CN100403426C - 蓝光光盘及生产方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种蓝光光盘，依次包括基板、反射层、第一缓冲层、记录层、第二缓冲层、保护层，记录层有溅镀在第一缓冲层上的钽层，钽层上溅镀有硅层。生产方法包括制成基板，并依次复合反射层、第一缓冲层，在第一缓冲层上溅镀钽层，然后在钽层上溅镀硅层，再依次复合第二缓冲层、保护层。本发明所制的碟片结构合理，具有较低的抖晃值，以及较高的调制度，工作性能好。

Description

蓝光光盘及生产方法

技术领域：

本发明涉及一种光盘及其生产方法。

背景技术：

蓝光光盘类别主要以下几种：

Blu-ray Disc(BD)；它是由九家公司(Philips、Pioneer、SONY，Hitachi，Matsushita，Sharp，Samsung、LG，Thomson Multimedia)在2002年共同制定的蓝光光盘规格。

HD-DVD；它是由Toshiba与NEC公司联合于2002年制定的光盘规格。

另外，中国台湾工研院(ITRI，Industrial Technology ResearchInstitute)与台湾AOSRA(Advanced Optical Storage ResearchAlliance)也提出了自己的HD-DVD(High Definition-DVD)的设计方案。

Plasmon亦于2003提出UDO(Ultra Density Optical)的蓝光光盘。

这几种光盘虽然在具体的设计有很多的不同，但有一点是一致的，那就是都使用了405nm的蓝紫色雷射，因此也可统称之为“蓝光光盘”。

蓝光光盘是在以前CD，DVD光盘的基础上发展而来，具有更高的记录容量和密度，适应现代高信息量数据储存的要求。随着时代的进步，多媒体，信息技术以及数字电视技术的发展，它逐渐会显示出巨大的需求。

蓝光光盘的规格虽然已经制定，但是在蓝光光盘材料，特别是记录层材料的选用上，各家公司都在不断尝试新型的材料。

对于BD-R来说，现有的记录材料有两种，一种是和传统CD-R和DVD-R类似的染料(dye based)，当然染料的材质和配比与以前的的完全不同。

第二种则是相变型材料，它是通过材料在烧录过程中的相变(非晶态转变为晶态)产生的反射率差异来区别1和0。因为BD光盘具有更高的存储密度，更小的记录点，由此在相同的盘片转速下具有更高的记录速度，因此对记录层材料的要求也非常严格。它必须具有较快相变速度(在较高速度记录数据时，激光照射时间短)，适当的相变温度(符合激光的功率范围)，良好的稳定性(热稳定性，以及相稳定型)，而这些要求体现在盘片性能上就是盘片电性是否达到要求，其中重要的一个参数就是烧录功率和机Jitter(Jitter，测试数据信号上升/下降沿对时钟的时间长度，求相对于标准周期的标准偏差)是否符合规范。

BD-R光盘中的关键技术除了记录层材料之外，还有记录层和其他各层的堆垛搭配。一张BD-R盘片依次主要有基板、反射层、缓冲层、记录层、缓冲层、保护层组成。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种结构合理，工作性能好的蓝光光盘及生产方法。

本发明的技术解决方案是：

一种蓝光光盘，依次包括基板、反射层、第一缓冲层、记录层、第二缓冲层、保护层，其特征是：记录层有溅镀在第一缓冲层上的钽层，钽层上溅镀有硅层。

钽层的厚度为3～20nm。硅层的厚度为3～20nm。基板为聚碳酸脂材料。反射层为银反射层。第一、二缓冲层采用ZnS.SiO₂材料。

一种蓝光光盘的生产方法，其特征是：依次包括下列步骤：

(1)制成基板，并依次复合反射层、第一缓冲层；

(2)在第一缓冲层上溅镀钽层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar，氩气流量为20～100sccm，溅镀功率为0.5～3kw；然后在钽层上溅镀硅层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar，氩气流量为20～100sccm，溅镀功率为0.5～3kw；

(3)再依次复合第二缓冲层、保护层。

本发明所制的碟片结构合理，工作性能好，具有较低的抖晃值(Jitter，测试数据信号上升/下降沿对时钟的时间长度，求相对于标准周期的标准偏差)，较高的调制度(M8，8T信号幅度和8T信号最高电平的比值)，而不对称性(Asym，高频信号电平和低频信号电平的调制中心差异)与其他公司所制碟片相当，具体见附图2、3。本发明产品经耐候测试后，抖晃值基本无变异。耐候测试条件为：测试温度：

T_high＝40℃，T_low＝25℃；湿度：RH＝95％；Cycle time(循环次数)＝12+12hrs，6个循环]。

下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明：

图1是本发明产品的结构示图。

图2是本发明1X倍速碟片与TDK、PHILIPS碟片特性参数的比较图。

图3是本发明2X倍速碟片与TDK、PHILIPS碟片特性参数的比较图。

具体实施方式：

一种蓝光光盘的生产方法，其特征是：依次包括下列步骤：

(1)制成基板，基板采用聚碳酸脂材料；并依次复合反射层、第一缓冲层，反射层为银反射层，第一缓冲层采用ZnS.SiO₂材料；

(2)在第一缓冲层上溅镀钽层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar(例5×10^-3、8×10^-3、1×10^-2mbar)，氩气流量为20～100sccm(例20、60、100sccm)，溅镀功率为0.5～3kw(例0.5、2、3kw)，钽层的厚度为3～20nm(例3、13、20nm)；然后在钽层上溅镀硅层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar(例5×10^-3、8×10^-3、1×10^{- 2}mbar)，氩气流量为20～100sccm(例20、60、100sccm)，溅镀功率为0.5～3kw(例0.5、2、3kw)，硅层的厚度为3～20nm(例3、13、20nm)；

(3)再依次复合第二缓冲层、保护层，第二缓冲层采用ZnS.SiO₂材料。

制成的蓝光光盘，依次包括基板1、反射层2、第一缓冲层3、记录层、第二缓冲层4、保护层5，记录层有溅镀在第一缓冲层上的钽层6，钽层上溅镀有硅层7。

Claims (7)

1.一种蓝光光盘，依次包括基板、反射层、第一缓冲层、记录层、第二缓冲层、保护层，其特征是：记录层有溅镀在第一缓冲层上的钽层，钽层上溅镀有硅层。

2.根据权利要求1所述的蓝光光盘，其特征是：钽层的厚度为3～20nm。

3.根据权利要求1或2所述的蓝光光盘，其特征是：硅层的厚度为3～20nm。

4.根据权利要求1或2所述的蓝光光盘，其特征是：基板为聚碳酸脂材料。

5.根据权利要求1或2所述的蓝光光盘，其特征是：反射层为银反射层。

6.根据权利要求1或2所述的蓝光光盘，其特征是：第一、二缓冲层采用ZnS.SiO₂材料。

7.一种权利要求1所述的蓝光光盘的生产方法，其特征是：依次包括下列步骤：

(1)制成基板，并依次复合反射层、第一缓冲层；

(2)在第一缓冲层上溅镀钽层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar，氩气流量为20～100sccm，溅镀功率为0.5～3kw；然后在钽层上溅镀硅层，溅镀时，真空度为5×10^-3～1×10^-2mbar，氩气流量为20～100sccm，溅镀功率为0.5～3kw；

(3)再依次复合第二缓冲层、保护层。

Images