CN101010443B - 金属基涂层组合物和相关的涂覆基材 - Google Patents

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Abstract

公开了一种涂覆基材。该涂覆基材包括基材和基材上的涂层组合物，该涂层组合物包括：至少一个金属基层，其选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金，以及钴与铬的混合物和合金；和金属基层上的至少一个包含SixNy的介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5。根据本发明的未热处理的涂覆基材与热处理的涂覆基材相比，ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)不大于8个单位。

Description

金属基涂层组合物和相关的涂覆基材
发明领域
本发明涉及新型功能涂层以及用其涂覆的基材。
背景
玻璃基材用于从汽车到建筑应用的各种目的。通常，玻璃制造商生产大量标准尺寸的玻璃薄板，然后将玻璃切割成基于顾客要求的尺寸。一些玻璃必须弯曲成各种形状。典型地，使用需要加热玻璃的工艺成型玻璃。除弯曲之外，正如本领域中熟知的，可对玻璃进行加热操作以便回火或热强化。最为有效的弯曲、回火和热强化过程发生在1150
Figure 200580029439610000210003_0
(621℃)-1450
Figure 200580029439610000210003_1
(788℃)的温度下。
依据玻璃基材的最终应用，玻璃需要具有各种性能例如发射率、可见光反射率、颜色等。玻璃基材可以涂覆功能涂层使得基材能够获得需要的性能。功能涂层例如光催化涂层、日光处理涂层、低发射率涂层、导电涂层等在本领域中是众所周知的。
如由上述内容可以发现的，用户经常需要将要进行涂覆并且热处理的玻璃基材。在许多情况下，希望首先通过涂覆基材然后进行热处理形成热处理的涂覆基材。例如，如果进行加热步骤以弯曲玻璃，对平板玻璃基材施用涂层组合物然后弯曲基材与相反的过程相比较为简单。
对于给定的项目，例如商用建筑项目，用户将需要已进行热处理的涂覆玻璃和未进行热处理的涂覆玻璃。理想地，热处理的涂覆玻璃和未热处理的涂覆玻璃将表现出相同的外观并提供相似的功能特性。这对于玻璃制造商和用户将是最为简单的方法。
设计玻璃基材的涂层组合物使得允许涂覆基材在其暴露于加热操作例如弯曲、回火或热强化后具有与加热操作前相同的外观是困难的。希望具有耐久的涂层组合物，该涂层组合物可以施用于玻璃基材以提供具有相同外观而不管涂覆基材是否经过加热操作的涂覆基材。本发明提供了这样的涂层组合物。
发明概述
在一个非限制性的实施方案中，本发明是包括基材和基材上的涂层组合物的涂覆基材，该涂层组合物包括至少一个金属基层，该金属基层选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金；和金属基层之上的至少一个介电层，该介电层包含具有式SixNy的氮化硅，其中x/y的范围是0.75-1.5。
在另一个非限制性的实施方案中，本发明是包括基材之上的第一介电层、第一介电层之上的金属基层和金属基层之上的第二介电层的涂覆基材，第一介电层包含具有式SixNy的氮化硅，其中x/y的范围是0.75-1.5，该金属基层选自钨、铬、铝、钽、钼及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金，第二介电层包含具有式SixNy的氮化硅，其中x/y的范围是0.75-1.5。
在又一个非限制性的实施方案中，本发明是包括基材之上的第一金属基层、第一金属基层之上的红外反射层、红外反射层之上的第二金属基层和第二金属基层之上的介电层的涂覆基材，第一金属基层选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金、以及钴与铬的合金；第二金属基层选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金。
在另外的非限制性实施方案中，本发明是制备涂覆基材的方法，包括在基材上沉积选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金的金属基层；和在金属基层之上沉积包含SixNy层的介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5。
在另一个非限制性的实施方案中，本发明是改变涂覆基材的R1颜色的方法，该涂覆基材包括基材上的包含具有式SixNy的氮化硅的第一介电层，第一介电层之上的选自钨、钽、铬、铝、钼及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金的金属基层；和金属基层之上的第二介电层，该第二介电层包含具有式SixNy的氮化硅，其中x/y的范围是0.75-1.5，该方法包括调整第二介电层的厚度。
在又一个非限制性的实施方案中，本发明是改变涂覆基材的R2颜色的方法，该涂覆基材包括基材之上的包含具有式SixNy的氮化硅的第一介电层，第一介电层之上的选自钨、钽、铬、铝、钼及其混合物和合金、以及钴与铬的混合物和合金的金属基层，和金属基层之上的第二介电层，第二介电层包含具有式SixNy的氮化硅，其中x/y的范围是0.75-1.5，该方法包括调整第一介电层的厚度。
发明描述
说明书和权利要求中使用的表示尺寸、物理性质、组分数量、反应条件等的所有数字应理解为在所有情形中被术语“约”所修饰。因此，除非相反说明，下面说明书和权利要求中所述的数值可以根据试图通过本发明获得的期望性质而变化。丝毫不试图限制对权利要求的范围应用等同原则，应至少根据报道的重要数字并应用通常舍入技术理解各个数值参数。此外，应理解这里公开的所有范围均包括其中所包含的任何和所有子范围。例如，应认为“1-10”的规定范围包括介于最小值1和最大值10之间并包含最小值1与最大值10的任何以及所有子范围，即，以最小值1或更大值开始并以最大值10或更小值结束的所有子范围，例如1.0-7.8、3.0-4.5和6.3-10.0。
如这里所使用的，术语“上”、“在…上/之上施用”、“在…上/之上形成”、“在…上/之上沉积”，“在…上覆盖”和“在…上/之上提供”意味着在表面上形成、沉积、覆盖或提供但不一定与该表面接触。例如，在基材上“形成”涂层不排除存在一个或多个位于形成的涂层和该基材之间的具有相同或不同组成的其它涂层。例如，基材可以包括例如本领域中已知的用于涂覆基材例如玻璃或陶瓷的常规涂层。
如这里所使用的，从基材的涂覆侧观察到的美学性能(即，透射颜色、反射颜色和亮度)被称为R1性能，而从基材未涂覆侧观察到的美学性能被称为R2性能。
如这里所使用的，与热处理的涂覆基材相比，如果未热处理的涂覆基材的ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)不大于或等于8个单位、例如不大于或等于5个单位、或不大于或等于1个单位，则涂覆基材是“颜色稳定的”。“热处理的基材”是指加热到至少1150
Figure 200580029439610000210003_2
(621℃)温度的涂覆基材。可以在John Wiley and Sons出版的Roy S.Berns的Principle of Color Technology第三版117-118(2000)中找到根据CMC色差方程计算ΔE的方法，这里通过引用将该文献并入本文。使用的L*a*b*数据应是关于CIE标准光源D65和10度的CIE标准观测器角度。
在一个非限制性的实施方案中，本发明是包括至少一个金属基层和至少一个介电层的涂覆基材。根据本发明，适合的基材包括玻璃、钢、陶瓷等。在本发明的一个非限制性实施方案中，通过常规浮法玻璃工艺制备玻璃。美国专利3,083,551；3,220,816和3,843,346中描述了适合的浮法工艺，这里通过引用将它们并入本文。在本发明的另一个非限制性实施方案中，基材是浮法玻璃带。
根据本发明，金属基层具有单膜或多膜构造并覆盖基材。在本发明的一个非限制性实施方案中，金属基层向涂覆基材提供物理和化学耐久性，并且该金属基层包括抗腐蚀、坚硬并且可以在最大1200
Figure 200580029439610000210003_3
(℃)的温度承受加热20分钟的金属。金属基层的适合材料包括诸如钨、铬、钽、钼、铌的金属及其混合物和合金，以及可以由Deloro Stellite inGeshan，Indiana购得的Stellite
Figure 200580029439610000210003_4
系列产品的钴与铬的混合物和合金。
在本发明的另一个非限制性实施方案中，金属基层是高反射材料例如铝。
根据本发明，金属基层可以具有任何厚度。例如金属基层的厚度范围可以是1nm-50nm，例如2nm-25nm、或3nm-20nm。
金属基层的厚度可以影响涂覆基材的可见光透射率。通常，金属基层越厚，涂覆基材的可见光透射率越低。
可以使用常规技术例如磁控溅射真空沉积(“MSVD”)施用本发明的金属基层。下面的参考文献中描述了适合的MSVD沉积方法，这里通过引用将它们并入本文：美国专利4,379,040；4,861,669和4,900,633。
根据本发明，介电层覆盖金属基层。介电层提供机械耐久性并影响涂覆基材的美学性能。介电层可以由单膜或多膜构成。在本发明的一个非限制性实施方案中，介电层是包含SixNy的单膜，其中x/y的范围是0.75-1.5，例如Si3N4。可选地，可以在介电层上覆盖氮化钛、氮化铬或氮化钨及其混合物的层。
在本发明的另一个非限制性实施方案中，介电层由多膜构成。例如该多膜构造可以包括(i)包含SixNy的具有折射率的第一介电膜；(ii)第一介电膜上的具有低于第一介电膜折射率的第二介电膜；和(iii)第二介电膜上的包含SixNy的第三介电膜。在本发明的一个非限制性实施方案中，第二介电膜具有小于第一SixNy膜折射率的至少0.25例如至少0.2或至少1.8的折射率。用于第二介电膜的适合材料的实例是二氧化硅。
介电层可以是任意厚度。例如介电层的厚度可以是至少5nm，例如10nm-50nm，或20nm-40nm。
通常，介电层的厚度对涂覆基材的R1美学性质具有显著影响。影响的强度取决于金属基层的厚度。对于较厚的金属基层，影响更为显著。与R1性能相比，介电层的厚度对涂覆基材的R2美学性能具有较小的影响。
可以使用上文关于金属基层所论述的MSVD及CVD和喷涂热解方法施用本发明的介电层，这些方法在本领域中是众所周知的。
下面的参考文献中描述了适合的CVD沉积方法，这里通过引用将它们并入本文：美国专利4,853,257；4,971,843；5,536,718；5,464,657；5,599,387；5,948,131。
下面的参考文献中描述了适合的喷涂热解沉积方法，这里通过引用将它们并入本文：美国专利4,719,126；4,719,127；4,111,150和3,660,061。
上面讨论的金属基层和介电层构成(comprise)本发明的“基本涂层叠层”，并且在这里分别称为“基本金属基层”和“基本介电层”。如下讨论，可以向基本涂层叠层中引入其它材料层以提供不同的性能。
在另一个非限制性实施方案中，本发明的涂层叠层包括另外的介电层。涂覆基材包括基材上的第一介电层，第一介电层之上的金属基层，和金属基层之上的第二介电层。
如上文关于基本介电层所述第一和第二介电层具有相同的组成和厚度。在具有第一和第二介电层的涂覆基材中，可以通过改变介电层的厚度控制R1和R2美学性能。当本发明的涂覆基材用作多层镶玻璃单元的构件时，涂覆表面典型朝向在其中安装窗户的结构的内部，使得R2性能是从结构外部观察到的性能。调节第二介电层厚度的主要影响是改变涂覆基材的R1颜色。调节第一介电层厚度的主要影响是改变涂覆基材的R2颜色。影响的强度取决于金属基层的厚度。对于较厚的金属基层影响更为显著。
对于这个非限制性实施方案的金属基层的适合材料包括金属例如钨、铬、钽、钼、铝及其混合物和合金；以及从市场上购得的Stellite
Figure 200580029439610000210003_5
系列产品的钴与铬的混合物和合金。可以如上所述施用金属基层。
可以使用上文所讨论的常规技术例如CVD、喷涂热解和MSVD施用第一和第二介电层。
在本发明的又一个非限制性实施方案中，本发明的涂层叠层中包括红外反射层和第二金属基层。更具体地，本发明的涂覆基材包括基材之上的第一金属基层，第一金属基层之上的红外反射层，红外反射层之上的第二金属基层和第二金属基层之上的介电层。红外反射层的适合材料包括诸如金、铜和银的金属及其混合物和合金。
上文所讨论的第一和第二金属基层的组成和厚度适用于基本金属基层。可以如上文所述施用这些金属基层。
上文所讨论的介电层的组成和厚度适用于基本介电层。可以如上文所述施用该介电层。
红外反射层可以是任何厚度。例如红外反射材料层的厚度可以是1nm-50nm，例如，1nm-25nm，或2nm-20nm。通常，红外反射层越厚，涂覆基材的发射率越低。
可以使用上文所述的常规MSVD技术施用本发明的红外反射层。
根据本发明，涂覆基材的各种实施方案表现出下列性能：不大于0.8例如0.3-0.7或0.3-0.6的发射率，不大于90％例如2-85％或5-60％的可见光透射率和至少4％例如4-70％或10-70％的R2可见光反射率。涂覆基材也是颜色稳定的。
尽管不要求，然而本发明的所有描述的实施方案可以包括保护性外涂层作为涂层叠层的最后一层以提供改良的化学和/或机械耐久性。适合的保护性涂层的实例包括但不限于包含二氧化硅、二氧化锆、二氧化钛、二氧化铌、二氧化铬和氧氮化硅及其混合物的涂层。
根据本发明的涂覆基材可以用于各种应用例如汽车应用、建筑应用等。在一个非限制性的实施方案中，在绝缘玻璃单元中包括本发明的涂覆基材。
除上述的涂覆基材外，本发明还包括制备涂覆基材的方法。在一个非限制性的实施方案中，本发明的方法包括在基材上沉积选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金，以及钴与铬的合金的金属基层；和在金属基层上沉积包含SixNy的介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5。
本发明进一步包括通过调整第一或第二介电层的厚度改变涂覆基材的R1和R2颜色的方法。
将通过下面的非限制性实施例说明本发明。
实施例
下面的非限制性实施例用于说明本发明。在标准涂覆条件下在常规实验室MSVD涂覆设备中制备样品1-12。基材是6mm厚的透明玻璃片。表1中显示了涂层叠层的各种构造。如表1所述从左到右在基材上施加所述的涂层(即首先施加第一介电层，然后施加金属基层等)。
在样品3、4和7-12中，第一介电层是由第一氮化硅膜、第一氮化硅膜上的二氧化硅膜和二氧化硅膜上的第二氮化硅膜构成的多膜构造。更具体地，在样品3和4中，第一介电层由24纳米(nm)厚的第一Si3N4膜、第一氮化硅膜上的7nm厚的二氧化硅膜和二氧化硅膜上的24nm厚的第二氮化硅膜构成。在样品7和8中，第一介电层由18nm厚的第一氮化硅膜、第一氮化硅膜上的14nm厚的二氧化硅膜和二氧化硅膜上的18nm厚的第二氮化硅膜构成。在样品9和10中，第一介电层由18nm厚的第一氮化硅膜、第一氮化硅膜上的28nm厚的二氧化硅膜和二氧化硅膜上的18nm厚的第二氮化硅膜构成。在样品11和12中，第一介电层由18nm厚的第一氮化硅膜、第一氮化硅膜上的10nm厚的二氧化硅膜和二氧化硅膜上的18nm厚的第二氮化硅膜构成。
在样品1、2、5和6中，第一介电层由Si3N4构成。
每个实施例的金属基层由Stellite6B合金构成，并且保护性外涂层由二氧化硅构成(如果外涂层存在)。
表1各实施例的涂层构造的描述
实施例 第一介电层的厚度[nm] 金属基层的厚度[nm] 第二介电层的厚度[nm] 保护性外涂层的厚度[nm]
1 47 18 38 10
2 47 17 38
3 55 18 38 10
4 55 17 38
5 12 15 37 10
6 12 14 37
7 50 17 37 10
8 50 16 37
9 64 17 37 10
实施例 第一介电层的厚度[nm] 金属基层的厚度[nm] 第二介电层的厚度[nm] 保护性外涂层的厚度[nm]
10 64 16 37
11 46 19 43 10
12 46 18 43
对示范涂覆基材进行Taber试验以测量涂覆基材的耐久性。Taber测试包括使用购自Paul N.Gardner Company，Inc.Pompano Beach，FL的Gardner Taber Abraser对每个样品施加标准水平的机械接触(exposure)。如下进行Taber测试。首先在Gardner Taber Abraser的两个轮上使用500克的载荷。仪器上的两个研磨轮规定为具有72+5的特定硬度计硬度的Calibrase CS-10F。其次，将4英寸×4英寸的样品在两个边缘粘贴到5-7/8英寸直径的台板。第三，将样品研磨10循环，然后从台板上移开，并使用毛巾和50/50的异丙醇/去离子水清洁。
然后以下面方式计算记录的Taber得分：使用TCS Spectrogard量热计(购自BYK-Gardner)在对应于Taber磨痕的圆形的周围四个位置测量漫反射系数、Y(CIE 1931 Y，x，y色度空间)。以大孔径“不包括镜面(specular-excluded)”模式操作spectrogard量热计，使用光源D65，2°观察器。记录四个漫反射系数测量值的平均值作为Taber得分。较高的Taber得分表明来自磨痕的更多漫反射，并且可解释为显示了更大的损伤程度。
在样品上也进行颜色稳定性测试。在热处理前使用Perkin-ElmerLambda9UV/VIS/NIR分光光度计测量色度值(对于CIE标准光源D65和10°CIE标准观察器角度的L*a*b*)。然后加热每个样品到1200
Figure 200580029439610000210003_7
(649℃)温度持续20分钟，然后再次测量色度值。由上述测量数据计算ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)。
表2样品1-12的性能
    样品   Taber得分     ΔE(T)     ΔE(R1)     ΔE(R2)
    1   0.09     0.96     1.22     1.22
    2   0.08     1.01     2.11     1.64
    3   0.06     2.07     1.52     1.62
    4   0.09     1.08     1.32     1.70
    5   0.04     0.63     2.40     1.18
    6   0.08     0.93     1.51     0.56
    样品   Taber得分     ΔE(T)     ΔE(R1)     ΔE(R2)
    7   0.07     0.99     1.49     1.32
    8   0.08     1.00     1.33     1.44
    9   0.07     0.93     1.54     0.64
    10   0.09     0.89     1.50     0.84
    11   0.09     1.17     1.12     0.74
    12   0.07     1.68     2.10     1.00
在标准涂覆条件下在常规实验室MSVD涂覆设备上制备样品13-16。基材是6mm厚的透明浮法玻璃。样品13的涂层叠层包括基材上的25nm厚的第一Si3N4介电层，第一介电层上的16nm厚的Stellite6B合金的金属基层，金属基层上的35nm的第二Si3N4介电层，和第二介电层上的15nm厚的二氧化硅保护层。样品14的涂层叠层包括基材上的由16nm Si3N4、Si3N4上的31nm的氧化硅和二氧化硅上的16nm Si3N4构成的多膜的第一介电层，第一介电层上的16nm厚Stellite6B合金的金属基层，金属基层上的35nm的第二Si3N4介电层和第二介电层上的15nm厚的二氧化硅保护层。样品15的涂层叠层包括基材上的由70nm Si3N4、Si3N4上19nm厚的氧化硅和二氧化硅上的16nm的Si3N4构成的多膜第一介电层，第一介电层上的16nm厚Stellite
Figure 200580029439610000210003_10
6B合金的金属基层，金属基层上的35nm第二Si3N4介电层和第二介电层上的15nm厚的二氧化硅保护层。样品15的涂层叠层包括基材上的由70nmSi3N4、Si3N4上的19nm厚的氧化硅和二氧化硅上的19nm的Si3N4构成的多膜的第一介电层，第一介电层上的16nm厚Stellite
Figure 200580029439610000210003_11
6B合金的金属基层，金属基层上的35nm的第二Si3N4介电层和第二介电层上的15nm厚的二氧化硅保护层。
表3显示了在由两块6mm透明玻璃片构成并具有12mm空气间隙的绝缘玻璃单元中的样品的各种性能。在#2表面(即，外板层的内侧表面)上施用本发明的涂层。基于测量的分光光度数据使用LawrenceBerkeley National Lab’s WINDOW 5.2.17算法确定性能。
在样品上也进行颜色稳定性测试。在热处理前使用Perkin-ElmerLambda9UV/VIS/NIR分光光度计测量色度值(对于CIE标准光源D65和10°CIE标准观察器角度的L*a*b*)。然后加热每个样品到1150(649℃)温度持续20分钟，然后再次测量色度值。按上文所述使用测量数据确定由ΔECMC(15∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(15∶1)(R2)表示的颜色稳定性。
Figure G05829439620070305D000111
从表2中可以看出，根据本发明的涂覆基材表现出由Taber得分代表的良好耐久性。典型的涂覆基材表现出不大于0.09的Taber得分。测试的样品也表现出由ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)表示的优异颜色稳定性。典型的涂覆基材表现出不大于2.07的ΔECMC(1.5∶1)(T)、不大于2.40的ΔECMC(1.5∶1)(R1)和不大于1.70的ΔECMC(1.5∶1)(R2)。如上所述，如果未热处理的涂覆基材和热处理基材的ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)不大于或等于8个单位，则涂覆基材是“颜色稳定的”。
基于表3，当结合到上述绝缘玻璃单元中时，希望根据本发明的涂覆基材可以表现出下面的性能：不大于22％例如不大于19％的可见光透射率，不大于42％例如不大于39％或不大于35％的R2反射率，不大于30％例如不大于28％、或不大于26％的R1反射率，不大于0.30例如不大于0.28或不大于0.25的阴影系数，不大于0.45例如不大于0.42或不大于0.41的U-值。这些典型基材的颜色稳定性由不大于1.1的ΔECMC(1.5∶1)(T)、不大于1.0的ΔECMC(1.5∶1)(R1)和不大于1.9的ΔECMC(1.5∶1)(R2)表明。也可以生产由色度值表明的各种颜色的基材。
在不背离上述说明书中所公开思想的情况下，本领域的技术人员容易理解可以对本发明进行修改。应认为这样的修改包含在本发明的范围内。因此，上文所详细描述的具体实施方案仅是说明性的，而并非限制本发明的范围，附属权利要求和其任意及所有等效给出了本发明的完整范围。

Claims (10)

1.涂覆基材，包括：
a.基材；和
b.基材上的涂层，包括：
包含SixNy的第一介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5；
第一介电层上的金属基层，所述金属基层选自钨、铬、钽、钼、铝、铌及其混合物和合金，以及钴与铬的合金；
金属基层上的包含SixNy的第二介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5；及
第二介电层上的保护性外涂层，其选自二氧化硅、二氧化锆、二氧化钛、二氧化铌、二氧化铬和氧氮化硅及其混合物，
其中未热处理的涂覆基材与热处理的涂覆基材相比，具有不大于8个单位的ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)。
2.根据权利要求1的涂覆基材，其中金属基层具有1-50nm的厚度。
3.根据权利要求1的涂覆基材，其中介电层具有大于或等于5nm的厚度。
4.根据权利要求1的涂覆基材，其中每个介电层是多膜构造，包括(i)包含SixNy的第一介电膜，其中x/y的范围是0.75-1.5；(ii)第一介电膜上的折射率低于第一介电膜折射率的第二介电膜，其包含二氧化硅；和(iii)第二膜上的包含SixNy的第三介电膜，其中x/y的范围是0.75-1.5。
5.根据权利要求1的涂覆基材，其中基材是玻璃。
6.根据权利要求5的涂覆基材，其中将玻璃基材结合到绝缘玻璃单元中。
7.根据权利要求6的涂覆基材，其结合到绝缘玻璃单元中，其中绝缘玻璃单元表现出至少一种下面的性能：不大于90％的可见光透射率和大于4％的R2可见光反射率。
8.涂覆基材，包括：
基材；
基材上的包含SixNy的第一介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5；
第一介电层上的选自钨、铬、钽、钼、铝及其混合物和合金，以及钴与铬的合金的第一金属基层；
第一金属基层上的选自金，铜，银或其合金和混合物的红外反射层；
红外反射层上的选自钨、铬、钽、钼、铝及其混合物和合金，以及钴与铬的合金的第二金属基层；
第二金属基层上的包含SixNy的第二介电层，其中x/y的范围是0.75-1.5；和
第二介电层上的保护性外涂层，其选自二氧化硅、二氧化锆、二氧化钛、二氧化铌、二氧化铬和氧氮化硅及其混合物，
其中未热处理的涂覆基材与热处理的涂覆基材相比，具有不大于8个单位的ΔECMC(1.5∶1)(T)、ΔECMC(1.5∶1)(R1)和ΔECMC(1.5∶1)(R2)。
9.根据权利要求8的涂覆基材，其中第一或第二金属基层包含钴与铬的合金。
10.根据权利要求8的涂覆基材，其中基材是玻璃。
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