CN100570446C - 显示器的制造方法以及用于该方法的形成层的装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种液晶显示器的制造方法，其包括制备基板，该基板包括多个具有预定间距的阶梯形图案的矩阵型阵列；以及通过在基板对于喷墨头部的相对移动方向与矩阵型阵列的一个方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将来自喷墨头部的液体材料喷射到基板上，来形成基本上覆盖基板的正面的层。本发明还公开了一种用于该方法的定向层形成装置。

Description

显示器的制造方法以及用于该方法的形成层的装置
基于35 U.S.C.§119，本申请要求于2005年4月29日提交的韩国专利申请第10-2005-0036290号的优先权，其全部内容结合于此作为参考。
技术领域
本发明涉及一种液晶显示器(“LCD”)的制造方法以及用于该方法的定向层形成装置。更具体地，本发明涉及一种LCD的制造方法以及用于该方法的定向层形成装置，该方法包括使用喷墨印刷技术形成定向层。
背景技术
形成在LCD的薄膜晶体管(“TFT”)阵列基板与滤色器基板之间的液晶层的液晶分子应该具有定向调节力(alignment regulatingforce)或者表面固定力(surface fixing force)。为此，在液晶层与TFT阵列基板和滤色器基板中的每一个之间的接触表面形成定向层并对其进行摩擦。在液晶晶元(liquid crystal cell)工艺中，用于使液晶层中的液晶分子有效定向的定向层的形成与图像显示的质量有重要的联系。
最近，提出了喷墨印刷技术作为大比例定向层(alignment layer)的形成方法。然而，根据形成定向层所用的喷墨印刷技术，定向层的平整化是很困难的。即，由于形成定向层所用的喷墨印刷技术采用的原理是，在使用较大喷嘴间距(375μm)的喷墨头将定向材料溶液喷射到基板上之后，定向材料溶液自发地扩散，与滚筒印刷技术(roll printing technology)相比，很难形成均匀的定向层。
图1示出在使用传统的基于喷墨的定向层形成装置形成定向层的过程中，从喷墨头喷射到基板上的定向材料溶液的小液滴的间距。参照图1，陡峭的阶梯形图案(pattern)均匀地排列在基板上，其包括凹陷部分A和B。通常，目前可利用的喷墨头的喷嘴之间的喷嘴间距HP大于基板的凹陷部分A与B之间的阶梯形图案间距OP。因此，定向材料溶液21被过多地提供给阶梯形图案的凹陷部分A，其中，定向材料溶液21被直接喷射到该凹陷部分A，而未被直接喷射有定向材料溶液21的凹陷部分B被提供有的溶液不足。当过量的和不足量的定向材料溶液以规律的间隔被交替提供给基板的整个区域时，观察者可能将定向材料溶液过量和不足的规则交替作为在LCD上形成的条纹。
发明内容
本发明提供一种液晶显示器(“LCD”)的制造方法，该方法可防止在LCD的面板上产生条纹。
本发明还提供一种定向层形成装置，该装置可防止在LCD的面板上产生条纹。
根据本发明的示例性实施例，提供了一种液晶显示器的制造方法，该方法包括：制备基板，其包括多个具有预定间距的阶梯形图案的矩阵型阵列；以及通过在基板对于喷墨头部的相对移动方向与矩阵型阵列的第一方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将来自喷墨头部的液体材料喷射到基板上，来形成基本上覆盖基板的正面的层。
根据本发明的其它示例性实施例，提供了一种液晶显示器的制造方法，该方法包括：制备基板，其包括多个具有预定间距的阶梯形图案的矩阵型阵列；以及通过在基板对于喷墨头部的相对移动方向与矩阵型阵列的第一方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将来自喷墨头部的定向材料喷射到基板上，来在基板上形成定向层。
根据本发明的另一方面，提供了一种层形成装置，该装置包括：平台，使设置在其上的基板沿第一方向移动，该基板包括薄膜晶体管阵列，在该阵列中，多个薄膜晶体管呈矩阵排列；以及喷墨头部，其设置在平台的上方，将液体材料喷射到基板上，其中，基板对于喷墨头部的相对移动方向与薄膜晶体管阵列的一个方向形成大于0度并且小于90度的角度。
根据本发明的另一方面，提供了一种在基板上形成定向层的装置，该基板包括薄膜晶体管阵列，该装置包括：平台，使设置在其上的基板沿第一方向移动；喷墨头部，其设置在平台的上方，将定向材料溶液喷射到基板上，其中，基板对于喷墨头部的相对移动方向与薄膜晶体管阵列的一个方向形成大于0度并且小于90度的角度。
附图说明
通过参照附图并详细描述优选实施例，本发明的上述特征以及其他特征和优点将变得显而易见的，在附图中：
图1是示出了传统的定向层形成装置的示意图；
图2是示出了根据本发明的定向层形成装置的示例性实施例的示意图；
图3A和图3B是根据本发明的定向层形成装置的示例性实施例中包括的喷墨头部的底部透视图；
图4A和图4B分别为根据本发明示例性方法制造的示例性LCD的横截面示意图和部分放大图；
图5至图6B示出了根据本发明的示例性LCD的制造方法的示例性实施例中定向层的形成工艺；以及
图7至图8C示出了根据本发明的示例性LCD的制造方法的另一示例性实施例中定向层的形成工艺。
具体实施方式
下面将参照附图更加全面地描述本发明，在附图中示出了本发明的实施例。然而，本发明可以多种不同的方式来实现而不局限于在此描述的实施例。相反地，所提供的这些实施例，对本领域的技术人员来说，使得本发明充分公开并且完全覆盖本发明的范围。通篇中，相同的参考标号指的是相同的元件。
应当理解，当元件或层被指出“位于”另一个元件上时，该元件可直接位于另一个元件上，或者也可在其间存在插入元件。相反地，当元件被指出“直接位于”另一个元件上时，是指在元件之间不存在插入元件。正如在此所应用的，术语“和/或”包括任何的以及所有的一个或多个相关所列术语的结合。
应当理解，尽管在此可能使用术语第一、第二、第三等来描述不同的元件、部件、区域、层、和/或部分，但是这些元件、部件、区域、层、和/或部分并不局限于这些术语。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层、或部分与另一个元件、部件、区域、层、或部分相区分。因此，在不背离本发明宗旨的情况下，下文所述的第一元件、部件、区域、层、或部分可以称为第二元件、组件、区域、层、或部分。
在此使用的术语仅用于描述特定实施例而不是限制本发明。正如在此使用的，单数形式的“一个”、“这个”也包括复数形式，除非文中有其它明确指示。应当进一步理解，当在本申请文件中使用术语“包括”和/或“包含”时，是指存在所声称的特征、整数、步骤、操作、元件、和/或部件，但是并不排除还存在或附加一个或多个其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件、和/或其组合。
为了便于说明，在此可能使用诸如“在...之下”、“在...下面”、“下面的”、“在...上面”、以及“上面的”等的空间关系术语，以描述如图中所示的一个元件或机构与另一元件或机构的关系。应当理解，除图中所示的方位之外，空间关系术语将包括使用或操作中的装置的各种不同的方位。例如，如果翻转图中所示的装置，则被描述为在其他元件或机构“下面”或“之下”的元件将被定位为在其他元件或机构的“上面”。因此，示例性术语“在...下面”包括在上面和在下面的方位。装置可以以其它方式定位(旋转90度或在其他方位)，并且在此所描述的空间关系可相应地进行解释。
除非特别限定，在此所采用的所有的术语(包括技术和科技术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的意思相同的解释。而该术语的进一步理解，例如，字典中通常采用的限定意思应该被解释为与相关技术上下文中的意思相一致，并且除非在此进行特别限定，其不应被解释为理想的或者过于正式的解释。
在此，参考作为本发明的理想实施例的示意图的横截示意图描述本发明的实施例。同样，可以预料诸如制造技术和/或公差可以导致示意图的变化。因此，本发明的实施例不应该被理解为局限于在此示出的特定形状，而且包括例如由于制造而导致的形状的偏差。例如，被显示或描述为平坦的区域，典型地可能具有粗糙和/或非线性特性。此外，所示的锐角可以为圆角。因此，在图中示出的区域实际上是示意性的，并且形状并不用于描述区域的准确形状，并且不用于限定本发明的范围。
以下，将参照附图对本发明进行详细地描述。
首先，将描述用于形成根据本发明制造的示例性液晶显示器(“LCD”)的定向层形成装置的示例性实施例。
图2是示出了根据本发明的定向层形成装置100的示例性实施例的示意图。参照图2，定向层形成装置100包括平台110、喷墨头部120、定向材料溶液存储部130、以及定向材料溶液供应管140。
平台110提供了一平面，诸如LCD面板的薄膜晶体管(“TFT”)阵列基板或滤色器基板的基板可位于其上，并且该平台使基板沿着一个方向(例如，箭头所示的移动方向)移动。平台110也可移动这里未特别描述的其它基板。平台110的形式并不特定地局限于所述的实施例，而是可包括任何可以使基板移动的形式。例如，平台110可以为传送带的形式。
当基板在喷墨头部120下面移动时，喷墨头部120将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到平台110上。喷墨头部120由至少一个头组成，随后将对其进行进一步地描述。
图3A和图3B是根据本发明的定向层形成装置的示例性实施例中包括的示例性喷墨头部的底部透视图。参照图3A，如图2所示的喷墨头部120可具有多个块状头121的线性阵列，每个头部均具有多个喷嘴122。在相同的头121上的相邻喷嘴分开间距P1，并且相邻的头121之间的相邻喷嘴分开间距P2。在喷墨头部120的示例性实施例中，喷嘴122被等距分开，因此，P1优选地基本上等于P2。
为了容易调节相同的头121的相邻两个喷嘴122之间的间距P1，以使两个相邻的头121的相邻两个喷嘴之间的间距P2合适，可将多个头部121以Z字形式排列，由此相邻头121的端部彼此重叠，如图3B所示。这种情况下，当形成在喷墨头部120整个区域的相邻喷嘴122之间的间距P1和P2可以很容易地按等距调节时，多个头121可以被紧凑排列。下面将进行进一步地描述，喷墨头部120的相邻喷嘴122之间的间距P1或P2大于在TFT阵列基板上形成的阶梯形图案的间距。这里，喷嘴122可被独立地打开或关闭，因此可以控制并调节计划用于定向材料溶液喷射的基板区域和喷射到基板的区域的定向材料溶液量。此外，可以通过调节喷墨头部120上的喷嘴122的数量来控制在基板上形成定向层的工艺的持续时间。
通过增加头121的数量，可以在大比例的基板上形成定向层的过程中有效地使用喷墨头部120。特别地，喷墨头部120的总长度优选地被调节成至少大于基板的宽度，即，其中沿相对于基板移动方向垂直的方向测量基板宽度。
再次参照图2，通过喷墨头部120的纵向垂直于基板110的移动方向，将喷墨头部120定位。可以将喷墨头部120固定，即，使其无法移动，或者可以沿与基板移动方向基本上垂直的方向往复移动，例如可沿墨头部120的纵向移动。在喷墨头部120往复移动的情况下，在基板相对于喷墨头部120的移动方向与TFT矩阵型阵列的第一方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到基板上，下面将参照使用定向层形成装置100形成定向层的工艺进行进一步地描述。
定向材料溶液存储部130存储定向材料溶液，以将其提供给喷墨头部120。例如，包含在定向材料溶液存储部130中的定向材料溶液可以为(但不限于)聚酰亚胺溶液(polyimide solution)。
定向材料溶液供应管140连接喷墨头部120和定向材料溶液存储部130，以将定向材料溶液从定向材料溶液存储部130提供给喷墨头部120。
下面，将描述LCD的示例性制造方法，其中，使用图2所示的定向层形成装置100形成定向层。
图4A示出了根据本发明的示例性方法制造的LCD的横截面示意图，并且图4B示出了图4A中A部分的部分放大图。参照图4，LCD 200包括TFT阵列基板210、滤色器基板220、介于TFT阵列基板210与滤色器基板220之间的液晶层230。
TFT阵列基板210是驱动装置阵列基板，并且在其上包括多个呈矩阵结构阵列的像素。每个像素上均形成有诸如薄膜晶体管T的驱动装置。滤色器基板220包括用于表现色彩的滤色器层221。像素电极218和共电极224分别形成在TFT阵列基板210和滤色器基板220上。定向层219和225以约500至
Figure C20061007814600141
的厚度分别形成在TFT阵列基板210和滤色器基板220上，用于对液晶层230中的液晶分子进行定向。
通过密封剂240将TFT阵列基板210和滤色器基板220与介于其间的液晶层230组合。当由形成在TFT阵列基板210上的驱动装置驱动液晶分子时，LCD 200通过调节透射过液晶层230的光量来显示信息。
LCD 200的制造方法可以被分为多个基本工艺，其包括(但不限于)驱动装置阵列基板工艺，其中，在TFT阵列基板210上形成驱动装置；滤色器基板工艺，其中，在滤色器基板220上形成滤色器；以及液晶晶元工艺，其中，将驱动装置阵列基板工艺中制造的两个基板与滤色器基板工艺中制造的基板组合。
首先，根据驱动装置阵列工艺，多条彼此平行排列的栅极线(未示出)以及多条彼此平行排列并基本上垂直于栅极线的数据线(未示出)形成在TFT阵列基板210上。将像素区域限定在相邻栅极线对和相邻数据线对之间。作为连接至栅极线和数据线的驱动装置的薄膜晶体管T以矩阵形式排列在像素区域上，以形成TFT阵列。这里，每个TFT T均包括栅电极211、栅极绝缘层212、由非晶硅(“a-Si”)材料制成的半导体层213、以及源电极214和漏电极215。
有机层216可形成在TFT阵列基板210上，该TFT阵列基板包括使用诸如苯并环丁烯(benzocyclobutene，“BCB”)等的TFT阵列。随后，多个阶梯形图案217(例如接触孔)沿TFT阵列均匀地形成在有机层216中，以露出TFT阵列中每个TFT T的漏电极215的表面。因为有机层216具有低有效介电常数并且能够使TFT阵列基板210的阶梯形表面平坦化，有机层216至少形成在具有TFT阵列的TFT阵列基板210的基本整个表面上，从而有利地增大了像素的开口率。也就是说，即使像素电极218与数据线等重叠，以使像素的开口率最大化，由于有机层216的高绝缘性能，沿数据线流动的电压也不会影响像素，从而防止像素电压的失真。此外，由于其平坦的表面，有机层216可在TFT阵列基板210与滤色器基板220之间均匀地保持盒间隙(cell gap)，并且降低形成在像素电极218上的定向层219的少量摩擦。有机层216可具有3μm或者更大的厚度，例如3μm至4μm。这样，通过使有机层216图案化而形成的阶梯形图案217具有3μm或者更大的高度，例如3μm至4μm。多个阶梯形图案217之间的间距可约为170μm，但是并不仅限于此。
由诸如氧化铟锡(ITO)制成的无机层通过溅射等沉积在阶梯形图案217和有机层216的部分上，并且将其图案化以形成像素电极218，该像素电极连接至TFT T的漏电极215并根据通过TFT T所施加的信号来驱动液晶层230。
同样，黑色矩阵(black matrix)222通过滤色器工艺形成在滤色器基板220上，随后，将用于表现红(R)、绿(G)和蓝(B)或其它期望颜色的滤色器层221形成在对应于像素区域的滤色器220区域上。接下来，形成平坦化膜(planarization film)223，以使黑色矩阵222和滤色器221之间的阶梯形表面平坦化，并且在平坦化膜223上形成共电极224。
接下来，定向层219和225分别形成在TFT阵列基板210和滤色器基板220上。TFT阵列基板210的定向层219的形成方式可与滤色器基板220的定向层225的形成方式相同。因此为了便于说明，此处仅描述TFT阵列基板210的定向层219的形成。但是，应该理解的是，TFT阵列基板210的定向层219的形成方式可用于滤色器基板220的定向层225的形成。
图5至图6B示出了在根据本发明LCD的制造方法的示例性实施例中示例性定向层的形成工艺。接下来，将参照图5至图6B进一步描述在TFT阵列基板上形成定向层的工艺。
可使用图2中所示的定向层形成装置100形成定向层。首先参照图5，在定向层形成装置100的平台110上设置TFT阵列基板210，该基板具有TFT阵列TA，其中，TFT呈矩阵排列。
TFT阵列基板210包括通过上述驱动装置阵列工艺而形成的TFT阵列TA和多个如图4所示沿TFT阵列TA形成的阶梯形图案217。TFT阵列TA已经作为像素电极218阵列被示意性示出，如图4所示，形成在TFT T上。
以平台110和TFT阵列基板210的移动方向(α)与TFT阵列TA的第一方向(例如行方向β)之间形成的角度(θ)大于0度并且小于90度(例如3度至45度)的方式，将TFT阵列基板210设置在平台110上。如果平台110和TFT阵列基板210的移动方向(α)与TFT阵列TA的行方向(β)之间形成的角度(θ)为钝角，则选择该钝角的补角，即大于0度并且小于90度的角度(例如3度至45度范围内的角度)。然而，考虑到在定向层形成装置100中包括的头121的数量以及根据头121数量增加所产生的定向层形成装置100的制造成本和维修成本，优选地，平台110和TFT阵列基板210的移动方向(α)与TFT阵列TA的行方向(β)之间形成的角度(θ)在3度至45度的范围内。
如下所述，TFT阵列基板210以θ角设置在平台110上，用于防止在TFT阵列基板210上产生条纹。
如图4所示，TFT阵列基板210包括多个沿TFT阵列TA形成的阶梯形图案217，并且多个阶梯形图案217彼此分开预定的间距。如图3A和3B所示，定向层形成装置100的喷墨头部120的喷嘴122之间的间距P1和P2大于阶梯形图案217之间的间距。例如，阶梯形图案217之间的间距可约为170μm，而喷墨头部120的喷嘴122之间的间距P1和P2可约为375μm。在这种情况下，如果TFT阵列基板210沿与TFT阵列TA的行方向(β)平行的移动方向(α)移动，换句话说，当角度(θ)等于0度，定向材料溶液从固定的喷墨头部120喷射到TFT阵列基板210上时，直接喷射有来自喷墨头部120的定向材料溶液的阶梯形图案217具有过量的定向材料溶液，而未被直接喷射有来自喷墨头部120的定向材料溶液的阶梯形图案217缺乏定向材料溶液。定向材料溶液缺乏和过量的规则交替导致TFT阵列基板210上定向层的厚度偏差，从而在TFT阵列基板210上产生条纹。
然而，在图5至图6B的示例性实施例中，平台110和TFT阵列基板210的移动方向(α)不与TFT阵列TA的行方向(β)平行。因此，如图5所示，TFT阵列基板210相对于TFT阵列基板210的移动方向(α)定向成角度(θ)。这样，当将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到TFT阵列基板210上时，喷射到沿TFT阵列TA的行方向排列的阶梯形图案217上的定向材料溶液的量并不是保持不变的。这样可以防止由于定向材料溶液缺乏和过量的规则交替而在TFT阵列基板210上产生的条纹。
参照图6A和图6B，当喷墨头部120固定时，通过沿移动方向(α)移动平台110，将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到TFT阵列基板210上。当向用于存储定向材料溶液的存储部130提供氮气(N2)时，定向材料溶液存储部130的内部压力由于氮气而增加。由于增加的内部压力，定向材料溶液通过定向材料溶液供应管140被提供到喷墨头部120。如前面图3A和图3B所示，通过形成在喷墨头部120的头121处的喷嘴122将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到TFT阵列基板210上。从喷嘴122喷射出的定向材料溶液在TFT阵列基板210上形成定向层。
图4所示，在形成定向层219和225之后，可摩擦定向层，以向在TFT阵列基板210与滤色器基板220之间形成的液晶层230的液晶分子提供定向调节力或表面固定力。
接下来，在滤色器基板220和TFT阵列基板210中至少一个的周围涂布密封剂240，将TFT阵列基板210与滤色器基板220组合，将液晶材料注入到基板210与220之间的盒间隙中，并且使密封剂240固化，从而将滤色器基板220和TFT阵列基板210熔合在一起，以防止包含在其间的液晶材料泄漏，从而制成LCD 200。
下面，将参照图7至图8C描述根据本发明的示例性LCD的制造方法的另一示例性实施例。除了定向层形成工艺以外，根据本实施例的LCD的制造方法与前一实施例基本上相同，因此，为了便于说明，将省略对其的重复性描述。
首先，根据前一实施例所描述的相同驱动装置阵列基板形成工艺和滤色器基板形成工艺制造TFT阵列基板210和滤色器基板220。
接下来，分别在TFT阵列基板210与滤色器基板220中的每一个上形成定向层219和225。为了便于说明，下面将描述TFT阵列基板210的定向层219的形成工艺。
可使用图2中所示的定向层形成装置100形成定向层219。首先参照图7，在定向层形成装置100上设置具有TFT阵列TA的TFT阵列基板210，该阵列为TFT的矩阵型阵列。
TFT阵列基板210包括TFT阵列TA和多个如图4所示沿TFT阵列TA形成的阶梯形图案217。以TFT阵列基板210的移动方向(α)平行于第一方向(即，TFT阵列TA的行方向(β))的方式，将TFT阵列基板210设置在平台110上。
然后，在以下面进一步描述的方式移动平台110时，将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到TFT阵列基板210上。
参照图8A至图8C，为了防止由于在沿TFT阵列TA排列的多个阶梯形图案217中定向材料溶液缺乏和过量的规则交替而在LCD200的显示面板上产生条纹，喷墨头部120沿与第一方向(TFT阵列TA的行方向β)不同的第二方向移动。也就是说，喷墨头部120沿与TFT阵列TA的行方向(β)基本上垂直的方向(γ)移动。
为了使喷墨头部120沿与TFT阵列TA的行方向(β)基本上垂直的方向(γ)移动，TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)与TFT阵列TA的行方向可形成大于0度并小于90度的角度(θ)，例如3度至45度的角度。当TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)与TFT阵列TA的行方向(β)形成钝角时，选择该钝角的补角，即大于0度并且小于90度的角度(例如，3度至45度范围内的角度)。如此处所用，短语“TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)”表示TFT阵列基板210与喷墨头部120之间的相对移动方向。因此，TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)可以由TFT阵列基板210的移动方向(α)减去喷墨头部120的移动方向(γ)来确定。
可通过调节喷墨头部120和TFT阵列基板210的移动速度来控制TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)与TFT阵列TA的行方向(β)之间形成的角度(θ)。即，如果已知角度(θ)的期望值的三个参数中的两个，例如喷墨头部120和TFT阵列基板210的移动速度，那么剩下的参数可以由以下的公式确定：
Figure C20061007814600201
例如，如果TFT阵列基板210相对于喷墨头部120的移动方向(α’)与TFT阵列TA的行方向(β)之间的角度(θ)的期望值约为5度，那么通过以17.5mm/sec的速度移动喷墨头部120，并沿与喷墨头部120的移动方向基本上垂直的方向以200mm/sec的速度移动TFT阵列基板210，可以实现该期望值。
当TFT阵列基板210与喷墨头部120的相对移动方向(α’)不平行于TFT阵列TA的行方向(β)时，喷射到沿TFT阵列TA的行方向排列的阶梯形图案217上的定向材料溶液的量并不是保持不变的。因此，可以防止由于如上所述的定向材料溶液缺乏和过量的规则交替而在LCD 200的显示面板上产生的条纹。
如图8C所示，当将定向材料溶液从喷墨头部120喷射到单独的TFT阵列基板210上完成时，喷墨头部120回到其初始位置，以准备将定向材料溶液从TFT阵列基板210喷射到随后的TFT阵列基板上。由于喷墨头部120沿与TFT阵列TA的行方向(β)基本上垂直的方向往复移动，优选地，喷墨头部120的长度至少大于TFT阵列基板210的宽度，从而将定向材料溶液从喷墨头部120喷射在TFT阵列基板210的整个表面上。
如图3A和图3B所示的喷墨头部120的多个喷嘴122可以被独立地打开或关闭。因此，可以通过打开与计划用于定向材料溶液喷射的TFT阵列基板210相对应的喷嘴122并关闭与不计划用于定向材料溶液喷射的TFT阵列基板210相对应的喷嘴122的方式，来控制从喷墨头部120喷射定向材料溶液。同样，例如，随着喷墨头部120沿方向(γ)移动，一些喷嘴122可能移过TFT阵列基板210，并且这些喷嘴122可能关闭，而仍位于TFT阵列基板210上方的喷嘴122可能保持打开。
最后，摩擦分别形成在TFT阵列基板210和滤色器基板220上的定向层219和225，随后注入液晶材料，从而制成LCD 200。
因此，如上所述，根据本发明，即使在不对具有工业效用的基于喷墨头的定向层形成装置(其中，喷嘴间距大于形成在基板上的阶梯形图案之间的间距)进行实质性修改的情况下，也可以防止在显示面板上产生条纹，可通过实际成本(cost-effective)的方式制造LCD。同样，根据本发明，具有阶梯形图案的基板可被覆盖有均匀厚度的定向层。
虽然已经参照示例性实施例对本发明进行了描述，但是对于本领域的技术人员来说，在不背离本发明的精神和范围的前提下，本发明可以有各种修改和变化。因此，应该理解的是，上述实施例在所有方面不是限制性的，而是说明性的。

Claims (35)

1.一种显示器的制造方法，所述方法包括：
制备基板，所述基板包括多个具有预定间距的阶梯形图案的矩阵型阵列；以及
通过在所述基板对于喷墨头部的相对移动方向与所述矩阵型阵列的第一方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将来自所述喷墨头部的液体材料喷射到所述基板上，来形成基本上覆盖所述基板的正面的层。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一方向对应于所述矩阵型阵列的行方向；
3.根据权利要求1所述的方法，进一步包括将所述基板设置在平台上，并且沿与所述第一方向平行的方向移动所述平台。
4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括将所述基板设置在平台上并移动所述平台经过所述喷墨头部，其中，将所述喷墨头部固定，并且所述第一方向不平行于所述平台的移动方向。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基板沿所述矩阵型阵列的所述第一方向移动，并且所述喷墨头部沿矩阵型阵列的第二方向移动，所述第一方向对应于所述矩阵型阵列的行，并且所述第二方向对应于所述矩阵型阵列的列。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述喷墨头部沿所述第二方向往复移动。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述层的厚度基本上相同。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，通过防止在所述基板上的所述阶梯形图案中液体材料过量和液体材料缺乏的规则交替，来防止在所述显示器上产生条纹。
9.一种液晶显示器的制造方法，所述方法包括：
制备基板，所述基板包括多个具有预定间距的阶梯形图案的矩阵型阵列；以及
通过在所述基板对于喷墨头部的相对移动方向与所述矩阵型阵列的第一方向形成大于0度并且小于90度的角度的状态下，将来自所述喷墨头部的定向材料溶液喷射到所述基板上，来在所述基板上形成定向层。
10.根据权利要求9所述的方法，进一步包括将所述基板设置在平台上，并且沿与所述第一方向平行的方向移动所述平台。
11.根据权利要求9所述的方法，进一步包括将所述基板设置在平台上并移动所述平台经过所述喷墨头部，其中，将所述喷墨头部固定，并且所述第一方向不平行于所述平台的移动方向。
12.根据权利要求9所述的方法，其中，通过防止在所述多个阶梯形图案中定向材料溶液过量和定向材料溶液缺乏的规则交替，来防止在所述液晶显示器上产生条纹。
13.根据权利要求9所述的方法，其中，所述基板包括多个薄膜晶体管。
14.根据权利要求9所述的方法，其中，所述喷墨头部的喷嘴之间的间距大于所述阶梯形图案之间的预定间距。
15.根据权利要求9所述的方法，其中，所述角度在3度至45度的范围内。
16.根据权利要求15所述的方法中，所述角度由所述基板和所述喷墨头部的移动速度决定。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述基板沿所述矩阵型阵列的所述第一方向移动，并且所述喷墨头部沿与所述矩阵型阵列的所述第一方向不同的第二方向移动，所述矩阵型阵列的所述第一方向基本上垂直于所述第二方向。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述喷墨头部沿所述第二方向往复移动。
19.根据权利要求9所述的方法，其中，所述多个阶梯形图案中的每个均具有3μm或更大的梯段高度。
20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述多个阶梯形图案为接触孔，所述接触孔将多个薄膜晶体管的漏电极和像素电极电连接。
21.一种层形成装置，所述装置包括：
平台，用于使设置在其上的基板沿第一方向移动，所述基板包括薄膜晶体管阵列，在所述阵列中，多个薄膜晶体管呈矩阵排列；以及
喷墨头部，设置在所述平台的上方，用于将液体材料喷射到所述基板上，
其中，所述基板对于所述喷墨头部的相对移动方向与所述薄膜晶体管阵列的一个方向形成大于0度并且小于90度的角度。
22.根据权利要求21所述的装置，其中，所述喷墨头部包括至少一个块状头，所述块状头包括多个喷嘴。
23.根据权利要求22所述的装置，其中，所述喷墨头部的喷嘴之间的间距大于沿所述薄膜晶体管阵列的一个方向排列的所述阶梯形图案之间的间距。
24.根据权利要求21所述的装置，其中，所述层为定向层。
25.根据权利要求21所述的装置，其中，所述液体材料为定向材料溶液。
26.一种用于在基板上形成定向层的装置，所述基板包括薄膜晶体管阵列，在所述阵列中，多个薄膜晶体管呈矩阵排列，所述装置包括：
平台，用于使设置在其上的所述基板沿第一方向移动；以及
喷墨头部，设置在所述平台的上方，用于将定向材料溶液喷射到所述基板上，
其中，所述基板对于所述喷墨头部的相对移动方向与所述薄膜晶体管阵列的一个方向形成大于0度并且小于90度的角度。
27.根据权利要求26所述的装置，其中，所述第一方向和所述薄膜晶体管的所述一个方向是平行的。
28.根据权利要求26所述的装置，其中，所述喷墨头部被固定，并且所述平台的移动方向既不平行于所述薄膜晶体管阵列的行方向，也不平行于所述薄膜晶体管阵列的列方向。
29.根据权利要求26所述的装置，其中，所述角度在3度至45度的范围内。
30.根据权利要求26所述的装置，其中，所述喷墨头部沿第二方向往复移动。
31.根据权利要求30所述的装置，其中，所述第二方向基本上垂直于所述第一方向。
32.根据权利要求26所述的装置，其中，所述角度由所述基板和所述喷墨头部的移动速度决定。
33.根据权利要求26所述的装置，其中，所述喷墨头部包括至少一个块状头，所述块状头具有多个喷嘴。
34.根据权利要求33所述的装置，其中，所述喷墨头部的喷嘴之间的间距大于沿所述薄膜晶体管阵列的一个方向排列的所述阶梯形图案之间的间距。
35.根据权利要求33所述的装置，其中，至少一个所述块状头的所述多个喷嘴被独立地打开或关闭。
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