CN100437221C - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种液晶显示装置,其包括一液晶显示面板,该液晶显示面板包括一第一基板、一第二基板、一夹于第一基板与第二基板之间的液晶层和一亮度侦测元件,其中该亮度侦测元件设置在第二基板具有驱动电路一侧边缘的空白区域,该亮度侦测元件是一肖特基二极管,该肖特基二极管包括一半导体层和一导电金属层,该肖特基二极管的半导体层是非晶硅层,该非晶硅层包括一N-型非晶硅层和一N+型非晶硅层,该N+型非晶硅层层叠设置于该N-型非晶硅层之上,该肖特基二极管的导电金属层是氧化铟锡层,该氧化铟锡层一部分与N-型非晶硅层层叠设置,另一部分与N+型非晶硅层层叠设置。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种液晶显示装置及其制造方法,尤其是关于一种具有能侦测并调整背光亮度的液晶显示装置及其制造方法。
【背景技术】
液晶显示装置具有轻薄、省电、无辐射等优点,已广泛应用于各种信息、通讯和消费性产品中。液晶显示装置作为一种显示装置,其显示亮度是一重要性能参数。为满足不同情形的显示亮度需求,需要对液晶显示装置的亮度进行调整。现有液晶显示装置的亮度一般通过使用者本身感觉,并使用手动按键进行调整,然而该操作过程繁琐且调整精度低,因此需发展技术对该调整方式进行改进。
请参阅图1,是一种现有技术液晶显示装置示意图。该液晶显示装置100包括一液晶显示面板110和一背光模组120,该液晶显示面板110与背光模组120层叠设置。
请同时参阅图2,是该背光模组120亮度侦测与控制的功能方块图,该背光模组120包括一光源121、一亮度侦测装122和控制电路123。
该亮度侦测元件122感测环境亮度并产生一光电流,该光电流经控制电路123产生一电压信号,该电压信号能根据对应的环境亮度调整光源121,使光源121发出与环境亮度相匹配的光束。其中该亮度侦测元件122为一光敏晶体管。
该液晶显示装置能对背光亮度进行自动调整,然而背光模组是由胶框、金属背板和各种光学膜组成,电路布局较少,其上设置控制电路的制程复杂,而且需在背光模组上另外附加一亮度侦测元件,成本高。
【发明内容】
为克服现有技术液晶显示装置制程复杂、成本高的问题,有必要提供一种制程简单、成本低的液晶显示装置。
为克服现有技术液晶显示装置制程复杂,成本高的问题,有必要提供提供一种制程简单、成本低的液晶显示装置的制造方法。
一种液晶显示装置,其包括一液晶显示面板,该液晶显示面板包括一第一基板、一第二基板、一夹于第一基板与第二基板之间的液晶层和一亮度侦测元件,其中该亮度侦测元件设置在第二基板具有驱动电路一侧边缘的空白区域,该亮度侦测元件是一肖特基二极管,该肖特基二极管包括一半导体层和一导电金属层,该肖特基二极管的半导体层是非晶硅层,该非晶硅层包括一N-型非晶硅层和一N+型非晶硅层,该N+型非晶硅层层叠设置于该N-型非晶硅层之上,该肖特基二极管的导电金属层是氧化铟锡层,该氧化铟锡层一部分与N-型非晶硅层层叠设置,另一部分与N+型非晶硅层层叠设置。
一种液晶显示装置的制造方法,其包括提供一第一基板和一第二基板;在第二基板的线路布局时,同时在第二基板具有驱动电路一侧边缘的空白区沉积蚀刻一N-型非晶硅层;在该N-型非晶硅层部分区域沉积蚀刻一N+型非晶硅层和该N-型非晶硅层其它区域沉积一氧化铟锡层;再于N+型非晶硅层沉积一氧化铟锡层,并进行蚀刻形成一亮度侦测元件;在该第一基板和第二基板之间加注液晶以形成一液晶显示面板。
该液晶显示装置的制造方法,其步骤进一步包括在该液晶显示面板上设置至少一软性电路板;另提供一集成电路板,在该集成电路板上设置一数字模拟转换电路和控制电路;用该软性电路板连接该集成电路板和液晶显示面板。
有别于现有技术,本发明利用液晶面板的基板边缘的空白区域,在线路布局过程中同时形成一肖特基二极管,用以侦测面板背光亮度,其制程简单。此技术方案不需另外设置侦测元件,成本低,并可配合信号放大器、数字模拟转换电路和控制电路而对背光亮度进行数字控制与调整。
【附图说明】
图1是一种现有技术液晶显示装置示意图。
图2是图1液晶显示装置的背光模组亮度控制的功能方块图。
图3是本发明液晶显示装置一较佳实施方式的结构示意图。
图4是图3中亮度侦测元件的结构示意图。
图5是本发明液晶显示装置实现亮度侦测并调整的功能方块图。
【具体实施方式】
请参阅图3,是本发明液晶显示装置一较佳实施方式的结构示意图。该液晶显示装置200包括一液晶显示面板210、多个软性电路板220、一印刷型电路板230和一背光光源(图未标)。该印刷型电路板230通过软性电路板220与液晶显示面板210相连接。该背光光源设置在该液晶显示面板210的背侧。该液晶显示面板210包括一第一基板211、一第二基板212和夹于二者之间的液晶层(图未标),该第二基板212在其具有驱动电路一侧边缘的空白区域上设置有一亮度侦测元件214和一信号放大器215。该印刷型电路板230上设置有数字模拟转换电路231和控制电路232。
请参阅图4,是图3中亮度侦测元件214的结构示意图。该亮度侦测元件214是一肖特基二极管(Schottky Diode),该肖特基二极管包括一半导体层和一导电金属层。该半导体层是非晶硅层310,该非晶硅层310包括一N-型非晶硅层311和一N+型非晶硅层312,该N+型非晶硅层312形成在该N-型非晶硅层311的部分区域上。该肖特基二极管的导电金属层为氧化铟锡层320,该氧化铟锡层320包括第一氧化铟锡层321和第二氧化铟锡层322,该第一氧化铟锡层321直接设置在该N-型非晶硅层311上,该第二氧化铟锡层322设置在N+型非晶硅312上。
该第二氧化铟锡层322和N-型非晶硅层311之间的N+型非晶硅层312形成一肖特基屏障(Schottky Barrier),该N-型非晶硅层311通过液晶显示面板210的边缘空白区域吸收背光,并发生光电效应,该N-型非晶硅层311的电子由于吸收光子能量而发生能阶跃迁并溢出流入电势较低的金属氧化铟锡层320。该电子的移动形成电流,该电流由分别与第二氧化铟锡层322和N-型非晶硅层311相连接的外接电路导出。
请参阅图5,是本发明液晶显示装置200实现亮度侦测并调整的功能方块图。该亮度侦测元件214导出的电压信号由信号放大器215进行放大,再通过软性电路板220传输至印刷电路板230,该印刷电路板230上的数字模拟转换电路231将该信号转换成数字信号,并与控制电路232上的背光亮度默认值进行比较,如超出默认值,再通过该控制电路232对液晶显示装置200的光源240进行调整,控制其发光功率,以实现对背光亮度的控制与调整。
本发明的背光亮度默认值为生产线上用侦测元件进行亮度测试校正的值,其校正结果写入该控制电路232中。
本发明的亮度侦测元件214和该第二基板212的线路同时沉积蚀刻设置,由于基板易于沉积蚀刻,故制程简单,而且不需另外附加亮度侦测元件,成本低,并可配合信号放大器215、数字模拟转换电路231和控制电路232对背光亮度进行数字控制与调整。
本实施方式的液晶显示装置200中,该印刷式电路板230还可为其它型式的集成电路板,如嵌入式电路板、插入式电路板等非印刷式电路板。
该液晶显示装置200的制造方法,其步骤包括:
提供一第一基板211和一第二基板212;在第二基板212的线路布局设置时,同时在第二基板212具有驱动电路一侧边缘的空白区域沉积蚀刻一N-型非晶硅层311;在该N-型非晶硅层311的部分区域上沉积蚀刻一N+型非晶硅层312;在该N-型非晶硅层311其它区域沉积蚀刻一第一氧化铟锡层321;再于该N+型非晶硅层312上沉积蚀刻一第二氧化铟锡层322,以形成一肖特基二极管亮度侦测元件214,该亮度侦测元件214的第二氧化铟锡层322和N-型非晶硅层311均和外界电路相连接,该第一基板211和第二基板212之间加注液晶并粘合形成一液晶显示面板210。在该第二基板212具有驱动电路一侧设置一信号放大器215;另提供一印刷式电路板230,在该印刷式电路板230上设置一数字模拟转换电路231和控制电路232;用至少一个软性电路板220连接该液晶显示面板210和印刷式电路板230,以形成一液晶显示装置200。
本发明中,该液晶显示装置200在第二基板线路布局时,通过沉积蚀刻的方式在第二基板212具有驱动电路一侧边缘的空白区域形成一亮度侦测元件214,其制程简单,而且不需另外加一亮度侦测元件,成本低,并可配合信号放大器215、数字模拟转换电路231和控制电路232对背光亮度进行数字控制。
Claims (6)
1.一种液晶显示装置,其包括一液晶显示面板,该液晶显示面板包括一第一基板、一第二基板、一夹于第一基板与第二基板之间的液晶层和一亮度侦测元件,其特征在于:该亮度侦测元件设置在第二基板具有驱动电路一侧边缘的空白区域,该亮度侦测元件是一肖特基二极管,该肖特基二极管包括一半导体层和一导电金属层,该肖特基二极管的半导体层是非晶硅层,该非晶硅层包括一N-型非晶硅层和一N+型非晶硅层,该N+型非晶硅层层叠设置于该N-型非晶硅层之上,该肖特基二极管的导电金属层是氧化铟锡层,该氧化铟锡层一部分与N-型非晶硅层层叠设置,另一部分与N+型非晶硅层层叠设置。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于:该液晶显示装置进一步包括至少一软性电路板,该软性电路板与液晶显示面板相连接。
3.如权利要求2所述的液晶显示装置,其特征在于:该液晶显示装置进一步包括一集成电路板,该集成电路板通过软性电路板与液晶显示面板连接。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于:该集成电路板设置有数字模拟转换电路和控制电路,该控制电路用于对背光亮度的控制与调整。
5.一种液晶显示装置的制作方法,其包括以下步骤:提供一第一基板和一第二基板;
在第二基板的线路布局设置时,同时在该第二基板具有驱动电路一侧边缘的空白区域沉积蚀刻一N-型非晶硅层;
在该N-型非晶硅层部分区域沉积蚀刻一N+型非晶硅层和该N-型非晶硅层其它区域沉积一氧化铟锡层;
再于N+型非晶硅层沉积一氧化铟锡层,并进行蚀刻形成一亮度侦测元件;
在该第一基板和第二基板之间加注液晶以形成一液晶显示面板。
6.如权利要求5所述的液晶显示装置的制作方法,其步骤进一步包括:
在该液晶显示面板上设置至少一软性电路板;
另提供一集成电路板,在该集成电路板上设置一数字模拟转换电路和控制电路;
用该软性电路板连接该集成电路板和液晶显示面板。
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