CH720046A2 - Method of manufacturing a covering component comprising a diffraction grating. - Google Patents

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CH720046A2
CH720046A2 CH001080/2022A CH10802022A CH720046A2 CH 720046 A2 CH720046 A2 CH 720046A2 CH 001080/2022 A CH001080/2022 A CH 001080/2022A CH 10802022 A CH10802022 A CH 10802022A CH 720046 A2 CH720046 A2 CH 720046A2
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diffraction grating
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CH001080/2022A
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Combotte Bastien
Giry Benoit
Rittiner Gabriel
Vuille Pierry
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Comadur Sa
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Abstract

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composant d'habillage (10) d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : – dépôt d'une couche de base (12) opaque sur tout ou partie de la surface d'une face interne (110) d'un substrat (11) réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche de base (12) par usinage laser, de sorte à former au moins une poche (14) dont le fond présente un réseau de diffraction (15). L'invention concerne également un cadran de montre et un article de mode obtenus par un tel procédé.The invention relates to a method for manufacturing a trim component (10) of a watch, a fashion item or an item of jewelry, characterized in that it comprises the following steps : – deposition of an opaque base layer (12) on all or part of the surface of an internal face (110) of a substrate (11) made of a transparent material, – localized ablation of the base layer ( 12) by laser machining, so as to form at least one pocket (14) whose bottom has a diffraction grating (15). The invention also relates to a watch dial and a fashion item obtained by such a process.

Description

Domaine technique de l'inventionTechnical field of the invention

[0001] L'invention relève du domaine de l'horlogerie, des articles de modes, de la bijouterie ou de la joaillerie, et concerne plus particulièrement un procédé de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode, de bijouterie ou de joaillerie, ledit composant comportant un réseau de diffraction. [0001] The invention relates to the field of watchmaking, fashion items, jewelry or jewelry, and relates more particularly to a method of manufacturing a component for dressing a watch, a article of fashion, jewelry or jewelry, said component comprising a diffraction grating.

[0002] Dans le présent texte, la notion „d'article de mode“ comprend les articles ou accessoires d'habillement, tels que les ceintures, chaussures, vêtements, etc., et comprend en outre les articles de lunetterie, les articles de téléphonie, ou tout autre objet décoratif. [0002] In the present text, the notion of “fashion article” includes articles or accessories of clothing, such as belts, shoes, clothing, etc., and also includes articles of eyewear, articles of telephone, or any other decorative object.

Arrière-plan technologiqueTechnology background

[0003] Dans le domaine de l'horlogerie en particulier, les composants d'habillage pour montres, notamment le cadran, le rehaut, la lunette, etc., peuvent présenter, à des fins décoratives, des décors réalisés à partir de couches minces déposées à la surface d'un substrat. En particulier, ces couches minces permettent de colorer le composant d'habillage, par exemple pour imprimer des motifs sur sa surface. [0003] In the field of watchmaking in particular, the exterior components for watches, in particular the dial, the flange, the bezel, etc., can have, for decorative purposes, decorations made from thin layers deposited on the surface of a substrate. In particular, these thin layers make it possible to color the covering component, for example to print patterns on its surface.

[0004] La surface d'un composant d'habillage peut également être structurée, par exemple par usinage, afin de présenter un certain relief. [0004] The surface of a covering component can also be structured, for example by machining, in order to present a certain relief.

[0005] Des décors sur des pièces d'habillage peuvent également être réalisées de sorte à de générer des phénomènes de diffraction de la lumière et ainsi présenter une couleur pouvant varier selon l'orientation de la direction d'observation d'un utilisateur et/ou l'orientation d'une source de lumière. Ces phénomènes sont générés par l'intermédiaire de réseaux de diffraction réalisés sur le composant d'habillage, tel que décrit dans le document CH715906. Ce type de décor est attractif dans la mesure où il est évolutif et peut être très varié. [0005] Decorations on covering parts can also be made so as to generate light diffraction phenomena and thus present a color which can vary depending on the orientation of a user's direction of observation and/or or the orientation of a light source. These phenomena are generated via diffraction gratings produced on the covering component, as described in document CH715906. This type of decor is attractive in that it is scalable and can be very varied.

[0006] Toutefois, la réalisation de ce type de décor impose plusieurs contraintes notamment une exigence élevée en terme de maitrise des tolérances de fabrication et d'état de surface. Par ailleurs, ce type de décor est uniquement réalisé sur des matériaux métalliques. Il existe donc un besoin de pouvoir réaliser des décors avec des réseaux de diffraction de façon répétable, en garantissant le respect des exigences de fabrication, tout en diversifiant la nature du ou des matériaux constitutifs du composant d'habillage. [0006] However, the production of this type of decoration imposes several constraints, in particular a high requirement in terms of controlling manufacturing tolerances and surface condition. Furthermore, this type of decoration is only made on metallic materials. There is therefore a need to be able to produce decorations with diffraction gratings in a repeatable manner, while guaranteeing compliance with manufacturing requirements, while diversifying the nature of the material(s) constituting the covering component.

Résumé de l'inventionSummary of the invention

[0007] L'invention concerne, à cet effet, un procédé de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, comprenant les étapes suivantes : – dépôt d'une couche de base opaque sur tout ou partie de la surface d'une face interne d'un substrat réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche de base par usinage laser, de sorte à former au moins une poche dont le fond présente un réseau de diffraction.[0007] The invention relates, for this purpose, to a method of manufacturing a component for dressing a watch, a fashion item or an item of jewelry, comprising the following steps: – deposition of an opaque base layer on all or part of the surface of an internal face of a substrate made of a transparent material, – localized ablation of the base layer by laser machining, so as to form at least one pocket whose bottom has a diffraction grating.

[0008] La réalisation de l'étape d'ablation sur la couche de base plutôt que sur le substrat permet avantageusement de pouvoir réaliser le réseau de diffraction avec un niveau d'énergie fortement diminué, du fait de la différence entre leurs seuils d'ablation. [0008] Carrying out the ablation step on the base layer rather than on the substrate advantageously makes it possible to produce the diffraction grating with a greatly reduced energy level, due to the difference between their thresholds. ablation.

[0009] En plus d'autoriser le choix de tout matériau transparent pour constituer le substrat, notamment un matériau transparent présentant un seuil d'ablation très élevé tel que du saphir ou du verre, le procédé selon l'invention permet de garantir une excellente répétabilité et une maitrise des tolérances de fabrication du fait des faibles niveaux d'énergie mis en jeu. [0009] In addition to authorizing the choice of any transparent material to constitute the substrate, in particular a transparent material having a very high ablation threshold such as sapphire or glass, the method according to the invention makes it possible to guarantee excellent repeatability and control of manufacturing tolerances due to the low energy levels involved.

[0010] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, l'invention peut comporter en outre l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles. [0010] In particular modes of implementation, the invention may also include one or more of the following characteristics, taken in isolation or in all technically possible combinations.

[0011] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le fond de la poche est formé par le substrat et/ou par la couche de base. [0011] In particular modes of implementation, the bottom of the pocket is formed by the substrate and/or by the base layer.

[0012] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, plusieurs étapes d'ablation localisée sont réalisées de sorte à réaliser une pluralité de réseaux de diffraction. [0012] In particular modes of implementation, several localized ablation steps are carried out so as to produce a plurality of diffraction gratings.

[0013] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend une étape de polissage réalisée avant l'étape de dépôt de la couche de base, dans laquelle la face interne du substrat est polie. [0013] In particular modes of implementation, the method comprises a polishing step carried out before the step of depositing the base layer, in which the internal face of the substrate is polished.

[0014] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend une étape de gravure dans laquelle tout ou partie de la couche de base est éliminée sur la totalité de son épaisseur sans que la face interne du substrat ne soit impactée. [0014] In particular modes of implementation, the method comprises an etching step in which all or part of the base layer is eliminated over its entire thickness without the internal face of the substrate being impacted.

[0015] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, le procédé comprend une étape de dépôt d'une couche secondaire dans laquelle une couche secondaire opaque est déposée au moins sur le réseau de diffraction. [0015] In particular modes of implementation, the method comprises a step of depositing a secondary layer in which an opaque secondary layer is deposited at least on the diffraction grating.

[0016] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, lors de l'étape de gravure, une partie de la couche secondaire est éliminée de sorte à conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face interne du substrat ne soit impactée. [0016] In particular modes of implementation, during the etching step, part of the secondary layer is eliminated so as to conform said layer to a predefined shape, without the internal face of the substrate being impacted.

[0017] Dans des modes particuliers de mise en oeuvre, un revêtement antireflet est déposé sur une face externe du substrat opposée à la face interne. [0017] In particular modes of implementation, an anti-reflective coating is deposited on an external face of the substrate opposite the internal face.

[0018] Selon un autre objet, la présente invention concerne un cadran de montre formé par la mise en oeuvre du procédé tel que précédemment décrit. [0018] According to another object, the present invention relates to a watch dial formed by implementing the method as previously described.

[0019] Selon encore un autre objet, l'invention concerne un article de mode comportant un composant d'habillage formé par la mise en oeuvre du procédé tel que décrit précédemment. [0019] According to yet another object, the invention relates to a fashion article comprising a covering component formed by implementing the method as described above.

Brève description des figuresBrief description of the figures

[0020] D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description détaillée suivante donnée à titre d'exemple nullement limitatif, en référence aux dessins annexés dans lesquels : – la figure 1 représente schématiquement en vue en coupe, un composant d'habillage en cours de réalisation par la mise en oeuvre d'une étape d'un procédé de fabrication selon l'invention, – les figures 2 à 5 représentent schématiquement en vue en coupe, un composant d'habillage obtenu par la mise en oeuvre du procédé de fabrication selon l'invention dans différents exemples de mise en oeuvre.[0020] Other characteristics and advantages of the invention will appear on reading the following detailed description given by way of non-limiting example, with reference to the appended drawings in which: – Figure 1 shows schematically in sectional view, a covering component being produced by implementing a step of a manufacturing process according to the invention, – Figures 2 to 5 schematically represent in sectional view, a covering component obtained by the implementation of the manufacturing process according to the invention in different examples of implementation.

[0021] On note que les figures ne sont pas à l'échelle. Note that the figures are not to scale.

Description détaillée de l'inventionDetailed description of the invention

[0022] La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un composant d'habillage 10 tel que représenté sur les figures 2 à 5 dans différents exemples de mise en oeuvre dudit procédé. The present invention relates to a method of manufacturing a covering component 10 as shown in Figures 2 to 5 in different examples of implementation of said method.

[0023] Le composant d'habillage 10 peut avantageusement constituer un composant d'habillage d'une montre, tel qu'un cadran, un composant d'habillage d'un article de mode, ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie. [0023] The trim component 10 can advantageously constitute a trim component for a watch, such as a dial, a trim component for a fashion item, or an item of jewelry. .

[0024] Les termes „articles de mode“ définissent dans le présent texte tout article ou accessoire d'habillement, tels qu'une ceinture, une chaussure, un vêtement, etc., et comprend en outre les articles de lunetterie, les articles de téléphonie, tels que les coques de téléphones, ou tout objet décoratif. [0024] The terms “fashion articles” define in the present text any article or accessory of clothing, such as a belt, a shoe, a piece of clothing, etc., and also includes articles of eyewear, articles of telephony, such as phone cases, or any decorative object.

[0025] Le procédé de fabrication comprend une première étape de dépôt d'une couche mince, dite „couche de base“ 12, opaque, sur toute ou partie de la surface d'une face interne 110 d'un substrat 11 réalisé dans un matériau transparent, tel que représenté sur la figure 1. Il y a lieu de noter que le terme „transparent“ désigne dans le présent texte une capacité d'un matériau à laisser passer tout ou partie d'un rayonnement lumineux, notamment de la lumière visible à l'oeil nu. Un tel matériau transparent peut être du saphir, du verre, etc. The manufacturing process comprises a first step of depositing a thin layer, called a “base layer” 12, opaque, on all or part of the surface of an internal face 110 of a substrate 11 made in a transparent material, as shown in Figure 1. It should be noted that the term “transparent” designates in this text an ability of a material to allow all or part of light radiation to pass through, in particular light visible to the naked eye. Such a transparent material can be sapphire, glass, etc.

[0026] Le dépôt de la couche de base 12 peut être réalisé par une méthode de dépôt physique par phase vapeur, de dépôt chimique par phase vapeur, ou par toute autre méthode appropriée à la portée de l'homme du métier. A titre d'exemple, la couche de base 12 peut être réalisée en matériau métallique, notamment en Cr, Au, Ti, Zr, en matériau diélectrique, seuls ou en alliage, en oxyde et/ou nitrure, par exemple en CrTiO2. The deposition of the base layer 12 can be carried out by a method of physical deposition by vapor phase, of chemical deposition by vapor phase, or by any other method suitable to those skilled in the art. For example, the base layer 12 can be made of metallic material, in particular Cr, Au, Ti, Zr, of dielectric material, alone or of alloy, of oxide and/or nitride, for example of CrTiO2.

[0027] La face interne 110 du substrat 11 est opposée à une face externe 111 destinée à être orientée vers un environnement extérieur, la face interne 110 étant destinée à être orientée vers un environnement intérieur, par exemple en regard d'un mouvement horloger, dans le cas dans lequel le composant d'habillage 10 est un composant d'une montre. The internal face 110 of the substrate 11 is opposite an external face 111 intended to be oriented towards an external environment, the internal face 110 being intended to be oriented toward an internal environment, for example facing a watch movement, in the case in which the covering component 10 is a component of a watch.

[0028] Préférentiellement, la face interne 110 est polie lors d'une étape préliminaire de polissage, préalablement au dépôt de la couche de base 12. Preferably, the internal face 110 is polished during a preliminary polishing step, prior to the deposition of the base layer 12.

[0029] Le procédé comporte, suite à l'étape de dépôt de la couche de base 12, une étape d'ablation localisée de la couche de base 12 par usinage laser, de sorte à former, dans l'épaisseur de la couche de base 12, une ou des poches 14 dont le fond présente un réseau de diffraction 15, tel que représenté par la figure 2. La poche 14 s'étend entre une face externe 120 de la couche de base 12 et le fond, selon une direction matérialisant l'épaisseur de la couche de base 12. [0029] The method comprises, following the step of deposition of the base layer 12, a step of localized ablation of the base layer 12 by laser machining, so as to form, in the thickness of the layer of base 12, one or more pockets 14 whose bottom has a diffraction grating 15, as shown in Figure 2. The pocket 14 extends between an external face 120 of the base layer 12 and the bottom, in one direction materializing the thickness of the base layer 12.

[0030] Dans la présente description de l'invention et en concordance avec les figures, il est fait référence ci-dessous à une seule poche 14 et par conséquent à un unique réseau de diffraction 15 pour faciliter la lecture du texte. In the present description of the invention and in accordance with the figures, reference is made below to a single pocket 14 and consequently to a single diffraction grating 15 to facilitate reading of the text.

[0031] Un tel réseau de diffraction 15 est formé par la répétition périodique d'un motif diffractant. Such a diffraction grating 15 is formed by the periodic repetition of a diffracting pattern.

[0032] Par exemple, le réseau de diffraction est formé par une pluralité de stries parallèles espacées les unes des autres par un pas régulier, par exemple de quelques micromètres, typiquement entre 2 et 20 µm. [0032] For example, the diffraction grating is formed by a plurality of parallel streaks spaced from each other by a regular pitch, for example a few micrometers, typically between 2 and 20 μm.

[0033] A titre d'exemple, le laser utilisé pour l'usinage laser peut être un laser femtosecondes, présentant une énergie d'impulsion de quelques micro joules, par exemple comprise entre 1 et 5 µJ, et une fréquence de répétition de plusieurs centaines de kilohertz, par exemple entre 300 et 500 kHz. [0033] By way of example, the laser used for laser machining can be a femtosecond laser, having a pulse energy of a few micro joules, for example between 1 and 5 µJ, and a repetition frequency of several hundreds of kilohertz, for example between 300 and 500 kHz.

[0034] Dans l'exemple de réalisation représenté sur les figures 2 à 5, la poche 14 débouche sur la face interne 110 du substrat 11, le réseau de diffraction 15 étant formé sur ladite face interne 110. Dans d'autres exemples de réalisation de l'invention, notamment en fonction de paramètres de l'usinage laser, tels que la puissance ou l'énergie du laser, la position du point focal, etc., et/ou en fonction du matériau constituant la couche de base 12, le réseau de diffraction 15 peut être formé par la face interne 110 du substrat 11 ou par un mélange des matériaux de la couche de base 12 et dudit substrat 11. [0034] In the exemplary embodiment shown in Figures 2 to 5, the pocket 14 opens onto the internal face 110 of the substrate 11, the diffraction grating 15 being formed on said internal face 110. In other exemplary embodiments of the invention, in particular as a function of laser machining parameters, such as the power or energy of the laser, the position of the focal point, etc., and/or as a function of the material constituting the base layer 12, the diffraction grating 15 can be formed by the internal face 110 of the substrate 11 or by a mixture of the materials of the base layer 12 and of said substrate 11.

[0035] Avantageusement, afin d'enrichir le décor, le procédé selon l'invention peut comporter plusieurs étapes d'ablation localisée de sorte à générer une pluralité de réseaux de diffraction 15 de sorte à représenter un motif particulier. Ces réseaux de diffraction 15 peuvent être formés de sorte à être différents les uns des autres, par exemple, l'orientation de leurs stries respectives, le nombre et les dimensions de leurs stries ou leurs pas de séparation peuvent être différents. En outre, les réseaux de diffraction 15 peuvent être générés sur des portions de la face interne 110 du substrat 11 inclinées les unes par rapport aux autres. [0035] Advantageously, in order to enrich the decoration, the method according to the invention can comprise several localized ablation steps so as to generate a plurality of diffraction gratings 15 so as to represent a particular pattern. These diffraction gratings 15 can be formed so as to be different from each other, for example, the orientation of their respective streaks, the number and dimensions of their streaks or their separation pitches can be different. In addition, the diffraction gratings 15 can be generated on portions of the internal face 110 of the substrate 11 inclined relative to each other.

[0036] En résumé, les étapes d'ablation peuvent être réalisées avec des paramètres différents suivant l'aspect désiré des réseaux de diffraction 15 à réaliser, la détermination des valeurs de ces paramètres étant à la portée de l'homme du métier. [0036] In summary, the ablation steps can be carried out with different parameters depending on the desired appearance of the diffraction gratings 15 to be produced, the determination of the values of these parameters being within the reach of those skilled in the art.

[0037] L'ablation localisée générant la poche 14 et le réseau de diffraction 15 simultanément, le réseau de diffraction 15 coïncide parfaitement avec la poche 14 avec laquelle il est générée. Le respect des tolérances d'alignement entre la face externe 120 de la couche de base 12 et le réseau de diffraction 15 est donc garanti. The localized ablation generating the pocket 14 and the diffraction grating 15 simultaneously, the diffraction grating 15 coincides perfectly with the pocket 14 with which it is generated. Compliance with the alignment tolerances between the external face 120 of the base layer 12 and the diffraction grating 15 is therefore guaranteed.

[0038] Avantageusement, le procédé peut comprendre une étape de gravure dans laquelle une partie de la couche de base 12 est éliminée sur la totalité de son épaisseur de sorte à conformer ladite couche de base 12 selon une forme prédéfinie, sans que la face interne 110 du substrat 11 ne soit impactée, tel que le représente la figure 3. Cette caractéristique participe à enrichir les décors pouvant être réalisés sur le composant d'habillage 10. Une telle étape de gravure peut être mise en oeuvre par photolithographie, usinage laser, etc. [0038] Advantageously, the method can comprise an etching step in which a part of the base layer 12 is eliminated over its entire thickness so as to conform said base layer 12 according to a predefined shape, without the internal face 110 of the substrate 11 is not impacted, as shown in Figure 3. This characteristic helps to enrich the decorations that can be made on the covering component 10. Such an engraving step can be implemented by photolithography, laser machining, etc.

[0039] Alternativement, lors de l'étape de gravure, la totalité de la couche de base 12 peut être éliminée sur l'ensemble de son épaisseur. Alternatively, during the etching step, the entire base layer 12 can be eliminated over its entire thickness.

[0040] Dans les exemples de réalisation décrits ci-dessus et représentés sur les figures 2 et 3, l'utilisateur est destiné à voir le décor du composant d'habillage 10 depuis la face externe 111, à travers ledit substrat 11, ou depuis la face interne 110 selon l'agencement dudit composant d'habillage 10 au sein de la montre, du bijou ou de l'article de mode. [0040] In the exemplary embodiments described above and shown in Figures 2 and 3, the user is intended to see the decoration of the covering component 10 from the external face 111, through said substrate 11, or from the internal face 110 according to the arrangement of said covering component 10 within the watch, jewelry or fashion item.

[0041] Lorsque l'utilisateur est destiné à voir le décor du composant d'habillage 10 depuis la face externe 111, à travers ledit substrat 11, ce dernier a avantageusement pour effet de protéger la couche de base 12 de potentielles agressions du milieu extérieur. [0041] When the user is intended to see the decoration of the covering component 10 from the external face 111, through said substrate 11, the latter advantageously has the effect of protecting the base layer 12 from potential attacks from the external environment .

[0042] Dans un exemple de mise en oeuvre de l'invention, le procédé peut comprendre une étape de dépôt d'une couche secondaire 13, dans laquelle une couche secondaire 13 opaque est déposée sur le réseau de diffraction 15 et sur la couche de base 12, si cette dernière n'est pas complètement éliminée lors d'une étape de gravure ou lorsqu'aucune étape de gravure n'a été mise en oeuvre. Si une étape de gravure a été mise en oeuvre et que l'ensemble de la couche de base 12 a été éliminée, la couche secondaire 13 est également déposée contre la face interne 110 du substrat 11, comme représenté sur la figure 4. [0042] In an example of implementation of the invention, the method may comprise a step of depositing a secondary layer 13, in which an opaque secondary layer 13 is deposited on the diffraction grating 15 and on the layer of base 12, if the latter is not completely eliminated during an etching step or when no etching step has been implemented. If an etching step has been implemented and the entire base layer 12 has been eliminated, the secondary layer 13 is also deposited against the internal face 110 of the substrate 11, as shown in Figure 4.

[0043] Dans cet exemple de réalisation représenté sur les figures 4 et 5, l'utilisateur est destiné à voir le décor du composant d'habillage 10 uniquement depuis la face externe 111 à travers ledit substrat 11. [0043] In this exemplary embodiment shown in Figures 4 and 5, the user is intended to see the decoration of the covering component 10 only from the external face 111 through said substrate 11.

[0044] La couche secondaire 13 permet avantageusement d'augmenter la réflexion des rayons lumineux diffractés, et ainsi d'augmenter la vivacité et le contraste du décor généré. A cet effet, la couche peut être réalisée en matériau métallique, céramique, en oxyde et/ou en nitrure. The secondary layer 13 advantageously makes it possible to increase the reflection of the diffracted light rays, and thus to increase the liveliness and contrast of the decoration generated. For this purpose, the layer can be made of metallic, ceramic, oxide and/or nitride material.

[0045] Dans l'exemple de mise en oeuvre représenté sur la figure 5, l'étape de gravure peut consister à éliminer concomitamment une partie de la couche de base 12 et une partie de la couche secondaire 13, de sorte à conformer lesdites couches selon une forme prédéfinie, sans que la face interne 110 du substrat 11 ne soit impactée. La partie éliminée de la couche secondaire 13 est superposée à celle de la couche de base 12. [0045] In the example of implementation shown in Figure 5, the etching step can consist of concomitantly eliminating a part of the base layer 12 and a part of the secondary layer 13, so as to conform said layers according to a predefined shape, without the internal face 110 of the substrate 11 being impacted. The eliminated part of the secondary layer 13 is superimposed on that of the base layer 12.

[0046] Avantageusement, un revêtement antireflet (non représenté sur les figures) peut être déposé sur la face externe 111 du substrat 11. Un tel revêtement antireflet permet de favoriser la transmission des rayons lumineux incidents et de minimiser, voire de supprimer, les reflets du rayonnement lumineux incident sur la face externe 111 du substrat 11. Ainsi, cette caractéristique permet d'intensifier l'aspect du phénomène de diffraction. [0046] Advantageously, an anti-reflective coating (not shown in the figures) can be deposited on the external face 111 of the substrate 11. Such an anti-reflective coating makes it possible to promote the transmission of incident light rays and to minimize, or even eliminate, reflections. of light radiation incident on the external face 111 of the substrate 11. Thus, this characteristic makes it possible to intensify the appearance of the diffraction phenomenon.

[0047] Un revêtement antireflet peut également être déposé sur la couche de base 12 ou sur la couche secondaire 13 suivant l'exemple de mise en oeuvre de l'invention considéré, et éventuellement sur la face interne 110 du substrat 11 si une étape de gravure a été réalisée. [0047] An anti-reflective coating can also be deposited on the base layer 12 or on the secondary layer 13 according to the example of implementation of the invention considered, and possibly on the internal face 110 of the substrate 11 if a step of engraving was carried out.

[0048] On note que, grâce aux caractéristiques de l'invention, l'aspect visuel du décor du composant d'habillage 10 peut être particulièrement riche et attractif dans la mesure où en plus des couleurs envisageables de la couche de base 12 et éventuellement de la couche secondaire 13, s'ajoute l'aspect du réseau de diffraction 15. Par ailleurs, le procédé selon l'invention permet de générer un effet visuel de profondeur entre les couches de base 12 et secondaire 13 et le réseau de diffraction 15. [0048] Note that, thanks to the characteristics of the invention, the visual appearance of the decoration of the covering component 10 can be particularly rich and attractive to the extent that in addition to the possible colors of the base layer 12 and possibly of the secondary layer 13, the appearance of the diffraction grating 15 is added. Furthermore, the method according to the invention makes it possible to generate a visual effect of depth between the base 12 and secondary 13 layers and the diffraction grating 15 .

[0049] Par ailleurs, la couche de base 12 permet avantageusement de pouvoir réaliser, sur un substrat 11 transparent, un décor avec un réseau de diffraction 15 par un usinage laser nécessitant une faible puissance, ce qui permet de garantir une meilleure maitrise de la répétabilité de l'usinage, et par conséquent, d'assurer un respect constant des tolérances de fabrication. Par ailleurs, la réalisation d'un usinage nécessitant une puissance élevée provoquerait une altération de l'état de surface de la face interne 110 du substrat 11 conduisant à une matification de sa surface, en plus des incertitudes générées quant au respect des exigences dimensionnelles du composant d'habillage 10. [0049] Furthermore, the base layer 12 advantageously makes it possible to produce, on a transparent substrate 11, a decoration with a diffraction grating 15 by laser machining requiring low power, which makes it possible to guarantee better control of the repeatability of machining, and consequently, to ensure constant compliance with manufacturing tolerances. Furthermore, carrying out machining requiring high power would cause an alteration of the surface state of the internal face 110 of the substrate 11 leading to a mattification of its surface, in addition to the uncertainties generated as to compliance with the dimensional requirements of the substrate. trim component 10.

[0050] De manière plus générale, il est à noter que les modes de mise en oeuvre et de réalisation considérés ci-dessus ont été décrits à titre d'exemples non limitatifs, et que d'autres variantes sont par conséquent envisageables. More generally, it should be noted that the modes of implementation and embodiment considered above have been described by way of non-limiting examples, and that other variants are therefore possible.

[0051] Notamment, la couche de base 12 et/ou la couche secondaire 13 peuvent être constituées par un empilement de couches minces, de façon connue en soi par l'homme du métier. In particular, the base layer 12 and/or the secondary layer 13 can be constituted by a stack of thin layers, in a manner known per se to those skilled in the art.

Claims (10)

1. Procédé de fabrication d'un composant d'habillage (10) d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : – dépôt d'une couche de base (12) opaque sur tout ou partie de la surface d'une face interne (110) d'un substrat (11) réalisé dans un matériau transparent, – ablation localisée de la couche de base (12) par usinage laser, de sorte à former au moins une poche (14) dont le fond présente un réseau de diffraction (15).1. Method for manufacturing a trim component (10) of a watch, a fashion item or an item of jewelry, characterized in that it comprises the following steps: – deposition of an opaque base layer (12) on all or part of the surface of an internal face (110) of a substrate (11) made of a transparent material, – localized ablation of the base layer (12) by laser machining, so as to form at least one pocket (14) whose bottom has a diffraction grating (15). 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le fond de la poche (14) est formé par le substrat (11) et/ou par la couche de base (12).2. Method according to claim 1, in which the bottom of the pocket (14) is formed by the substrate (11) and/or by the base layer (12). 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel plusieurs étapes d'ablation localisée sont réalisées de sorte à réaliser une pluralité de réseaux de diffraction (15).3. Method according to claim 1 or 2, in which several localized ablation steps are carried out so as to produce a plurality of diffraction gratings (15). 4. Procédé selon les revendications 1 à 3, comprenant une étape de polissage réalisée avant l'étape de dépôt de la couche de base (12), dans laquelle la face interne (110) du substrat (11) est polie.4. Method according to claims 1 to 3, comprising a polishing step carried out before the step of depositing the base layer (12), in which the internal face (110) of the substrate (11) is polished. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, comprenant une étape de gravure dans laquelle tout ou partie de la couche de base (12) est éliminée sur la totalité de son épaisseur sans que la face interne (110) du substrat (11) ne soit impactée.5. Method according to one of claims 1 to 4, comprising an etching step in which all or part of the base layer (12) is eliminated over its entire thickness without the internal face (110) of the substrate ( 11) is not impacted. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, comprenant une étape de dépôt d'une couche secondaire (13) dans laquelle une couche secondaire (13) opaque est déposée au moins sur le réseau de diffraction (15).6. Method according to one of claims 1 to 4, comprising a step of depositing a secondary layer (13) in which an opaque secondary layer (13) is deposited at least on the diffraction grating (15). 7. Procédé selon les revendications 5 et 6, dans lequel, lors de l'étape de gravure, une partie de la couche secondaire (13) est éliminée de sorte à conformer ladite couche selon une forme prédéfinie, sans que la face interne (110) du substrat (11) ne soit impactée.7. Method according to claims 5 and 6, in which, during the etching step, a part of the secondary layer (13) is eliminated so as to conform said layer according to a predefined shape, without the internal face (110 ) of the substrate (11) is not impacted. 8. Procédé de fabrication selon l'une des revendication 1 à 7, dans lequel un revêtement antireflet est déposé sur une face externe (111) du substrat (11) opposée à la face interne (110).8. Manufacturing method according to one of claims 1 to 7, in which an anti-reflective coating is deposited on an external face (111) of the substrate (11) opposite the internal face (110). 9. Cadran de montre caractérisé en ce qu'il est formé par la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 8.9. Watch dial characterized in that it is formed by implementing the method according to one of claims 1 to 8. 10. Article de mode caractérisé en ce qu'il comporte un composant d'habillage (10) formé par la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 8.10. Fashion item characterized in that it comprises a covering component (10) formed by implementing the method according to one of claims 1 to 8.
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