CN100350030C - 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺 - Google Patents

半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN100350030C
CN100350030C CNB2005100447389A CN200510044738A CN100350030C CN 100350030 C CN100350030 C CN 100350030C CN B2005100447389 A CNB2005100447389 A CN B2005100447389A CN 200510044738 A CN200510044738 A CN 200510044738A CN 100350030 C CN100350030 C CN 100350030C
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning agent
clean
liquid crystal
out system
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2005100447389A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1740298A (zh
Inventor
冯磊
马洪磊
计峰
李强
赵丽丽
蒋志勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shandong University
Original Assignee
Shandong University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shandong University filed Critical Shandong University
Priority to CNB2005100447389A priority Critical patent/CN100350030C/zh
Publication of CN1740298A publication Critical patent/CN1740298A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100350030C publication Critical patent/CN100350030C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明公开了一种半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺,属于化学品制备领域。本清洗剂由Ⅰ号清洗剂和Ⅱ号清洗剂组成,由高沸点直链烷烃溶剂和几种表面活性剂复配组成Ⅰ号清洗剂;使用时,直接将液晶片放入Ⅰ号清洗剂中利用超声处理,可有效地清除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的液晶,洗件中表面油污、指纹、灰尘等污染物。由多种表面活性剂、去离子水、无机助剂组成Ⅱ号清洗剂。将12%的Ⅱ号清洗剂,加入纯净水溶液,在温度50-58℃下,利用超声处理可有效地清除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的Ⅰ号清洗剂。本发明经厂家试验:Ⅰ号清洗剂不用更换只需根据自然损耗添加,一槽12%的Ⅱ号清洗剂可清洗11万片液晶片。具有降低清洗成本,提高清洗效果等优点。

Description

半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺
技术领域
本发明涉及一种用于清洗LCD液晶屏表面及狭缝内残留液晶的半水基清洗剂,替代ODS物质清洗产品,属于化学品制备领域。
背景技术
目前,在清洗行业为了淘汰ODS物质而开发清洗技术主要有三种:水系清洗技术、半水系清洗技术和非水系清洗技术。(1)水系清洗技术:水系清洗是替代ODS物质清洗中应用最广泛的技术。水系清洗剂主要通过界面活性作用,由清洗剂的润湿、浸透去除污染物,再经碱性和表面活性剂的乳化、分散作用,将污染物从被洗物体表面剥离。这种清洗技术主要是用于清洁度要求不高的产品的清洗。对污染物沾污较重的物体清洗效果不好。(2)半水系清洗技术:半水系清洗剂是水和有机溶剂加上一定量的表面活性剂而组成的清洗剂。有机溶剂通常选择高沸点溶剂使用,其易燃危险性低。最大不足在于使用高沸点溶剂的半水系清洗剂清洗后干燥性差。使用低沸点溶剂半水系清洗剂易燃易爆。(3)非水系清洗技术:非水系清洗用的清洗剂有碳氢化合物系、乙醇系、硅系、酯系、氟系等数种,按照可燃性与不燃性来区分,碳氢化合物系、乙醇系、硅系为可燃性清洗剂,其余为不燃性清洗剂。可燃性清洗剂对清洗设备和生产场所要求较高,一般选用防爆型清洗设备。不燃性性清洗剂的价格较高,而且由于其沸点较低一般要求使用真空型清洗设备。
发明内容
为了克服上述技术的缺点,本发明提供一种能够有效去除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的液晶、油污、指纹、灰尘等污染物,且能够有效替代三氯乙烷、氟里昂等ODS物质,对人体无害、无污染,臭氧层无破坏作用的新型半水基液晶专用清洗剂。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
本发明的清洗剂由I号清洗剂和II号清洗剂组成,由高沸点直链烷烃溶剂和几种表面活性剂复配组成I号清洗剂。使用时,直接将液晶片放入I号清洗剂中利用超声处理,可有效地清除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的液晶,洗件中表面油污、指纹、灰尘等污染物。由多种表面活性剂、去离子水、无机助剂组成II号清洗剂。将12%的II号清洗剂,加入纯净水溶液,在温度50-58℃下,利用超声处理可有效地清除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的I号清洗剂。
I、II号清洗剂原料配比如表1和表2,原料纯度最低化学纯、去离子水要超纯。
           表1    I号清洗剂配方
  组分   原料   重量百分比(%)
  ABC   十一烷壬基酚聚氧乙烯(4)基醚壬基酚聚氧乙烯(7)基醚   82~8610~132~5
              表2  II号清洗剂原料组分
  组分   原料   重量百分比(%)
  CDEFGHIJ   壬基酚聚氧乙烯(7)基醚椰子油酸二乙醇酰胺月桂基聚氧乙烯(9)醚CH3(CH2)11O(CH2)11CH3顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠仲烷醇聚氧乙烯醚脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸脂去离子水   7~9%11~13%7~9%7~9%3~5%5~7%1.5~3.5%余量。
用表1、表2所列原料制作I、II号清洗剂,工艺步骤如下:
1.去离子水反渗透纯化;
2.按表中配比分别进行I、II号的清洗剂的复配,在45-60℃温度范围内,加热溶解搅拌,混合均匀,常压下进行:
3.溶液静置24小时;
4.压滤;
5.成品检验包装。
上述工艺均使用常规设备,所得产品为I号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,比重在0.83±0.02,闪点≥80℃。II号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,粘度(25℃):≥100厘泊,PH值:8-10,比重:1.05±0.05。
本产品适用于超声清洗工艺:
1、洗物用I号清洗剂,温度40-45℃下,超声5-10分钟/槽,推荐1~2槽清洗;
2、12%的II号清洗剂,加入纯净水溶液,在温度50-58℃下,超声5-10分钟/槽,推荐1~2槽清洗;
3、用纯净水喷淋,选用温度50-58℃;
4、用逆流纯净水超声,选用温度50-58℃,漂洗5-10分钟/槽,推荐3~4槽漂洗;
5、烘干。
使用本发明具有降低清洗成本,提高清洗效果等优点。在厂家试验结果:I号清洗剂不用更换只需根据自然损耗添加,一槽12%的II号清洗剂可清洗11万片液晶片。并且可有效地清除LCD液晶屏表面及狭缝内残留的液晶,洗件中表面油污、指纹、灰尘等污染物。对比水基清洗剂,半水基清洗剂对STN、ColorSTN具有更好的清洗效果。
试验结果:(所示结果为液体样品中总重量的含量)备注:N.D.=未检出(低于检测极限值)
  序号   项目   单位   测试极限值   A
  1   镉(Cd)   ppm   2   N.D.
  2   铅(Pb)   ppm   2   N.D.
  3   汞(Hg)   ppm   2   N.D.
  4   六价铬(CrVI)   ppm   2   N.D.
  5   多溴联苯试验分析
  一溴联苯   ppm   5   N.D.
  二溴联苯   ppm   5   N.D.
  三溴联苯   ppm   5   N.D.
  四溴联苯   ppm   5   N.D.
  五溴联苯   ppm   5   N.D.
  六溴联苯   ppm   5   N.D.
  七溴联苯   ppm   5   N.D.
  八溴联苯   ppm   5   N.D.
  九溴联苯   ppm   5   N.D.
  十溴联苯   ppm   5   N.D.
  多溴联苯试验分析
  一溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  二溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  三溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  四溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  五溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  六溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  七溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  八溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  九溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  十溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  序号   项目   单位   测试极限值   A
  1   镉(Cd)   ppm   2   N.D.
  2   铅(Pb)   ppm   2   N.D.
  3   汞(Hg)   ppm   2   N.D.
  4   六价铬(CrVI)   ppm   2   N.D.
  5   多溴联苯试验分析
  一溴联苯   ppm   5   N.D.
  二溴联苯   ppm   5   N.D.
  三溴联苯   ppm   5   N.D.
  四溴联苯   ppm   5   N.D.
  五溴联苯   ppm   5   N.D.
  六溴联苯   ppm   5   N.D.
  七溴联苯   ppm   5   N.D.
  八溴联苯   ppm   5   N.D.
  九溴联苯   ppm   5   N.D.
  十溴联苯   ppm   5   N.D.
  多溴联苯试验分析
  一溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  二溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  三溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  四溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  五溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  六溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  七溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  八溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  九溴联苯醚   ppm   5   N.D.
  十溴联苯醚   ppm   5   N.D.
具体实施方式
实施例1:配I、II号清洗剂各100kg。
一、配方如下:均为重量。
I号清洗剂:     组分                单位Kg
A               85
                B               12
                C               3
II号清洗剂:    组分            单位Kg
                C               8
                D               10
                E               8
                F               8
                G               4
                H               5.
                I               1.5
                J               余量.
一、述原料称量混合,加热至55℃,搅拌、常压、混合均匀,得透明液体;静置24小时,压滤,成品检验包装。
上述工艺使用常规设备,所得产品I号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,比重在0.83,闪点≥80℃。II号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,粘度(25℃):≥100厘泊,PH值:8,比重:1.05±0.05。
二、本产品适用方法,用超声清洗工艺:
1、洗物用I号清洗剂,温度40℃下,超声7分钟/槽,推荐1槽清洗;
2、12%的II号清洗剂,加入纯净水溶液,在温度50℃下,超声8分钟/槽,推荐1槽清洗;
3、用纯净水喷淋,选用温度55℃;
4、用逆流纯净水超声,选用温度54℃,漂洗6分钟/槽,推荐3槽漂洗;
5、烘干。
实施例2:配I、II号清洗剂各100kg。
一、配方如下:均为重量。
I号清洗剂:    组分                单位Kg
               A                   82
               B                   10
               C                   2
II号清洗剂:   组分                单位Kg
               C                   7
               D                   11
               E                   7
               F                   7
               G                   3
               H                   6
               I                   2.5
               J                   余量.
二、将上述原料称量混合,加热至55℃,搅拌、常压、混合均匀,得透明液体;静置24小时,压滤,成品检验包装。
上述工艺使用常规设备,所得产品I号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,比重在±0.02,闪点≥80℃。II号清洗剂为淡黄色均匀透明液体,气味温和,粘度(25℃):≥100厘泊,PH值:10,比重:1.05±0.05。
三、产品适用方法,用超声清洗工艺:
1、洗物用I号清洗剂,温度45℃下,超声10分钟/槽,推荐2槽清洗;
2、12%的II号清洗剂,加入纯净水溶液,在温度58℃下,超声10分钟/槽,推荐2槽清洗;
3、用纯净水喷淋,选用温度55℃;
4、用逆流纯净水超声,选用温度54℃,漂洗8分钟/槽,推荐4槽漂洗;
5、烘干。

Claims (2)

1、一种半水基液晶专用清洗剂,其特征在于,该清洗剂由I号清洗剂和II号清洗剂组成,其配方如下,均为重量百分比:
I号清洗剂原料组分
十一烷                       82~86%
壬基酚聚氧乙烯(4)基醚        10~13%
壬基酚聚氧乙烯(7)基醚        2~5%
II号清洗剂原料组分
壬基酚聚氧乙烯(7)基醚        7~9%
椰子油酸二乙醇酰胺           11~13%
月桂基聚氧乙烯(9)醚          7~9%
CH3(CH2)11O(CH2)11CH3 7~9%
顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠     3~5%
仲烷醇聚氧乙烯醚             5~7%
脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸脂       1.5~3.5%
去离子水                    余量。
2、根据权利要求1所述的半水基液晶专用清洗剂的制备工艺,其特征在于,步骤如下:
A.去离子水反渗透纯化;
B.按表中配比分别进行I、II号的清洗剂的复配,在45-60℃温度范围内,加热溶解搅拌,混合均匀,常压下进行;
C.溶液静置24小时;
D.压滤;
E.成品检验包装。
CNB2005100447389A 2005-09-15 2005-09-15 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺 Expired - Fee Related CN100350030C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100447389A CN100350030C (zh) 2005-09-15 2005-09-15 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100447389A CN100350030C (zh) 2005-09-15 2005-09-15 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1740298A CN1740298A (zh) 2006-03-01
CN100350030C true CN100350030C (zh) 2007-11-21

Family

ID=36092830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100447389A Expired - Fee Related CN100350030C (zh) 2005-09-15 2005-09-15 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100350030C (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101565831B (zh) * 2009-04-30 2012-01-18 深圳市科玺化工有限公司 可循环再生利用的水基清洗剂及其循环再生工艺

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103821552B (zh) * 2014-02-28 2016-04-06 山东科技大学 一种喷雾沉降煤尘用降尘剂
CN105255621A (zh) * 2015-09-27 2016-01-20 常州市奥普泰科光电有限公司 一种半水基型液晶清洗剂的制备方法
CN105132930A (zh) * 2015-09-28 2015-12-09 苏州龙腾万里化工科技有限公司 一种半水基型金属清洗剂
CN112500934A (zh) * 2020-12-22 2021-03-16 苏州柏越纳米科技有限公司 一种中性的半水基液晶玻璃清洗剂及其清洗方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188795A (zh) * 1998-01-20 1998-07-29 山东大学 一种水剂清洗剂组合物
CN1316496A (zh) * 2001-04-30 2001-10-10 山东大学 一种水基液晶清洗剂组合物
US20050032657A1 (en) * 2003-08-06 2005-02-10 Kane Sean Michael Stripping and cleaning compositions for microelectronics
US20050143271A1 (en) * 2003-12-24 2005-06-30 Kao Corporation Composition for cleaning semiconductor device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188795A (zh) * 1998-01-20 1998-07-29 山东大学 一种水剂清洗剂组合物
CN1316496A (zh) * 2001-04-30 2001-10-10 山东大学 一种水基液晶清洗剂组合物
US20050032657A1 (en) * 2003-08-06 2005-02-10 Kane Sean Michael Stripping and cleaning compositions for microelectronics
JP2005055859A (ja) * 2003-08-06 2005-03-03 Mallinckrodt Baker Inc マイクロエレクトロニクス用のストリッピングおよび洗浄組成物
US20050143271A1 (en) * 2003-12-24 2005-06-30 Kao Corporation Composition for cleaning semiconductor device

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
微电子工艺中的清洗技术现况与展望 刘玉岭,等.河北工业大学学报,第31卷第6期 2002 *
液晶显示屏的非ODS清洗技术研究 李玉香,等.洗净技术,第5期 2003 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101565831B (zh) * 2009-04-30 2012-01-18 深圳市科玺化工有限公司 可循环再生利用的水基清洗剂及其循环再生工艺

Also Published As

Publication number Publication date
CN1740298A (zh) 2006-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100350030C (zh) 半水基液晶专用清洗剂及其制备工艺
CN100497571C (zh) 太阳能硅晶片清洗剂
EP0473795B1 (en) Method of cleaning
CN1891806A (zh) 自动分析装置用碱性洗剂、自动分析装置的清洗方法及自动分析装置
CN1177977A (zh) 脱色方法及组合物
CN1052139A (zh) 用作清洗剂的糠醇混合物
CN1044265C (zh) 包含复合组分的洗洁剂和利用这种洗洁剂的清洁方法
CN113073014A (zh) 一种高效除油除渍的多功能清洗剂及其制备方法
CN1589317A (zh) 改进的洗涤体系
CN1025441C (zh) 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法
CN1788075A (zh) 处理(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯的设备部件的清洁液和使用该清洁液的清洗方法
CN101096619A (zh) 一种陶瓷清洗液
CN101289641A (zh) 晶圆抛光用清洗剂
CN101757857A (zh) 一种清洗膜系统含有机物污堵的复合清洗剂
CN1162525C (zh) 一种水基液晶清洗剂组合物
CN104928059A (zh) 硅片清洗剂
CN102703261B (zh) 一种精密部件加工清洗剂
CN106635454A (zh) 光学玻璃清洗剂及其制备方法
CN1553977A (zh) 从亲脂流体中除去污染物
CN1211478C (zh) 用于洗涤高分子合成树脂眼镜片及其制造铸模的洗涤剂
CN109135944B (zh) 一种基于自由基紫外聚合的清洁液及其制备方法
CN108587820B (zh) 一种含有机氟工业洗涤剂及其制备方法
CN1641006A (zh) 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法
JP3246694B2 (ja) 物品の洗浄方法
KR20110047693A (ko) 평판표시장치의 유리기판용 세정제 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20071121

Termination date: 20091015