CN100463864C - 一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法 - Google Patents

一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法 Download PDF

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Abstract

一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法，涉及一种家庭用水的净水剂的制作方法，该方法为：先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用；然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到850℃～1000℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面；附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为5～50纳米。将这种附着了纳米级SiO2的陶瓷颗粒放入容器内，让需要净化的水通过，水中的真菌、细菌和有机物会被纳米级SiO2的冷触媒效应分解为水和二氧化碳，从而达到净化水的目的。本发明适用于家庭的净水、供水，其制作方法简单，原料易得，成本低；产品使用寿命长，没有二次污染。

Description

一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法
技术领域
本发明涉及一种家庭用水的净水剂的制作方法，特别是涉及一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法。
背景技术
家庭用水的水净化技术历经几代，大致可分为过滤、纯化和软化三类，它们大多是通过粗滤、活性炭吸附、分子筛技术、中空纤维和反渗透膜等几种对水中的杂质进行吸附和过滤。但是这些技术普遍存在着净水滤材使用寿命短，需要定期更换滤材，否则阻挡或吸附的污染物所造成的沉积，反而会对后续的水起到污染作用，造成二次污染等问题，因此都没有得到大规模的推广。
发明内容
本发明的目的在于提供一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法。该方法以纳米SiO2为主要原料，以陶瓷颗粒为载体，通过机械粉碎将陶瓷加工为1～3毫米直径的不规则颗粒，然后将SiO2在高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过较低温度的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面，附着了纳米级SiO2的陶瓷颗粒即为成品。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法，其制作方法是：先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用；然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到850℃～1000℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面；附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为5～50纳米。
上述粉碎陶瓷利用球磨或行星磨机械设备进行粉碎。
所述的SiO2为SiO2含量在90％以上的SiO2产品。
本发明的优点与效果是：
本发明以纳米SiO2为原料，以陶瓷颗粒为载体，其原料容易获得，制作方法简单，产品使用寿命长，没有二次污染。
具体实施方式
实施例1
首先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用。然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到850℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面，附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为5～20纳米。使用时，将这种附着了纳米级SiO2的陶瓷颗粒放入容器内，让需要净化的水通过，水中的真菌、细菌和有机物会被纳米级SiO2的冷触媒效应分解为水和二氧化碳，从而达到净化水的目的。
实施例2
首先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用。然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到950℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面，附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为10～30纳米。使用时，将这种附着了纳米级SiO2的陶瓷颗粒放入容器内，让需要净化的水通过，水中的真菌、细菌和有机物会被纳米级SiO2的冷触媒效应分解为水和二氧化碳，从而达到净化水的目的。
实施例3
首先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用。然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到1000℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面，附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为25～50纳米。使用时，将这种附着了纳米级SiO2的陶瓷颗粒放入容器内，让需要净化的水通过，水中的真菌、细菌和有机物会被纳米级SiO2的冷触媒效应分解为水和二氧化碳，从而达到净化水的目的。

Claims (3)

1.一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法，其特征在于其制作方法是：先通过振动磨将陶瓷粉碎，通过筛分取直径为1～3毫米陶瓷颗粒备用；然后将SiO2在2650℃高温下汽化，让高温的SiO2蒸汽通过预加热到850℃～1000℃的加工好的陶瓷颗粒，使SiO2固化附着于陶瓷颗粒的表面；附着在陶瓷颗粒表面的SiO2直径分布范围为5～50纳米。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法，其特征在于粉碎陶瓷利用球磨或行星磨机械设备进行粉碎。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅冷触媒净水剂的制作方法，其特征在于所述的SiO2为SiO2含量在90％以上的SiO2产品。
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纳米二氧化硅的开发与应用. 刘俊渤等.长春工业大学学报，第24卷第4期. 2003
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