用户界面进行的所有操作也可以至少部分地以自动方式完成；就是说，没有人工干预。本发明可以经纯文本指令集或命令行提供对于这种功能性的访问。纯文本指令集是可解释成应用程序编程界面以指示应用程序进行一系列操作的高级编程语言。例如，开始“用器件名称‘器件B’替换器件名称‘器件A’”的命令行可由用户在前端光掩模处理器的网络处、或自动地发送到系统，如这里细化的那样。当系统接收到这个命令行时，它用新器件名称替换在特定模板或定单中的器件名称。当然，这只是可如何使用指令集的一个例子，并且不意味着在本发明范围内的限制。定制模块为了用在前端光掩模处理器的系统上可以被创建，以使用能够产生ASCII或二进制文件和执行操作系统命令的任何编程语言访问这个指令。自动实施将允许由授权用户经现有网络连接对任何授权系统进行访问。诸如防火墙、注册、口令等等之类的典型安全性措施可用来保护数据库和掩模订购系统的机密性。

图7表明本发明的自动特征的各种可能实施例的例子。如图7中所示，前端光掩模处理器110已经在其计算机系统或网络上安装与本发明一致的定单处理系统100。这个系统的用户可以以上述方式输入部分或完整定单或模板。位于前端光掩模处理器的网络上的文件130用来创建或修改模板或定单。就完成定单所必需的任何信息不由前端光掩模处理器直接输入而论，这样的信息可以由定单处理系统100自动地从在前端光掩模处理器系统上可得到的文件、数据库、或其它电子信息中；从在可远程访问的前端光掩模处理器的外部的系统中；直接地从前端光掩模处理器的一个或多个供应商或零售商；及/或通过数据服务系统，自动地取得。前端光掩模处理器可以直接输入完成定单必需的所有信息，或完成定单必需的一部分信息并且剩余部分来自这些其它源，或者通过外部程序启动将自动产生完整定单的过程而不必访问定单处理系统的图形用户界面。在图7中表示的实施例中，完成定单必需的信息从数据服务系统120取得。数据服务系统120查询配置资源，如能是例如前端光掩模处理器的供应商或零售商的数据供应商A和B。数据服务系统120也可以从前端光掩模处理器本身收集信息。如图6中所示，与用来制造光掩模的制造设备相关的信息可经数据服务系统120从制造商得到。一旦所有必要的信息被检索并且输入到适当模板中，就产生定单文档140，其被发送到光掩模供应商150。

自动方式的任何任务的执行可以包括基于任何规则集的任何系统失效或过程生效的警报通知。通知是可通过终端用户配置的，并且可以处于电子邮件、报文传送、日志文件或数据库条目的形式。在一个实施例中，所述通知特征自动地产生发送到在光掩模的订购时将涉及的人们的姓名的分配清单的消息。这个分配清单可由任何预定标准建立。一旦产生消息，可以把已经产生用于光掩模的定单自动地通知给在分配清单上的每个人。这样的通知可以包括电子邮件、峰鸣器、瞬时报文传送、移动电话等等。这种自动通知过程可建立在前端光掩模处理器的网络或甚至制造商的网络中的任何地方，并且可由前端光掩模处理器希望的任何步骤触发。这个例子不应该看作是对于本发明的限制，并且仅说明可与本发明混合的通知系统的类型。

在新或修改光掩模定单的准备的通知时，如果没有错误存在，则本发明可自动地把定单转送到光掩模制造商，或者可以等待来自前端光掩模处理器系统的认证。如果识别到错误，则前端光掩模处理器然后可以人工地编辑定单以修改这样的错误，并且以通常方式继续处理定单。可选择地，数据可自动地调整以校正错误。

在另一个实施例中，可以产生不完整光掩模定单，该不完整光掩模定单包括一种格式的设计信息，该设计信息可传送到光掩模制造商的处理系统，以允许光掩模制造商确认设计的有效性、可行性及/或需要性。例如，前端光掩模处理器可以传送包括分解指令的部分光掩模定单，该分解指令然后可传输到光掩模制造商，以对提出设计的有效性、可行性及/或需要性进行分析。这可如上述那样自动地进行，或人工地进行。如果自动地进行，则在接收到关于提出部分光掩模定单的信息时，系统可产生把分解指令提交给光掩模供应商以便进一步分析和估计所必需的信息。在信息提交时，光掩模制造商然后也可以提出从制造商的观点或其它出发可能更可行或希望的替换设计。光掩模制造商的分析的结果然后可以传输到前端光掩模处理器计算机系统，以便由前端光掩模处理器进一步考虑是按照定单继续还是修改提出的定单。

优选地，模板、定单、部分、及子部分等等的每一个存储在数据库中，但也可以存储在其它位置中。可以提供搜索引擎，在该搜索引擎上，用户可搜索在数据库或其它位置中存储的具体模板、定单、部分、或子部分等等。使用搜索引擎，用户可定位以具体定单格式产生光掩模所需要的适当模板、部分、或子部分等等。一旦这样的模板、部分、子部分等等被定位，就由用户输入与光掩模定单有关的数据(典型地，希望放置用于光掩模的定单的前端光掩模处理器)。为了完成或助于数据输入或修改它们的内容的目的，用户也可使用搜索引擎定位现有光掩模定单，如下面描述的那样。

如以上提到的那样，前端光掩模处理器可能不具有具体光掩模定单格式的要求的足够知识，并因而不能输入由这样的标准所要求的所有必要信息以完成定单。另外，前端光掩模处理器易于产生数据输入错误，并因而可能提供不准确信息。因而，在系统上建立和存储第一和第二组规则，以保证前端光掩模处理器把完整和准确数据输入到模板和定单中，如由具体标准和/或专有光掩模定单格式要求的那样。

在优选实施例中，建立第一组规则以保证用户为输出完整光掩模定单而输入所有必要数据，如由具体标准和/或专有光掩模定单格式规定的那样。优选地，基于选择光掩模定单格式的要求建立第一组规则。在这方面，第一组规则指示数据“必须”输入、“能够”输入及/或“不能”输入到模板或定单的每个部分和子部分中，如由规定光掩模定单格式指示的那样。另外，第一组规则应该配置成，它们要求用户把信息输入到完成光掩模定单所要求的任何其它部分中(如以具体标准和/或专有光掩模定单格式叙述的那样)。

因而，例如，参照表1，具体标准定单格式对于“图案”模板可能要求，对于所有EAPSM定单：必须提供放置数据和关键尺寸数据；可以提供模具对模具检查数据；以及不能提供模具对数据。因而，规则被建立，并且与适当模板(和部分和子部分)有关，该适当模板要求：(1)用户“必须”包括放置数据和关键尺寸数据；(2)用户“能够”包括模具对模具检查数据；及(3)用户“不能”包括模具对数据检查数据。因而，在这个例子中，当用户使用本发明的系统和方法寻求创建用于EAPSM的定单时，规则将：(1)要求用户输入放置数据和关键尺寸数据；(2)允许(但不要求)用户输入模具对模具检查数据；及(3)使用户不能输入模具对数据检查。另外，选择的定单格式可能要求，除图案数据之外，阵列登记数据也必须输入以完成光掩模定单。因而，第一组规则也配置成，一旦用户已经完成输入所有图案数据，用户就将被引导到“阵列登记”模板，并且也被提示以把所有要求数据输入到模板(和与该模板的子部分相对应的任何其它模板)中。类似地，如果标准和/或专有光掩模定单格式要求数据输入到任何其它模板中以完成光掩模定单，则在用户已经把所有数据输入到阵列登记模板中之后，第一组规则将指导用户到这样的其它模板，并且提示用户把所有要求数据输入到这样的模板。一旦用户已经把数据输入在所有要求模板中，则就将允许用户最后完成模板(根据下面所讨论的第二组规则经受输入数据)。

因而，如应该是显然的那样，本发明的第一组规则保证，用户如由具体标准和/或专有格式要求的那样，把必要信息输入到适当模板中以产生光掩模定单。以另一种方式表达，所述规则在输入光掩模定单数据的过程中指导用户，以保证所有必要定单信息输入到所述模板中。

另外，系统和方法也提供第二组规则，该组规则保证用户以准确和适当格式输入数据，如由具体标准和/或专有光掩模定单格式规定的那样。如以上提到的那样，模板的每个部分和子部分由属性集(例如，二进制、串、整数、实数、日期、Boolean、清单等等)定义。因而，在优选实施例中，第二组规则为每个模板和定单而建立，该每个模板和定单向用户指示输入到具体模板或定单中的数据是否“必须”、“能够”及/或“不能”具有具体属性，如由具体标准和/或专有光掩模定单格式要求的那样。

例如，参照表1，具体标准和/或专有光掩模定单格式可能要求：(1)输入到放置模板中的数据“必须”是整数；(2)输入到标题模板中的数据“能够”是串；及(3)输入到关键尺寸模板中的数据“不能”是串。因而，对于放置模板建立规则，该规则：(1)要求用户在放置模板中输入整数；(2)允许用户把串输入到标题模板中；及(3)阻止用户把串输入到关键尺寸模板中。因而，如应该是显然的那样，本发明的规则保证，用户如由具体标准和/或专有光掩模定单格式要求的那样，把适当的信息类型和数据类型输入到每个模板中，以产生光掩模定单。换句话说，第二组规则只允许用户把一定类型的数据输入到模板中，并因而减少在放置光掩模定单的过程中具有设计错误和/或数据输入错误的可能性。

在优选实施例中，这里描述的第一和第二组规则被分离地创建和存储。如以上提到的那样，所述规则可以以任何不同数量的动态格式(例如，作为数据库、面向对象类别、XML文件等等)存储在系统内部或系统外部，从而系统依据偏好或用户和/或自动系统，可以适于在任何数量的平台上运行。然而，应该注意，可创建和存储单组规则，条件是，这样的单组规则保证用户既完成光掩模定单信息(如参照第一组规则描述的那样)，又完成准确的光掩模定单信息(如参照第二组规则描述的那样)。而且第一和第二组规则可以以类似方式组合成单组规则。

如以上提到的那样，本发明包括把特定的第一和第二组规则与特定模板相关联的功能，以保证以完整和准确方式产生光掩模定单。在优选实施例中，这种功能以基于软件的应用程序的形式提供，该应用程序安装在希望放置用于光掩模的定单的实体(如半导体制造商)的计算机上。不像现有技术，这种软件不依赖于给定光掩模制造商的制造过程。而是本发明的软件可用作独立可靠的应用程序、网络分布的应用程序、或基于web的“细-客户机(thin-client)”应用程序。优选地，软件应用在客户机-服务器系统中，其中图形用户界面(例如，客户机)连接到在服务器上的数据库上并且从其检索数据。在所有情况下，运行本发明的软件的前端光掩模处理器不要求访问和/或登录光掩模制造商的任何外部局域网而发出定单。

现在描述本发明的软件把特定规则与特定模板相关联的方式。具体地说，由于模板是分层的数据收集，所以模板的每个元素由有关软件对象解释。在优选实施例中，规则嵌在所述软件对象内，并且负责在模板中输入的数据的组装。这些规则是约束条件或指令，如算法，并且典型地与软件对象的一个或多个属性相关。因而，借助于这种布置，当规则和模板适当地彼此有关时，有可能输入完整和准确的光掩模定单。

另外，系统优选地配置成，如果需要的话，则允许分离地更新规则和模板。在这方面，当前标准光掩模定单格式称作SEMI P-10标准格式。然而，预期随着产生技术进步，可能开发新的标准格式，以覆盖这些进步，并因而替换当前SEMI P-10标准格式。另外，当前有由海外光掩模制造商使用的多种其它国际标准定单格式。就SEMI P-10格式而论，期望这些国际格式将相对于时间而变化或替换。因而，本发明的系统提供更新规则和模板以满足这些变化的能力。更具体地说，第一和第二组规则优选地与模板的每一个彼此分离地存储，该模板同样也每个存储为分离文件。通过保持所述规则和模板相分离，对于一个的任何修改将对其它没有影响。在这方面，当规则或模板被修改时，不需要对于对应元素的相关代码变化，其中都不由近似特征修改所指示。另外，通过分离地存储规则和模板，可以避免系统失灵(例如，其中对于嵌入或内部嵌套元素的意外变化可能引起意外失效)发生的可能性。在这方面，如果规则和模板不分离地存储，则独立修改是不可能的。现有模板的每一个(可能有几千个，如果不是更多)那么不得不个别地修改，以包括新规则。因而，显而易见，本发明的系统和方法不限于任何一种具体标准格式，而是可容易地适应以符合任何当前或新开发标准光掩模定单格式的要求。类似地，前端光掩模处理器可以改变其专有定单格式，以满足与新开发或改进技术有关的任何变化。

为了修改所述规则，建立软件对象，从而其中包含的规则可能影响包含在其内的它们的属性、它们的子级或其它规则的一个或多个。在这方面，建立所述规则，从而只有一些规定属性受规则影响。因而，由于软件对象，像模板，本质上是分层的，所以它们既知道它们的父级又知道它们的子级。因而，在修改子级对象的任何时候，通知其受变化影响的区域、规则、或属性的父级。结果，在层级内任何地方进行的任何变化传播通过整个家族。因而，所述规则具有增强父级的任何子级元素的添加、或除去的能力。因而，在应用程序内，每个对象通过软件的后续发布是单独可更新的或可升级的。另外，对象父级保持对于每种类型的子级元素的标准收集，在正在建造模板的同时，可添加或除去该子级元素。

响应于标准和/或专有光掩模定单格式的修改(其要求新属性和/或子部分对于定单和模板的层级的添加)，也可修改模板。在这样的情况下，对于受影响部分和/或子部分定义新关系，并且把新规则动态地添加到现有规则方案。

为了表明本发明的这些特征，现在描述如下例子。当前SEMIP-10标准要求光掩模定单尤其包括：掩模定单[]、掩模集[]、掩模定义[]、及图案定义[]。因而，根据这种要求，建立如下模板：半定单模板、半掩模集模板、半掩模模板及半图案模板。另外，建立用于这些模板的每一个的第一和第二组规则，这些规则指示是否数据必须输入到模板的每一个中和可输入到这样的模板中的数据类型。然而，在以后时刻，SEMI P-10标准可以由要求CD部分的新标准替换。因而，现有模板(例如，半图案)可修改成包括例如关键尺寸(CD)部分，以符合SEMI P-10标准的计量学方面的修改。另外，新模板可创建，以符合新SEMI标准的任何新添加方面(例如，登记)。类似地，已经存在的第一和第二组规则可适于满足与当前SEMI P-10标准的修改CD部分方面有关的变化。另外，可创建新的第一和第二组规则组，以符合新SEMI标准的新登记特征。

技术要求等级也可以用作容易地更新在大量模板、定单、部分、子部分等等中包括的特定数据条目的机制。具体地说，在本发明的一个实施例中，技术要求等级文件可以包括对于在多个定单、模板、部分、子部分等等中的未来更新所希望的特定数据或对象。各种定单、模板、部分、子部分等等然后包括对于用于其中的特定数据的技术要求等级文件的参考引用，而不是存储特定数据。以这种方式，这些被参考引用的特定数据或对象可在大量定单、模板、部分、子部分等等中通过仅更新技术要求等级文件而更新，而不是更新引用这些特定数据或对象的所有定单、模板、部分、子部分等等。

例如，技术要求等级可以包括标准关键尺寸(CD)行宽度，该标准关键尺寸行宽度在给定时间对于具体光掩模前端光掩模处理器被认为可以接受。随着光掩模技术继续发展，可接收CD行宽度将可能经受变化。代之以必须个别地更新规定具体CD的每个定单、模板、部分、子部分等等，技术要求等级的使用允许人们仅更新一个技术要求等级文件，并且然后参考该技术要求等级文件的所有文件都将自动地更新。在光掩模定单的上下文中提供为技术要求等级的适当变量的其它例子包括：与掩模属性有关的测量公差，该测量公差由光掩模制造商要求满足，以保证掩模满足前端光掩模处理器技术要求；与掩模属性有关的可接收缺陷率，该缺陷率由光掩模制造商要求满足，以保证掩模满足前端光掩模处理器技术要求；与光掩模的制造有关的材料(基片、薄膜)，该材料必须满足由前端光掩模处理器支付和期望的质量水平；会计信息，包括定价和记账/装运信息；前端光掩模处理器服务信息，如联系姓名和电话号码、满足在光掩模生产中需要的内部的或前端光掩模处理器要求所要求的机器类别或特定机器；平版印刷术图案放置信息，包括但不限于数据色调、束曝光、X/Y放置信息；数据传输信息，包括但不限于电子邮件地址、FTP地址、协议、登录ID和口令、目录结构；及与在光掩模制造中使用的原料有关的零售商特定信息，包括但不限于基片、薄膜、接触物、抗蚀剂、及在制造中使用独特设备，如“Applied Materials Alta 3500”或“KLA Starlight”等等。

如以上讨论的那样，模板或定单包括一个或多个有关对象，如部分、子部分、数据等等。例如，光掩模可以具有一个或多个有关属性对象，如登记、标题、条码等等。在使用技术要求等级的本发明的实施例中，可以提供实用程序，以允许端用户创建一个或多个独特数据或对象，该数据或对象可以与模板或定单相关联。这些对象将与有关定单和模板分离地存储。此外，这些分离存储对象可以具有它们自己的规则组。当创建模板或定单时，可以允许端用户把模板或定单与在实用程序中定义的某些或所有对象相关联。在创建模板、定单、或从存储模板产生的定单时，在实用程序中存储的已经与模板、定单、或用来创建定单的模板有关的所有对象信息可以当作参考数据，并且施加到模板、定单、或用来创建定单的模板上。基于赋予在应用程序的安全性模块中的端用户的“角色和职责”，可以更新或除去参考对象信息。例如，较少经验的端用户可能禁止改写在实用中存储的参考数据。另一方面，可能允许有经验用户修改参考数据。

本发明的另一个方面是，它通过如下提供生产新光掩模定单的能力：(1)从其中包含数据的已经存在的模板，把数据合并成新定单；(2)从其中包含数据的已经存在的定单，把数据合并成新定单；(3)从已经存在的模板和定单，把数据合并成新定单；或(4)从已经存在定单、模板、部分及/或子部分，把数据合并成新定单。在这方面，每当用户把数据输入到模板中或创建定单时，这样的模板和/或定单保存在本发明的系统上。而且，如以前讨论的那样，部分和子部分在本发明的系统上与定单或模板相分离地存储。此后，用户能够访问已经存在的模板、定单、部分及/或子部分，并且使用保存在其中的数据以产生新定单。通过向本发明的系统的用户提供从已经存在的定单、模板、部分及/或子部分合并数据的能力，大大地减少用来输入光掩模定单数据的过程，由此减少产生光掩模定单占用的整个时间。下面描述用来把数据合并成定单的四种方法的每一种。

在一个实施例中，为了从存在的模板创建新定单，提示用户创建新的、空白定单。其次，向用户提供选择由以前光掩模定单创建或保存的模板和/或定单的选项。依据将要由新定单制造的光掩模的类型，用户选择和加载在关系数据库中存储的最相关模板。选定的模板向用户显示以前输入的数据。对于在模板内的每个非零对象(例如，对象包括数据)，用户可以或者把以前输入数据选择成新定单，或者用新数据改写这种数据。另外，就在模板内的具体对象是零(例如，它已经是空的)而论，用户可以把适当数据输入在该对象内。其次，为这个定单建立的规则如上述那样操作，以保证准确和完整地输入数据。此后，所述软件处理这种信息，并且基于这种信息产生新定单。

用来从已经存在的定单创建新定单的过程与从已经存在的模板创建新定单的过程类似。在这个实施例中，为了从存在的定单创建新定单，提示用户创建新的、空白定单。其次，向用户提供选择由以前光掩模定单创建或保存的模板和/或定单的选项。依据待由新定单制造的光掩模的类型，用户选择和加载在关系数据库中存储的相关定单。选定的定单向用户显示以前输入的数据。对于在定单内的每个非零对象，用户可以或者把以前输入数据选择成新定单，或者用新数据改写这种数据。另外，就在定单内的具体对象是零而论，用户可以把适当数据输入在该对象内。其次，为这个定单建立的规则如上述那样操作，以保证准确和完整地输入数据。此后，所述软件处理这种信息，并且基于这种信息产生新定单。

在又一个实施例中，为了从存在的模板和定单创建新定单，提示用户创建新的、空白定单。其次，向用户提供选择由以前光掩模定单创建或保存的模板和/或定单的选项。依据将要由新定单制造的光掩模的类型，用户选择和加载在关系数据库中存储的相关模板。选定的模板向用户显示以前输入的数据。对于在模板内的每个非零对象，用户可以或者把以前输入数据选择成新定单，或者用新数据改写这种数据。另外，就在模板内的具体对象是零而论，用户可以把适当数据输入在该对象内。其次，为这个定单建立的规则如上述那样操作，以保证准确和完整地输入数据。另外，以前保存的定单也可以合并成同一定单。在这方面，用户可选择和加载在关系数据库中存储的先前发出的定单。选定的定单向用户显示以前输入的数据。对于在定单内的每个非零对象(例如，对象包括数据)，用户可以或者把以前输入数据选择成新定单，或者用新数据改写这种数据。另外，就在定单内的具体对象已经是空的而论，用户可以把适当数据输入在该对象内。其次，为这个定单建立的规则如上述那样操作，以保证准确和完整地输入数据。一旦所有适当模板和定单已经合并成新定单，所述软件就处理这种信息，并且基于这种信息产生新定单。

而且，以前定单或模板的存在部分和/或子部分可以输入到新光掩模定单或模板中。例如，与记账和/或装运地址有关的存在部分和/或子部分可以应用于定单或模板。另外，在应用程序内定义的一个或多个独特技术要求等级可以合并成新定单或模板。

一旦前端光掩模处理器使用本发明的第一方面的软件已经输入定单数据，并且已经产生光掩模图案数据，本发明的第二软件应用程序就把这种信息的至少一部分自动地处理成准备写格式和准备检查格式。在一个实施例中，用来完成这种功能的软件加载在前端光掩模处理器的计算机系统上。此后，被处理的信息以数据文件发送到用于制造的外部、远程制造商的计算机系统。

更具体地说，在一个实施例中，前端光掩模处理器的计算机系统包括服务器，第一和第二软件部分都安装在该服务器上。由前端光掩模处理器产生的定单数据和由前端光掩模处理器产生的图案数据传送到服务器。在优选实施例中，分析软件包括在前端光掩模处理器的服务器中以实现后作业过程，并且做两件基本事情。第一，分析软件检查刚传送到服务器的文件，并且把它们适当地(如果配置成这样做)拷贝到预定工作数据目录。第二，分析软件记录它所做的任何事情到监听跟踪邮件消息，该邮件消息然后送出到任何数量的预配置邮件地址。这些邮件地址可编程为依据前端光掩模处理器、或其中发生所述处理的设施而变化。这种邮件消息既是前端光掩模处理器应答、又是数据传送已经发生的内部通知。

在优选实施例中，图案数据由分析软件路由到连接到FTP服务器上的内存池，并且存储在其中以便以后处理。可选择地，图案数据可通过其它通道传送，或者可以存储在FTP服务器中。

类似地，在优选实施例中，定单由分析软件路由到在前端光掩模处理器中用于处理的另一个计算机服务器(“处理服务器”)，该服务器或者直接或者通过网络连接与FTP服务器相连接。可选择地，FTP服务器和处理服务器能是同一计算机。处理服务器包括用来处理定单的软件(“SEMI软件”)，该软件从待处理和/或格式化的定单自动地抽取或分析数据以便用于制造设备。这样的处理和/或格式化可以出现在与处理服务器相同的计算机上，或在前端光掩模处理器的网络的其它计算机服务器上。

在另一个实施例中，如图12中所示，远程前端光掩模处理器设施也可装有另外的处理服务器，该处理服务器具有安装在其上的相同或类似SEMI软件。因而，有可能使在其它位置的多个远程前端光掩模处理器设施经网络连接与FTP服务器相接合。结果，按照本发明，由FTP服务器接收的定单和图案数据为了处理可路由到各种远程前端光掩模处理器设施。

在优选实施例中，在处理这种数据的开始时，SEMI软件把已经输入用于光掩模的定单通知给在光掩模制造中将涉及的那些人员。当接收到SEMI技术要求时，可自动地触发这种通知特征。更具体地说，当被启动时，通知特征可以自动地产生发送到人们的姓名的分配清单的消息，其中在与SEMI技术要求相对应的光掩模的制造中将涉及这些人。这种分配清单可由任何预定标准建立。在一个实施例中，分配清单由处理服务器的位置建立，其中SEMI软件安装在该处理服务器上。因而，例如在SEMI软件安装在位于新加坡的设施中的处理服务器上的场合，分配清单将包括仅位于该设施中的那些人员的姓名。通过相反的例子，如果SEMI软件安装在位于德国的设施中的处理服务器上，则分配清单将包括仅位于该设施中的那些人员的姓名。一旦产生消息，就可以把已经接收到用于光掩模的定单通知给在分配清单上的每个人。这样的通知可以包括电子邮件、寻呼机、移动电话等等。这个自动通知过程可建立在前端光掩模处理器的网络中的任何地方，并且由前端光掩模处理器希望的任何处理步骤触发。这个例子不应该当作对于本发明的限制，并且仅说明可被包含在本发明中的通知系统的类型。

其次，处理所述SEMI技术要求。在这方面，SEMI软件可以包括从SEMI技术要求自动抽取数据的特征，根据将要进行的制造任务排列抽取的数据，及产生其中存储排列数据的数据阵列。在优选实施例中和如图10中所示，数据阵列包括识别前端光掩模处理器(“企业”)的信息、前端光掩模处理器晶片fab(“FAB”)、实施的技术(“技术”)、作业号码、用于光掩模的前端光掩模处理器设计信息(“器件”)、关于光掩模的制造的状态报告(“状态”)、及定单(“定单Rcvd”)和/或定单被接收的日期(“接收的P-10”)。

然而，应该注意，如果需要，则优选数据阵列应该容易地修改，以便当需要或表示较小分类时添加辅助描述性分类。而且，数据阵列也可包括更详细的子数据阵列，该子数据阵列链接到以上列出的光掩模信息分类的任一种上。

例如，子数据阵列可超级链接到具体JOB No上。这个子数据阵列可包括证明在光掩模制造中进行的每个步骤的时间和日期戳信息。

另外，子数据阵列可超级链接到器件类别上。在优选实施例中，这个子数据阵列包括已经从定单中抽取并且设置成用于关联各种制造任务的数据，该制造任务可能需要在制造光掩模时进行。这些制造任务例如包括但不必限于作业组处理(“Jobdeck”)、电子关键尺寸绘图(“E-CD Plots”)、SEMI技术要求调整(“SEMI”)、条编码(“BarCode”)、登记测量文件创建(“REG MF2”)、数据尺寸(“Data S/R”)、双重检查(“Double Chk”)。尽管未表示，这个子数据阵列也可以包括其它制造任务，像例如分解、栅格上检查、光学近似性校正及标识。

参照图9，SEMI处理软件根据将要进行的这些制造任务设置和处理抽取的数据。另外，这个子数据阵列可以包括其它信息，包括但不限于用于待形成在光掩模上的图案的代码名称(“Layer”)、制造商的存货控制号(“Plate No”)、其中根据前端光掩模处理器的偏好应该处理每个光掩模的顺序(“Pri”)、关于用于光掩模的制造过程的状态报告(“Layer Status”)、及由SEMI处理软件接收到数据的日期(“Data Rcd”)。

现在描述在这个子数据阵列中组织数据的方式。作业组处理是指指令传送到平版印刷工具(例如，E束和激光束)和检查设备(例如，KLA或Orbot)和由它们处理的方法。在平版印刷作业组处理的情况下，把图案写在光掩模毛坯上需要的某些指令从定单抽取，并且存储在图10中表示的子数据阵列的作业组中。这些抽取的作业组指令然后由供平版印刷工具使用的SEMI处理软件处理。这些指令指示各种图案要放置在其上的光掩模上的位置、以及由具体工具完成的其它功能，该其它功能包括但不必限于控制曝光、图案的定比例、及色调。可选择地，抽取的作业指令可以修改以考虑关于具体前端光掩模处理器、其划分区或内部制造场合等等的其它信息，以产生用于平版印刷工具或其它处理设备的适当指令。例如，作业组指令对于前端光掩模处理器的具体制造中心可能需要例行地修改，以考虑由这样的前端光掩模处理器提供的指令要求所述图案被平版印刷工具颠倒这一事实，这与在分解所述图案数据时颠倒图案相比可能是一种耗时过程。

就检查作业组处理而论，所述相关技术要求从定单中抽取，并且设置为被检查设备使用。这些指令也存储在作业组中。用于检查设备的抽取技术要求应该被排列和格式化，从而检查设备可检查出处理光掩模的缺陷(例如，模具对数据比较)和污染(即，清洁度)。

SEMI调整是指一种过程，借助于该过程，由前端光掩模处理器提供的定单自动地修改，以包括另外的细节、被重新格式化或否则排列和/或除去外部细节。在这方面，SEMI处理软件包括诸个功能，借助于这些功能它可把各种信息添加到定单。例如，前端光掩模处理器的业务要求，如优选发送地址，可自动地添加到定单上并且存储在SEMI中，如图11中所示。同样，制造信息也可添加到定单，并且存储在子数据阵列中。在这方面，编程SEMI软件，以基于在制造过程中可能产生的各种情况(例如，基于制造商的设备的特征或特定前端光掩模处理器要求)，调节某些数据(例如，关键尺寸、偏置信息、薄膜类型)，该各种情况未被前端光掩模处理器所考虑、或者在前端光掩模处理器的定单中。

另外，SEMI软件自动地产生用于分解引擎的指令，以分解图案数据。分解是熟知的过程，借此图案数据划分(即，分解)成平版印刷工具可理解的形状和段。在优选实施例中，以“cinc”文件的形式产生分解指令。在一个实施例中，计算机辅助转换软件(“CATS”)用来分解图案数据，并且观看该图案数据。CATS是商业可得到软件，为了在制造过程以前观看数据的目的，该软件模拟作业组计划表(例如，掩模布局)。然而，应该注意，使用其它格式的其它软件也可以产生分解指令。分解指令可以存储在处理服务器上，或在独立分离的盘内存池上。分解引擎服务器与处理服务器或盘内存池相接合，以读取分解指令并且分解所述图案数据。

一旦图案数据已经分解，就应该验证分解数据的完整性。验证过程涉及在光掩模处理中使用的已知或此后开发技术的任一种。

而且，条编码是指借助于其把条码施加到光掩模上的过程。更明确地说，某些前端光掩模处理器为了库存跟踪目的可能希望把条码包括在其光掩模上。因而，在前端光掩模处理器已经在定单中包括用于这样的条码的信息的场合，SEMI处理软件抽取这种数据，格式化它，及以由平版印刷工具可用的形式创建图案数据。平版印刷工具由LithoJobdeck Instructions指向条码图案数据，以使用它把条码写在光掩模上。

创建登记测量文件的过程是指一种方法，借助于这种方法，创建包含坐标的文件，检查工具将使用该坐标对准光掩模。这些坐标可一起用来曝光在半导体上的图像。登记信息也可以用在半导体制造过程中，以把光掩模与半导体晶片、或其它光掩模层对准。SEMI软件从定单中抽取用于登记测量文件的创建的适当数据，并且对于进行登记检查过程的设备格式化这样的数据。在这方面，登记文件可处于各种格式，包括但不限于.MF2文件、.MF3文件、关键尺寸文件等等。数据定尺寸和颠倒的过程是指一种方法，借助于这种方法，修改图案数据的尺寸和色调，以便于在制造过程中光掩模的处理。SEMI软件从定单中抽取适当指令，并且创建用于数据定尺寸操作的分解指令。这些指令典型地存储在cinc文件中。这种过程进行的状态在图9中的Data S/R中跟踪。

在二进制光掩模设计的情况下，SEMI软件自动地把数据偏置施加到图案数据上，以提供纬度来说明在光掩模制造期间基片的运动。因而，将说明光掩模的基本上透明和基本上不透明特征的任何运动，从而仍然按照设计技术要求制造光掩模。考虑施加数据偏置的因素包括但不限于生产控制标识、在其制造光掩模的设施(例如，光掩模制造设施、前端光掩模处理器的设施)及在这些设施的条件，这些条件对于光掩模的制造可能有影响(例如，定尺寸、移动、特别说明、图案命名更新、建造作业组、及图案名称到SEMI文件或MES文件的上载)。

在相移光掩模(“PSM”)设计的情况下，SEMI软件自动地把光学近似性校正(“OPC”)施加到图案数据上，以校正典型地出现在PSM(例如，aaPSM、EAPSM)的关键尺寸和分辨率变化及类似子分辨率结构。在这方面，本发明的软件施加修改掩模设计的布局几何形状的OPC，以解决在构造期间引入的系统性失真。

另外，生产控制标识的过程是指确定适当制造设施的特征，在该设施中将处理具体前端光掩模处理器定单。例如，在光掩模制造商包括在德国和新加坡的制造设施的场合，SEMI软件分析前端光掩模处理器的定单，并且确定是否将在德国或新加坡、或其某种组合制造光掩模。生产控制标识特征可设置成基于任何各种标准进行这种确定，该标准包括但不限于在每个制造场合使用的平版印刷工具、前端光掩模处理器的偏好、及在每个设施处的工作负载。

双重检查特征是指一种过程，该过程为了已经定尺寸的图案数据的精度比较由前端光掩模处理器提供的技术要求。SEMI软件从定单中抽取数据，并且把它排列成由进行这种双重检查特征的设备读取。

栅格上(on-grid)检查是指把在作业组中的图案数据的放置与平版印刷工具的内部放置“栅格”相比较的过程。如果限定的位置坐标点落在Litho工具内部栅格的点之间，则认为图案偏离栅格。

本发明的另一个特征是自动报文传送特征，该报文传送特征编程为识别错误和其它事件发生(即，过程已经开始或结束)并把它们报告给这里讨论的分配清单的成员。这种特征可如以上描述的那样相对于FTP服务器和处理服务器被使用。

另外，电子关键尺寸绘图(“E-CD Plots”)是指这样的过程，借助于该过程，已经处理的关于光掩模的图案数据的电子画面为了质量控制目的标记有内部参考标记。作为这里相关的，SEMI处理软件从定单抽取用于E-CD Plotting的必要指令，并且典型地创建用于分解引擎的cinq文件以在创建绘图文件时使用并把它们存储在盘内存池中。

依据提供定单的格式，可能需要或不需要进行某些或全部制造任务。因而，可以使在数据阵列中列出的制造任务的任意一个可选择地被禁用。为这些处理功能的每一种排列数据的方式将根据由前端光掩模处理器提供的技术要求而变化。尽管如此，数据应该排列成可完成所述功能中的每一个。

这种系统也包括自动和交互监视系统，该监视系统提供任何制造任务的状态以及在进行这样的任务时遇到错误的提示识别和通知。参照图9和10，在优选实施例中，这个交互监视系统以在因特网上的网站的形式提供，该网站可经安全授权而访问，该安全授权包括但不限于口令。可选择地，这个网站也可在万维网、和/或任何其它web上或者通过授权或者不通过授权而访问。一旦进入这个网站，技术员就可观看每项制造任务的状态。如果任何错误已经发生，技术员就可停止该具体制造任务，校正错误，及重新启动过程。

另外，制造执行系统(“MES”)可安装在客户计算机上，该客户计算机也可以由处理服务器接口。MES系统在本技术中是熟知的，并且向系统用户提供跟踪制造过程、产生记账信息、及下载这里讨论的各种制造任务的结果的能力。

本发明也可以用来把调整数据接口以及自动地传递到任何MES系统，该MES系统实施标准或定制协议，该标准或定制协议包括但不限于XML、SOAP、ebXml、Rosetta Net及其它类似协议。

可包括其它任务，尽管在图9中未表示，例如过程确定，这是自动工具选择过程。具体地说，在过程确定时，在光掩模制造时利用的处理设备的具体单元或类型(例如特定平版(litho)或检查工具)被规定。这种信息可以或者由前端光掩模处理器规定，或者作为所选择的执行具体任务地点的结果。

一旦相关数据文件由本发明的第二软件部分的相关特征产生，在优选实施例中，这些数据文件就合并成单个文件。如果希望，这些文件可保持为分离的文件，或者合并成多组文件。所述数据文件应该包括处于基本上准备写格式和/或准备检查格式的定单数据和图案数据的至少一部分。换句话说，数据文件应该处于一种当由制造商接收时可输入到适当制造设备中的格式，以按照前端光掩模处理器的技术要求基本上写和检查光掩模。当然，可能必须具有关于由制造商使用的设备类型的一些知识，以保证数据文件处于用于该设备的适当格式。因而，在适当和必要的场合，前端光掩模处理器应该从制造商得到制造设备(例如，平版印刷工具、检查设备等等)要求，并且把该信息包括在数据文件中。在一个实施例中，这可通过前端光掩模处理器把电子信号(例如，电子邮件)发送到制造商而建议他们输入定单并且要求与制造光掩模使用的制造设施和相关设备有关的信息而完成。制造商又把电子信号传送到提供这种信息的前端光掩模处理器。这些信号应该在光掩模定单的输入完成之前发送。在一个实施例中，使用所述数据服务网络和本发明的方法完成这些步骤。

一旦数据文件被编译，前端光掩模处理器就经网络连接把这个文件发送到用于制造的外部的远程制造商的系统。在一个实施例中，前端光掩模处理器把这种信息经基于TCP/IP的网络(例如，因特网)使用文件传输协议(“FTP”)电子地传送到制造商。本发明也可使用其它协议，如分析电子邮件的附件或通过从其它介质下载文件。一旦制造商的系统接收到文件，制造商就将按照在其中提供的指令和技术要求制造光掩模。在某些实例中，制造商可能必须进行曾经接收的这种文件的某种另外调整。此后，光掩模可用来通过这里讨论的已知技术制造半导体。

因为已经详细地表示和描述了本发明的优选实施例，所以对其的各种修改和改进对于本领域的技术人员将成为显而易见的。例如，在优选实施例中，由前端光掩模处理器使用的第一和第二软件部分输入光掩模定单，并且把该定单的至少一部分处理成基本上准备写文件和/或基本上准备检查文件，该文件又发送到远程制造设施。然而，应该理解，本发明可修改，从而第一软件部分由前端光掩模处理器的前端光掩模处理器使用，其中前端光掩模处理器把光掩模定单发送到光掩模处理器，该光掩模处理器又使用本发明的第二软件部分处理定单。因而，本发明的精神和范围要广义地理解，并且仅由附属权利要求书而不是由以前说明书限制。

Claims (24)

1.一种通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的方法，包括步骤：

使用所述电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；

对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；

确定所述设计数据的尺寸，使得便于在所述光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；

把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；

验证所述被分解的设计数据的完整性；

合并由如下数据类型的一种或多种产生的两个或更多的数据集：(i)所述被输入的设计数据；(ii)所述确定尺寸的设计数据；(iii)所述被分解的数据；及(iv)所述被分解的数据的验证；

把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；及

把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备检查格式的步骤。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述光掩模制造处理包括检查作业组。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述光掩模制造处理包括平版印刷作业组。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定尺寸步骤还包括生产控制标志的步骤。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定尺寸步骤还包括确定制造设施的步骤。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定尺寸步骤还包括基于制造设施确定偏置的步骤。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定尺寸步骤还包括确定光掩模制造设施的步骤。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定尺寸步骤还包括基于光掩模和客户设施调整数据的步骤。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述调整步骤包括如下步骤的一个或多个：(i)确定所述数据的尺寸；(ii)移动所述数据；(iii)提供与所述数据相关的特殊说明；(iv)更新图案的名称；(v)建造作业组，把图案名称上载到SEMI文件中；以及(vi)把图案名称上载到MES文件中。

11.根据权利要求1所述的方法，还包括处理至少一个作业组的步骤。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括从包括如下项的组中选择的步骤：画出电子关键尺寸；调整SEMI技术要求；产生条码以识别待制造的光掩模；创建登记测量文件；双重检查所述数据；及借助于制造设施的标识而标志所述数据，其中在所述制造设施处制造所述光掩模。

13.根据权利要求18所述的方法，其中所述标志步骤基于如下标准的一个或多个：在所述制造地点处使用的平版印刷工具类型；前端光掩模处理器的偏好；及在每个设施处的工作负载。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述要求是光掩模工业格式。

15.根据权利要求20所述的方法，其中所述工业格式是SEMI-P10标准。

16.根据权利要求1所述的方法，其中所述要求是专有格式。

17.根据权利要求22所述的方法，其中所述专有格式基于前端光掩模处理器的设计系统。

18.根据权利要求22所述的方法，其中所述专有格式基于前端光掩模制造商的处理系统。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述输入要求的步骤由第一软件部分支配，该第一软件部分包括从包括如下的组选择的至少一个子部分：(1)模板，在其中输入数据；(2)规则，用来把在模板中输入的数据转换成规定格式；(3)指令，用来使用模板以规定格式创建光掩模定单；(4)分离的规则组，用来相对于规定格式验证光掩模定单；及(5)与光掩模模板或定单相关联的至少一个独特属性对象。

20.一种通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的方法，包括步骤：

使用所述电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；

对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；

施加光学近似性校正，以助于在所述光掩模中的所述相移和基本上不透明特征的处理移动；

把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；

验证所述被分解的设计数据的完整性；

合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)所述被输入的设计数据；(ii)所述确定尺寸的设计数据；(iii)所述被分解的数据；及(iv)所述被分解的数据的验证；

把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；及

把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

21.一种用来通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，包括包含指令的计算机可读介质，所述指令在处理器上是可执行的，能够完成如下步骤：

使用所述电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；

对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；

确定所述设计数据的尺寸，使得有助于在光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；

把所述设计数据的至少一部分分解成与特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；

验证被分解的设计数据的完整性；

合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)所述被输入的设计数据；(ii)所述确定尺寸的设计数据；(iii)所述被分解的数据；及(iv)所述被分解的数据的验证；

把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；及

把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

22.一种用来通过把在制造具有基本上透明和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，包括：

至少一个服务器，包括存储器、用来处理掩模数据的第一软件部分和第二软件部分，其中，

与所述掩模设计相关的所述数据被存储在所述存储器中，

第一软件部分包括规定用户输入的要求数据以用于处理按照所述设计数据制成的光掩模的定单的指令，

第二软件部分包括用来把掩模图案数据和所述要求数据分析成适于制造的格式的指令，其中所述第二软件部分包括用来执行如下任务的指令：(i)确定所述设计数据的尺寸，使得有助于在所述光掩模中的基本上透明和基本上不透明特征的处理移动；(ii)把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；(iii)验证被分解的设计数据的完整性；(iv)合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(a)所述被输入的设计数据；(b)所述确定尺寸的设计数据；(c)所述被分解的数据；及(d)所述被分解的数据的验证；(v)把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；和

电路，用来把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

23.一种用来通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，包括包含指令的计算机可读介质，所述指令在处理器上是可执行的，能够完成如下步骤：

使用所述电子电路设计数据的特定形式输入所述设计数据；

对于按照所述设计数据制成的光掩模，输入用来处理定单的要求；

施加光学近似性校正，以助于在所述光掩模中的所述相移和基本上不透明特征的处理移动；

把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；

验证被分解的设计数据的完整性；

合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(i)所述被输入的设计数据；(ii)所述确定尺寸的设计数据；(iii)所述被分解的数据；及(iv)所述被分解的数据的验证；

把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；及

把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

24.一种用来通过把在制造具有相移和基本上不透明特征的光掩模时使用的电子电路设计数据文件形式的设计数据转换成适于特定光掩模制造处理的数据格式而处理掩模数据的自动系统，包括：

至少一个服务器，包括存储器、用来处理掩模数据的第一软件部分和第二软件部分，其中

与所述掩模设计相关的所述数据存储在所述存储器中，

第一软件部分包括规定用户输入的要求数据以用来处理按照所述设计数据制成的光掩模的定单的指令，

第二软件部分包括用来把掩模图案数据和所述要求数据分析成适于制造的格式的指令，其中所述第二软件部分包括用来执行如下任务的指令：(i)施加光学近似性校正，以助于在所述光掩模中的所述相移和基本上不透明特征的处理移动；(ii)把所述设计数据的至少一部分分解成与所述特定光掩模制造处理相兼容的基本上准备写格式；(iii)验证被分解的设计数据的完整性；(iv)合并来自如下数据类型的一种或多种的两个或更多的数据集：(a)所述被输入的设计数据；(b)所述确定尺寸的设计数据；(c)所述被分解的数据；及(d)所述被分解的数据的验证；(v)把所述数据集调整成与所述掩模制造过程相兼容；和

电路，用来把与被调整的数据集相对应的电子信号发送到与所述特定光掩模制造处理有关的远程制造系统。

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