CH719203A2 - Functional set of micromechanics with a tribological coating. - Google Patents

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CH719203A2
CH719203A2 CH070651/2021A CH0706512021A CH719203A2 CH 719203 A2 CH719203 A2 CH 719203A2 CH 070651/2021 A CH070651/2021 A CH 070651/2021A CH 0706512021 A CH0706512021 A CH 0706512021A CH 719203 A2 CH719203 A2 CH 719203A2
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Manasterski Christian
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Swatch Group Res & Dev Ltd
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Abstract

La présente invention concerne un ensemble fonctionnel (1) de micromécanique comprenant au moins une première pièce (2) avec une première surface fonctionnelle (2a) destinée à venir en contact de frottement avec une deuxième surface fonctionnelle (3a), ladite deuxième surface fonctionnelle appartenant, soit à ladite première pièce (2) soit à au moins une deuxième pièce (3) constituant avec ladite première pièce (2) ledit ensemble fonctionnel (1), ledit ensemble fonctionnel (1) étant caractérisé en ce que la première surface fonctionnelle (2a) et la deuxième surface fonctionnelle (3a) sont formées d'une première couche (9a) comprenant du diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin, ladite première couche (9a) étant surmontée d'une deuxième couche (9b) comportant des atomes de S et de F. Elle se rapporte également au procédé de fonctionnalisation du diamant.The present invention relates to a functional assembly (1) of micromechanics comprising at least a first part (2) with a first functional surface (2a) intended to come into frictional contact with a second functional surface (3a), said second functional surface belonging , either to said first part (2) or to at least one second part (3) constituting with said first part (2) said functional assembly (1), said functional assembly (1) being characterized in that the first functional surface ( 2a) and the second functional surface (3a) are formed of a first layer (9a) comprising ultrananocrystalline, nanocrystalline or microcrystalline diamond, said first layer (9a) being surmounted by a second layer (9b) comprising S atoms and F. It also relates to the diamond functionalization process.

Description

Domaine technique de l'inventionTechnical field of the invention

[0001] La présente invention concerne un ensemble fonctionnel de micromécanique comprenant au moins une pièce munie de surfaces soumises à un contact par frottement nécessitant un revêtement tribologique. L'ensemble fonctionnel de micromécanique se rapporte plus spécifiquement à un couple de pièces micromécaniques horlogères coopérant mécaniquement l'une avec l'autre telles qu'une roue d'échappement et des palettes d'une ancre. The present invention relates to a functional micromechanical assembly comprising at least one part provided with surfaces subjected to contact by friction requiring a tribological coating. The micromechanical functional assembly relates more specifically to a pair of watchmaking micromechanical parts cooperating mechanically with each other, such as an escape wheel and pallets of an anchor.

Arrière-plan technologiqueTechnology background

[0002] Lors de l'apparition des technologies de dépôt de diamant par voie chimique en phase gazeuse (diamant CVD), beaucoup d'espoirs avaient été émis concernant la tribologie, grâce à la dureté intrinsèque du diamant. Malheureusement, le frottement à sec entre deux surfaces de diamant n'est pas tribologiquement viable car il conduit à une adhésion entre les pièces horlogères en contact. Ceci est dû à la création de liaisons entre les atomes de carbone (C-C) des deux matériaux partenaires du couple Diamant vs Diamant. Pour minimiser cet effet adhésif, le couple de matériaux Diamant vs Diamant doit être en présence d'un environnement doté d'une humidité relative (%HR) au moins égale à 50%. Cette valeur seuil de 50%HR permet l'approvisionnement de microgouttelettes d'eau (H2O) dans la surface de contact. Ceci diminue alors l'effort tangentiel de déplacement FTd'une surface par rapport à une autre surface. Ces microgouttelettes jouent donc le rôle de lubrifiants locaux favorisant le mouvement relatif des pièces horlogères en contact. Sous cette valeur seuil, le phénomène d'adhésion est exacerbé, avec des instabilités de contact intervenant sur des temps de sollicitations courts. [0002] At the time of the appearance of technologies for deposition of diamond by chemical means in the gaseous phase (diamond CVD), many hopes had been expressed concerning tribology, thanks to the intrinsic hardness of diamond. Unfortunately, dry friction between two diamond surfaces is not tribologically viable because it leads to adhesion between the watch parts in contact. This is due to the creation of bonds between the carbon atoms (C-C) of the two partner materials of the Diamond vs. Diamond couple. To minimize this adhesive effect, the pair of Diamond vs. Diamond materials must be in the presence of an environment with a relative humidity (%RH) at least equal to 50%. This threshold value of 50% RH allows the supply of micro-droplets of water (H2O) in the contact surface. This then decreases the tangential displacement force FT of a surface relative to another surface. These microdroplets therefore play the role of local lubricants promoting the relative movement of the watch parts in contact. Below this threshold value, the adhesion phenomenon is exacerbated, with contact instabilities occurring over short stress times.

[0003] Ainsi, dans les conditions de contact existant en mouvement (effort normal faible et effort tangentiel élevé), le coefficient de frottement global, noté CoF(CoefficientOfFriction), du couple Diamant vs Diamant peut être inférieur à 0.2 comme illustré à la figure 1. Malheureusement, ces conditions environnementales ne garantissent pas la stabilité tribologique du couple de matériaux au-delà de 5 minutes de test. En effet, des instabilités de frottement apparaissent dès 3.5 minutes de test. [0003] Thus, under the conditions of contact existing in motion (low normal force and high tangential force), the overall coefficient of friction, denoted CoF (CoefficientOfFriction), of the Diamond vs. Diamond couple can be less than 0.2 as illustrated in the figure 1. Unfortunately, these environmental conditions do not guarantee the tribological stability of the pair of materials beyond 5 minutes of testing. Indeed, friction instabilities appear from 3.5 minutes of testing.

[0004] Le défi réside donc dans le fait d'utiliser ce couple Diamant/Diamant dans un ensemble fonctionnel micromécanique en garantissant sans lubrifiant un comportement tribologique stable sur une plus longue durée. [0004] The challenge therefore resides in the fact of using this Diamond/Diamond pair in a micromechanical functional assembly while guaranteeing stable tribological behavior over a longer period without lubricant.

Résumé de l'inventionSummary of the invention

[0005] L'invention a pour objet de pallier aux désavantages précités en modifiant les propriétés tribologiques de la couche de diamant. En effet, comme expliqué précédemment, les atmosphères d'hydrogène, d'oxygène ou d'humidité sont, en utilisation sur le long terme, difficiles à tenir. L'objet de l'invention est de remplacer le lien atomique OH ou H de passivation provoqué par les milieux cités ci-dessus par d'autres molécules. Ces modifications d'extrême surface destinées à changer les propriétés tribologiques sont réalisées, selon l'invention, en fonctionnalisant la couche de diamant. Plus précisément, selon l'invention, la couche de diamant est fonctionnalisée avec un composé de soufre et de fluor. The object of the invention is to overcome the aforementioned disadvantages by modifying the tribological properties of the diamond layer. Indeed, as explained previously, the atmospheres of hydrogen, oxygen or humidity are, in use over the long term, difficult to maintain. The object of the invention is to replace the passivation OH or H atomic bond caused by the media mentioned above by other molecules. These extreme surface modifications intended to change the tribological properties are carried out, according to the invention, by functionalizing the diamond layer. More specifically, according to the invention, the diamond layer is functionalized with a sulfur and fluorine compound.

[0006] Ainsi, la présente invention se rapporte à un ensemble fonctionnel de micromécanique comprenant au moins une première pièce avec une première surface fonctionnelle destinée à venir en contact de frottement avec une deuxième surface fonctionnelle, ladite deuxième surface fonctionnelle appartenant, soit à ladite première pièce soit à au moins une deuxième pièce constituant avec ladite première pièce ledit ensemble fonctionnel, ledit ensemble fonctionnel étant caractérisé en ce que la première surface fonctionnelle et la deuxième surface fonctionnelle sont formées d'une première couche comprenant du diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin, ladite première couche étant surmontée d'une deuxième couche comportant des atomes de S et de F. On comprendra que la première couche peut être de matière avec le substrat constituant les première et deuxième pièces ou distincte du substrat. Thus, the present invention relates to a functional micromechanical assembly comprising at least a first part with a first functional surface intended to come into frictional contact with a second functional surface, said second functional surface belonging either to said first part or at least one second part constituting with said first part said functional assembly, said functional assembly being characterized in that the first functional surface and the second functional surface are formed of a first layer comprising ultrananocrystalline, nanocrystalline or microcrystalline diamond, said first layer being surmounted by a second layer comprising S and F atoms. It will be understood that the first layer can be material with the substrate constituting the first and second parts or distinct from the substrate.

[0007] Une amélioration du comportement tribologique de ces surfaces fonctionnelles a été observée lors d'essais. Cette amélioration pourrait être attribuée au S permettant de se préserver de l'apparition de liaisons (C-C) lorsque l'humidité relative n'est plus suffisante pour jouer ce rôle. Ainsi, il est possible de prévoir un fonctionnement d'un système mobile horloger, tel qu'un échappement à ancre suisse sans lubrification du contact palette/roue d'échappement, avec des performances au moins équivalentes à celles des références standards. [0007] An improvement in the tribological behavior of these functional surfaces has been observed during tests. This improvement could be attributed to the S allowing to preserve itself from the appearance of bonds (C-C) when the relative humidity is no longer sufficient to play this role. Thus, it is possible to provide for operation of a mobile horological system, such as a Swiss lever escapement without lubrication of the pallet/escape-wheel contact, with performances at least equivalent to those of the standard references.

[0008] Cette amélioration du comportement tribologique est plus particulièrement observée lorsque les deux surfaces fonctionnelles en contact sont revêtues avec une couche tribologique de même composition. This improvement in tribological behavior is more particularly observed when the two functional surfaces in contact are coated with a tribological layer of the same composition.

[0009] La présente invention se rapporte également au procédé de fonctionnalisation du diamant par gravure ionique réactive. La gravure ionique réactive est généralement utilisée pour la gravure profonde sur silicium. Il a été constaté par les inventeurs qu'en utilisant un équipement de gravure par ions réactifs à très faible puissance, typiquement entre 30 et 70 W, il est possible de synthétiser ce composé de S et F sur une pièce, telle une pièce d'horlogerie qui a de faibles dimensions. The present invention also relates to the process for functionalizing diamond by reactive ion etching. Reactive ion etching is generally used for deep etching on silicon. It has been observed by the inventors that by using reactive ion etching equipment at very low power, typically between 30 and 70 W, it is possible to synthesize this compound of S and F on a part, such as a part of watchmaking which has small dimensions.

Brève description des figuresBrief description of figures

[0010] Les buts, avantages et caractéristiques apparaitront à la lumière des figures suivantes : – la figure 1 représente la courbe du coefficient de frottement global (CoF(global)) en fonction du temps, du couple diamant microcristallin/diamant microcristallin non lubrifié selon l'art antérieur, pour un taux d'humidité relative de 30%. – la figure 2 représente schématiquement en coupe une portion de deux pièces de l'ensemble fonctionnel selon l'invention. – la figure 3 représente partiellement un ensemble fonctionnel comprenant deux pièces, à savoir une roue d'échappement et une palette d'ancre avec des surfaces de contact fonctionnalisées selon l'invention. – la figure 4 représente une image en microscopie électronique de la morphologie de la deuxième couche de S et F, avec une structure en bâtonnets. – les figures 5a et 5b représentent respectivement les résultats tribologiques pour une distance de 25m, pour un ensemble fonctionnel comprenant deux pièces. A la figure 5a, à titre comparatif non couvert par l'invention, une pièce est revêtue sur sa surface fonctionnelle de diamant microcristallin MCD et l'autre pièce de diamant microcristallin fonctionnalisé au SF6. A la figure 5b, selon l'invention, les deux pièces sont revêtues sur leur surface fonctionnelle de diamant microcristallin fonctionnalisé au SF6. – la figure 6 représente les résultats tribologiques pour le couple de la figure 5b sur une plus longue distance de 2500m. – les figures 7a et 7b représentent l'amplitude du balancier respectivement pour un couple roue d'échappement/ancre de référence et un couple roue d'échappement/ancre selon l'invention avec une couche de diamant microcristallin fonctionnalisé au SF6. – la figure 8 est une vue schématique de l'équipement utilisé pour la fonctionnalisation du diamant.[0010] The aims, advantages and characteristics will appear in the light of the following figures: - figure 1 represents the curve of the global coefficient of friction (CoF(global)) as a function of time, of the couple microcrystalline diamond/non-lubricated microcrystalline diamond according to the prior art, for a relative humidity rate of 30%. - Figure 2 schematically shows in section a portion of two parts of the functional assembly according to the invention. - Figure 3 partially shows a functional assembly comprising two parts, namely an escape wheel and a pallet pallet with contact surfaces functionalized according to the invention. – Figure 4 shows an electron microscopy image of the morphology of the second layer of S and F, with a rod structure. – Figures 5a and 5b represent respectively the tribological results for a distance of 25m, for a functional assembly comprising two parts. In FIG. 5a, by way of comparison not covered by the invention, one part is coated on its functional surface with microcrystalline diamond MCD and the other part with microcrystalline diamond functionalized with SF6. In FIG. 5b, according to the invention, the two parts are coated on their functional surface with microcrystalline diamond functionalized with SF6. – figure 6 represents the tribological results for the couple of figure 5b over a longer distance of 2500m. – Figures 7a and 7b represent the amplitude of the balance respectively for a reference escapement wheel/lever pair and an escapement wheel/lever pair according to the invention with a layer of microcrystalline diamond functionalized with SF6. – Figure 8 is a schematic view of the equipment used for the functionalization of diamond.

Description détaillée de l'inventionDetailed description of the invention

[0011] La présente invention se rapporte à un ensemble fonctionnel comprenant au moins une pièce soumise sur sa ou ses surfaces dites fonctionnelles ou de contact aux frottements. L'ensemble fonctionnel selon l'invention peut comporter une seule pièce avec deux surfaces fonctionnelles destinées à être en contact par frottement. Par exemple, dans le domaine horloger, il peut s'agir d'un ressort de barillet formé d'une lame avec une face du ressort destinée à être en contact avec une autre face du ressort. En variante, l'ensemble fonctionnel peut comporter au moins deux pièces avec respectivement chaque pièce comportant une surface fonctionnelle destinée à être soumise aux frottements avec une surface fonctionnelle d'une autre pièce. Par exemple, dans le domaine horloger, l'ensemble fonctionnel 1 peut comporter une première pièce 2 qui est une palette 4 d'une ancre 5 et une deuxième pièce 3 qui est une roue d'échappement 6 tel que représenté à la figure 3. Plus précisément, la palette 4 présente un plan de repos A et un plan d'impulsion B qui coopèrent avec les plans de repos C et d'impulsion D de la dent 7 de la roue d'échappement 6. Ces plans A, B, C, D sont des surfaces fonctionnelles fortement sollicitées et sujettes à des niveaux élevés de frottement et/ou contact pouvant requérir une couche tribologique selon l'invention pour réduire le frottement. Dans une autre application horlogère, la première pièce peut être un axe d'un mobile et la deuxième pièce un palier. Selon une autre application dans ce domaine, les première et deuxième pièces peuvent être des dentures de roues d'engrenage. The present invention relates to a functional assembly comprising at least one part subjected on its or its so-called functional or contact surfaces to friction. The functional assembly according to the invention may comprise a single piece with two functional surfaces intended to be in contact by friction. For example, in the watchmaking field, it may be a barrel spring formed of a blade with one face of the spring intended to be in contact with another face of the spring. As a variant, the functional assembly can comprise at least two parts with each part respectively comprising a functional surface intended to be subjected to friction with a functional surface of another part. For example, in the watchmaking field, the functional assembly 1 can comprise a first part 2 which is a pallet 4 of an anchor 5 and a second part 3 which is an escape wheel 6 as represented in figure 3. More precisely, the pallet 4 has a rest plane A and an impulse plane B which cooperate with the rest planes C and impulse D of the tooth 7 of the escape wheel 6. These planes A, B, C, D are highly stressed functional surfaces subject to high levels of friction and/or contact which may require a tribological layer according to the invention to reduce friction. In another horological application, the first part can be an axis of a mobile and the second part a bearing. According to another application in this field, the first and second parts can be gear wheel teeth.

[0012] Tel que schématisé à la figure 2, l'ensemble fonctionnel 1 comporte la première pièce 2 et la deuxième pièce 3 formées d'un substrat 8 avec au moins au niveau de leur surface fonctionnelle 2a,3a la couche tribologique 9. Cette couche 9 est constituée d'une première couche de diamant 9a qui peut être du diamant ultrananocristallin (UNCD, d'après la dénomination anglaise Ultrananocrystalline Diamond), nanocristallin (NCD, d'après la dénomination anglaise Nanocrystalline Diamond) ou microcristallin (MCD, d'après la dénomination anglaise Microcrystalline Diamond). Selon l'invention, cette première couche 9a est fonctionnalisée avec un composé sulfuré, et plus spécifiquement du S et du F, qui forme une deuxième couche 9b sur la première couche 9a. Avantageusement, la première couche 9a est fonctionnalisée avec du SF6. D'autres gaz, bien que plus dangereux et d'usage plus limité, tels que le SF2 et le SF4, sont envisageables. Généralement, le S et F fonctionnalisés à la surface de la couche de diamant se présentent sous forme de bâtonnets tels que montrés à la figure 4. La deuxième couche de S et F est généralement d'épaisseur non constante et de taille nanométrique avec typiquement une épaisseur moyenne comprise entre 2 et 50 nm, plus spécifiquement entre 5 et 10 nm. Les techniques adaptées pour visualiser et analyser chimiquement la deuxième couche de S et F sont par exemple la spectrométrie photoélectronique X (en anglais, X-Ray photoelectron spectrometry : XPS) ou la spectrométrie de masse de type TOF-SIMS (en anglais, Time Of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry). On notera que la couche étant extrême fine, il peut s'avérer difficile d'identifier précisément le composé présent. On parlera donc d'une couche comprenant du S et du F. As shown schematically in Figure 2, the functional assembly 1 comprises the first part 2 and the second part 3 formed of a substrate 8 with at least at their functional surface 2a, 3a the tribological layer 9. This layer 9 consists of a first layer of diamond 9a which may be ultrananocrystalline diamond (UNCD, according to the English name Ultrananocrystalline Diamond), nanocrystalline (NCD, according to the English name Nanocrystalline Diamond) or microcrystalline (MCD, d 'after the English name Microcrystalline Diamond). According to the invention, this first layer 9a is functionalized with a sulfur compound, and more specifically S and F, which forms a second layer 9b on the first layer 9a. Advantageously, the first layer 9a is functionalized with SF6. Other gases, although more dangerous and of more limited use, such as SF2 and SF4, are possible. Generally, the functionalized S and F on the surface of the diamond layer are in the form of rods as shown in Figure 4. The second layer of S and F is generally of non-constant thickness and of nanometric size with typically a average thickness between 2 and 50 nm, more specifically between 5 and 10 nm. The techniques suitable for visualizing and chemically analyzing the second layer of S and F are, for example, X-ray photoelectron spectrometry (XPS) or TOF-SIMS type mass spectrometry (Time Of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry). It will be noted that since the layer is extremely thin, it may prove difficult to precisely identify the compound present. We will therefore speak of a layer comprising S and F.

[0013] Selon l'invention, les surfaces destinées à être mises en contact sont chacune recouvertes de la couche de diamant fonctionnalisé au S et au F. La couche 9 incluant la première couche de diamant 9a et la deuxième couche 9b de S et de F a une épaisseur moyenne comprise entre 800 nm et 1200 nm, de préférence entre 900 et 1200 nm, et ce que ce soit du diamant MCD, NCD ou encore UNCD. According to the invention, the surfaces intended to be brought into contact are each covered with the layer of diamond functionalized with S and with F. The layer 9 including the first layer of diamond 9a and the second layer 9b of S and of F has an average thickness of between 800 nm and 1200 nm, preferably between 900 and 1200 nm, and whether it is MCD, NCD or even UNCD diamond.

[0014] A titre d'exemple, les substrats pourront être choisis parmi l'ensemble des matériaux comprenant les céramiques, le silicium, le silicium oxydé, le silicium nitruré, le silicium carburé et les aciers. Il est également envisageable que le substrat et la couche de diamant forment un seul matériau massif. Selon un mode de réalisation préféré, le substrat est en silicium avec une couche de diamant microcristallin fonctionnalisé avec du S et du F. [0014] For example, the substrates may be chosen from all materials including ceramics, silicon, oxidized silicon, nitrided silicon, carburized silicon and steels. It is also possible for the substrate and the diamond layer to form a single solid material. According to a preferred embodiment, the substrate is made of silicon with a layer of microcrystalline diamond functionalized with S and F.

[0015] Le procédé de fonctionnalisation de la couche de diamant est le suivant. Au préalable, la couche de diamant est déposée par voie chimique en phase vapeur (CVD) ou par la technique des filaments chauds et ce si le substrat n'est pas en diamant massif. Ensuite, le soufre et le fluor sont déposés sous forme d'une deuxième couche ultra fine sur la couche de diamant par un procédé d'attaque par ions réactifs (RIE pour Reactive Ion Etching) à très faible puissance afin de réaliser un dépôt plutôt qu'un gravage. L'équipement 10 pour la fonctionnalisation du diamant avec le réacteur plasma 11 est schématisé à la figure 8. Il peut par exemple être du type „à couplage capacitif“. [0015] The method for functionalizing the diamond layer is as follows. Beforehand, the diamond layer is deposited by chemical vapor phase (CVD) or by the hot filament technique, if the substrate is not solid diamond. Next, the sulfur and fluorine are deposited as a second ultra-thin layer on top of the diamond layer by a very low power Reactive Ion Etching (RIE) process to achieve deposition rather than an engraving. The equipment 10 for the functionalization of the diamond with the plasma reactor 11 is schematized in FIG. 8. It can for example be of the "capacitive coupling" type.

[0016] Les paramètres du procédé sont les suivants : – Gaz réactif (12) comprenant du S et du F tel que le SF6, SF4 ou SF2, avec un débit compris entre 3 et 20 sccm (pour Standard Cubic Centimeter per Minute), soit des cm<3>· min<-1>, de préférence entre 5 et 10 sccm, – Puissance radiofréquence (RF) comprise entre 30 et 70W, de préférence entre 40 et 60W, – Pression dans le réacteur comprise entre 30 et 150 µbar, de préférence entre 80 et 120 µbar, – Temps de réaction compris entre 20 et 120 minutes, de préférence entre 30 et 70 minutes.[0016] The process parameters are as follows: – Reactive gas (12) comprising S and F such as SF6, SF4 or SF2, with a flow rate of between 3 and 20 sccm (for Standard Cubic Centimeter per Minute), i.e. cm<3> min<-1>, preferably between 5 and 10 sccm, – Radio frequency (RF) power between 30 and 70W, preferably between 40 and 60W, – Pressure in the reactor between 30 and 150 µbar, preferably between 80 and 120 µbar, – Reaction time between 20 and 120 minutes, preferably between 30 and 70 minutes.

[0017] La deuxième couche fonctionnalisée ainsi obtenue a une épaisseur très faible, de l'ordre de quelques nanomètres, même avec un temps de réaction de l'ordre de l'heure. The second functionalized layer thus obtained has a very small thickness, of the order of a few nanometers, even with a reaction time of the order of an hour.

[0018] Des essais ont été réalisés pour évaluer le comportement tribologique d'un ensemble fonctionnel selon l'invention. [0018] Tests have been carried out to evaluate the tribological behavior of a functional assembly according to the invention.

[0019] Des roues d'échappement en Si ainsi que des levées de palettes en Si ont été revêtues avec du diamant microcristallin fonctionnalisé au S et au F et plus spécifiquement au SF6. Les tests sont donc effectués avec un couple diamant fonctionnalisé sur diamant fonctionnalisé et comparé avec une ancre standard avec un contact acier lubrifié sur rubis. Des tests FEMTO-torque ont été réalisés pour mesurer le rendement d'un échappement à ancre suisse monté sur une platine de travail. Le couple appliqué était de 16 µN.m. La mesure de l'amplitude du balancier (à 3 bras) est représentée aux figures 7a et 7b respectivement pour l'ancre standard et l'ancre traitée selon l'invention. Pour l'ancre standard, l'amplitude moyenne est de 274° pour une heure de test. Pour l'ancre traitée selon l'invention, l'amplitude moyenne est de 256° pour une heure de test, soit 18° en dessous de celle de l'ancre standard. A part la défaillance temporaire à 700s, on constate que la régularité de l'amplitude est très bonne, voire meilleure que sur la version standard de référence. [0019] Si escape wheels and Si pallet lifts were coated with microcrystalline diamond functionalized with S and F and more specifically with SF6. The tests are therefore carried out with a couple of functionalized diamond on functionalized diamond and compared with a standard lever with a lubricated steel contact on a ruby. FEMTO-torque tests were carried out to measure the efficiency of a Swiss lever escapement mounted on a work plate. The torque applied was 16 μN.m. The measurement of the amplitude of the balance (with 3 arms) is represented in FIGS. 7a and 7b respectively for the standard anchor and the anchor treated according to the invention. For the standard anchor, the average amplitude is 274° for one hour of testing. For the anchor treated according to the invention, the average amplitude is 256° for one hour of testing, ie 18° below that of the standard anchor. Apart from the temporary failure at 700s, it can be seen that the regularity of the amplitude is very good, even better than on the standard reference version.

[0020] En parallèle, des tests tribologiques ont également été réalisés avec un tribomètre bille/plan avec une bille de 2 mm de diamètre pour une distance de 25 mètres et de 2500 mètres. Les essais sur 25 mètres ont été effectués avec un couple bille/plan ayant chacun un substrat en Si avec une couche de diamant fonctionnalisé au SF6 (SF6//SF6) et avec un couple comparatif bille/plan où la bille est un substrat en Si revêtu de diamant microcristallin sans fonctionnalisation et où le plan est un substrat en Si revêtu de diamant microcristallin fonctionnalisé selon l'invention (MCD//SF6). Ces essais ont pour objet de mettre en avant l'avantage de fonctionnaliser les deux surfaces en contact. Les essais ont été réalisés avec une force normale de 10 mN, une vitesse de glissement de 10 mm/s et une amplitude de 4 mm. Le coefficient de frottement dynamique en fonction de la distance est représenté aux figures 5a et 5b respectivement pour le couple comparatif et le couple selon l'invention. On constate pour le couple comparatif que le coefficient de frottement moyen est supérieur à 0.1. Il est peu stable avec de nombreux pics. Par contre, pour le couple selon l'invention, le coefficient de frottement moyen est inférieur à 0.1 et stable. Sur ce même couple selon l'invention, un test plus long sur une distance de 2500 mètres a été réalisé. Le résultat est présenté à la figure 6. Le coefficient de frottement moyen est faible et identique à celui du test court de 25 mètres. Après une petite période de rodage, le coefficient de frottement est stable sur toute la période de test. [0020] In parallel, tribological tests were also carried out with a ball/plane tribometer with a ball 2 mm in diameter for a distance of 25 meters and 2500 meters. The tests over 25 meters were carried out with a ball/plane pair each having a Si substrate with a layer of diamond functionalized with SF6 (SF6//SF6) and with a comparative ball/plane pair where the ball is an Si substrate coated with microcrystalline diamond without functionalization and where the plane is an Si substrate coated with functionalized microcrystalline diamond according to the invention (MCD//SF6). The purpose of these tests is to highlight the advantage of functionalizing the two surfaces in contact. The tests were carried out with a normal force of 10 mN, a sliding speed of 10 mm/s and an amplitude of 4 mm. The dynamic coefficient of friction as a function of distance is represented in FIGS. 5a and 5b respectively for the comparative torque and the torque according to the invention. It can be seen for the comparative couple that the average coefficient of friction is greater than 0.1. It is unstable with many peaks. On the other hand, for the couple according to the invention, the average coefficient of friction is less than 0.1 and stable. On this same pair according to the invention, a longer test over a distance of 2500 meters was carried out. The result is presented in Figure 6. The average coefficient of friction is low and identical to that of the short test of 25 meters. After a short break-in period, the coefficient of friction is stable over the entire test period.

[0021] Ainsi, les tests FEMTO-torque et les tests tribologiques confirment le très bon comportement en utilisation du couple diamant fonctionnalisé sur diamant fonctionnalisé. [0021] Thus, the FEMTO-torque tests and the tribological tests confirm the very good behavior in use of the couple functionalized diamond on functionalized diamond.

LégendeLegend

[0022] (1) Ensemble fonctionnel (2) Première pièce a) Première surface de contact, aussi dite surface fonctionnelle (3) Deuxième pièce a) Deuxième surface de contact, aussi dite surface fonctionnelle (4) Palette A. Plan de repos B. Plan d'impulsion (5) Ancre (6) Roue d'échappement (7) Dent C. Plan de repos D. Plan d'impulsion (8) Substrat (9) Couche tribologique a) Première couche comprenant du diamant b) Deuxième couche comprenant du S et du F (10) Equipement pour la fonctionnalisation (11) Réacteur (12) Gaz (13) Plasma (14) Electrodes[0022] (1) Functional assembly (2) First part a) First contact surface, also called functional surface (3) Second part a) Second contact surface, also called functional surface (4) Pallet A. Rest plane B Impulse plane (5) Anchor (6) Escape wheel (7) Tooth C. Rest plane D. Impulse plane (8) Substrate (9) Tribological layer a) First layer comprising diamond b) Second layer comprising S and F (10) Equipment for functionalization (11) Reactor (12) Gas (13) Plasma (14) Electrodes

Claims (17)

1. Ensemble fonctionnel (1) de micromécanique comprenant au moins une première pièce (2) formée d'un premier substrat (8) surmonté d'une première surface fonctionnelle (2a) destinée à venir en contact de frottement avec une deuxième surface fonctionnelle (3a), ladite deuxième surface fonctionnelle appartenant, soit à ladite première pièce (2) soit à au moins une deuxième pièce (3) formée d'un deuxième substrat surmonté de ladite deuxième surface fonctionnelle (3a), la deuxième pièce (3) constituant avec ladite première pièce (2) ledit ensemble fonctionnel (1), ledit ensemble fonctionnel (1) étant caractérisé en ce que la première surface fonctionnelle (2a) et la deuxième surface fonctionnelle (3a) sont formées d'une première couche (9a) qui est soit de matière avec le premier substrat (8) et le deuxième substrat (8) soit distincte du premier substrat (8) et du deuxième substrat (8), la première couche (9a) comprenant du diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin et étant surmontée d'une deuxième couche (9b) comportant des atomes de S et de F.1. Functional assembly (1) of micromechanics comprising at least a first part (2) formed of a first substrate (8) surmounted by a first functional surface (2a) intended to come into frictional contact with a second functional surface ( 3a), said second functional surface belonging either to said first part (2) or to at least one second part (3) formed of a second substrate surmounted by said second functional surface (3a), the second part (3) constituting with said first part (2) said functional assembly (1), said functional assembly (1) being characterized in that the first functional surface (2a) and the second functional surface (3a) are formed of a first layer (9a) which is either integral with the first substrate (8) and the second substrate (8) or distinct from the first substrate (8) and the second substrate (8), the first layer (9a) comprising ultrananocrystalline, nanocrystalline or microcrystalline diamond and being surmounted by a second layer (9b) comprising S and F atoms. 2. Ensemble fonctionnel (1) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que la deuxième couche (9b) comporte du SF6.2. Functional assembly (1) according to the preceding claim, characterized in that the second layer (9b) comprises SF6. 3. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la deuxième couche (9b) est formée de bâtonnets.3. Functional assembly (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the second layer (9b) is formed of rods. 4. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la deuxième couche (9b) a une épaisseur moyenne comprise entre 2 et 50 nm, de préférence entre 5 et 10 nm.4. Functional assembly (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the second layer (9b) has an average thickness of between 2 and 50 nm, preferably between 5 and 10 nm. 5. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la première pièce (2) est une palette (4) et en ce que la deuxième pièce (3) est une roue d'échappement (6).5. Functional assembly (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the first part (2) is a pallet (4) and in that the second part (3) is an escapement wheel (6) . 6. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que la première pièce (2) est un axe d'un mobile et en ce que la deuxième pièce (3) est un palier.6. Functional assembly (1) according to one of claims 1 to 4, characterized in that the first part (2) is an axis of a mobile and in that the second part (3) is a bearing. 7. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que la première pièce (2) et la deuxième pièce (3) sont des dentures de roues d'engrenage.7. Functional assembly (1) according to one of claims 1 to 4, characterized in that the first part (2) and the second part (3) are gear wheel teeth. 8. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que ladite deuxième surface fonctionnelle appartient à ladite première pièce (2) et en ce que la première pièce (2) est un ressort de barillet formé d'une lame et en ce qu'une face avant de ladite lame forme ladite première surface fonctionnelle et en ce que la face arrière de ladite lame forme ladite deuxième surface fonctionnelle.8. Functional assembly (1) according to one of claims 1 to 4, characterized in that said second functional surface belongs to said first part (2) and in that the first part (2) is a barrel spring formed of a blade and in that a front face of said blade forms said first functional surface and in that the rear face of said blade forms said second functional surface. 9. Ensemble fonctionnel (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le premier substrat (8) et le deuxième substrat (8) sont choisis parmi les céramiques, le silicium, le silicium oxydé, le silicium nitruré, le silicium carburé et les aciers, lorsque ladite première couche (9a) est distincte du premier substrat (8) et du deuxième substrat (8).9. Functional assembly (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the first substrate (8) and the second substrate (8) are chosen from ceramics, silicon, oxidized silicon, nitrided silicon, carburized silicon and steels, when said first layer (9a) is distinct from the first substrate (8) and from the second substrate (8). 10. Procédé de fonctionnalisation du diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin, comprenant les étapes suivantes : a) Mise à disposition d'au moins un premier substrat (8) revêtu d'une première couche (9a) dudit diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin ou mise à disposition d'au moins un premier substrat (8) en diamant ultrananocristallin, nanocristallin ou microcristallin, b) Fonctionnalisation dudit premier substrat (8) de l'étape a) dans un équipement (10) d'attaque par ions réactifs muni d'un réacteur (11) et d'électrodes (14), la fonctionnalisation étant opérée avec une puissance radiofréquence comprise entre 30 et 70W, avec comme gaz réactif (12) un composé comprenant du S et du F.10. Process for functionalizing ultrananocrystalline, nanocrystalline or microcrystalline diamond, comprising the following steps: a) Provision of at least a first substrate (8) coated with a first layer (9a) of said ultrananocrystalline, nanocrystalline or microcrystalline diamond or provision of at least a first substrate (8) made of ultrananocrystalline, nanocrystalline diamond or microcrystalline, b) Functionalization of said first substrate (8) of step a) in equipment (10) for etching by reactive ions provided with a reactor (11) and electrodes (14), the functionalization being carried out with a power radiofrequency between 30 and 70W, with as reactive gas (12) a compound comprising S and F. 11. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le composé est du SF6.11. Method according to the preceding claim, characterized in that the compound is SF6. 12. Procédé selon la revendication 10 ou 11, caractérisé en ce que la puissance radiofréquence est comprise entre 40 et 60W.12. Method according to claim 10 or 11, characterized in that the radiofrequency power is between 40 and 60W. 13. Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que la tension entre les électrodes (14) est comprise entre 130 et 170V, de préférence entre 140 et 155V.13. Method according to one of claims 10 to 12, characterized in that the voltage between the electrodes (14) is between 130 and 170V, preferably between 140 and 155V. 14. Procédé selon l'une des revendications 10 à 13, caractérisé en ce que la pression dans le réacteur (11) est comprise entre 30 et 150 µbar, de préférence entre 80 et 120 µbar.14. Method according to one of claims 10 to 13, characterized in that the pressure in the reactor (11) is between 30 and 150 µbar, preferably between 80 and 120 µbar. 15. Procédé selon l'une des revendications 10 à 14, caractérisé en ce que le débit du gaz réactif (12) dans le réacteur (11) est compris entre 3 et 20 sccm, de préférence entre 5 et 10 sccm.15. Method according to one of claims 10 to 14, characterized in that the flow rate of the reactive gas (12) in the reactor (11) is between 3 and 20 sccm, preferably between 5 and 10 sccm. 16. Procédé selon l'une des revendications 10 à 15, caractérisé en ce que le temps de fonctionnalisation du premier substrat (8) dans le réacteur (11) est compris entre 20 et 120 minutes, de préférence entre 30 et 70 minutes.16. Method according to one of claims 10 to 15, characterized in that the functionalization time of the first substrate (8) in the reactor (11) is between 20 and 120 minutes, preferably between 30 and 70 minutes. 17. Procédé selon l'une des revendications 10 à 16, caractérisé en ce que l'équipement (10) est doté d'un couplage de plasma capacitif.17. Method according to one of claims 10 to 16, characterized in that the equipment (10) is provided with a capacitive plasma coupling.
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