CH711057A2 - Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten mit einer Lochblende mit optimiertem thermischem Emissionsverhalten. - Google Patents
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Abstract
Es wird eine Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten vorgestellt, bei der zwischen einem beheizten Tiegel (3) mit einem sublimierenden Stoff (31) und dem zu beschichtende Substrat (1) eine Lochblende (2) angeordnet ist, wobei die Lochblende (2) auf der, dem Tiegel und/oder dem Substrat zugewandten Seite eine Oberflächenstruktur und/oder Beschichtung und/oder Abdeckung aufweist, welche die thermische Emission in Richtung des Tiegels (3) erhöht und/oder in Richtung des Substrates (1) reduziert.
Description
[0001] Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine verbesserte Lochblende zwischen Tiegel und Substrat für den Einsatz im CSS-Verfahren, die insbesondere bei der Herstellung von CdTe-Dünnschichtsolarzellen bzw. eines Halbzeugs dafür, zum Einsatz kommt und durch ein optimiertes thermisches Emissionsverhalten eine gleichmässigere Beschichtung des Substrates unterstützt.
[0002] Bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen nach dem Stand der Technik wird auf einem Substrat, üblicherweise Glas, eine transparente Frontkontaktschicht bzw. -schichtfolge (bspw. TCO - transparent conducting oxide) aufgebracht. Auf dieser Frontkontaktschicht wird eine Schicht aus reinem oder modifiziertem CdS (Kadmiumsulfid) abgeschieden, auf die nachfolgend die CdTe-Schicht (Kadmiumtellurid) abgeschieden wird. Abschliessend erfolgt das Aufbringen der Rückkontaktschicht bzw. -schichtfolge.
[0003] Das Aufbringen der CdS-Schicht erfolgt nach dem Stand der Technik häufig im CSS-Verfahren (Close spaced Sublimation), bei dem das Glassubstrat mit der vorbereiteten Frontkontaktschicht im Vakuum über einen Tiegel mit CdS bewegt wird. Dieser Tiegel ist beheizt und das aufzudampfende Material (CdS) verdampft (sublimiert) aus dem Tiegel und schlägt sich auf der Frontkontaktschicht des Substrates nieder, die auf einer niedrigeren Temperatur gehalten wird, als der Tiegel.
[0004] Das nachfolgende Aufbringen der CdTe-Schicht erfolgt ebenfalls bevorzugt mit dem CSS-Verfahren.
[0005] Bei der beschriebenen Vorgehensweise und auch im Folgenden werden Reinigungs-, Temper- und Versiegelungsschritte nach dem Stand der Technik als bekannt vorausgesetzt und nicht näher erläutert. Auch das Aufbringen von Antireflexions- und Schutzschichten (bspw. Rückseitenlaminat oder -glas) wird vorausgesetzt.
[0006] Bei dem CSS-Prozess der CdS-Abscheidung wird angestrebt, die CdS-Schicht möglichst dünn zu gestalten, um die Verschlechterung der optischen Eigenschaften der Solarzelle durch diese Schicht zu begrenzen. Gleichzeitig muss jedoch gewährleistet werden, dass die CdS-Schicht keine Fehlstellen (Löcher – pin holes) aufweist, durch die es zu Kurzschlüssen zwischen dem Frontkontakt und der CdTe-Schicht kommen könnte. Nach dem Stand der Technik wird zur Erfüllung dieser beiden Anforderungen eine CdS-Schichtdicke von 60 nm bis 200 nm bevorzugt.
[0007] Bei der CdTe-Abscheidung wird ebenfalls eine Schicht möglichst konstanter Dicke angestrebt. Die Schichtdicke des CdTe beträgt bevorzugt 2000 nm bis 10 000 nm, besonders bevorzugt 3000 nm bis 5000 nm.
[0008] Im grosstechnischen Einsatz erfolgt die Aufbringung der CdS- und CdTe-Schichten, indem die Substrate mit der vorbereiteten Frontkontaktschicht (die in Richtung der Tiegel zeigt) erhitzt und mit konstanter Geschwindigkeit über die Tiegelöffnung hinweggeführt werden, so dass sich CdS bzw. CdTe-Schichten gleichmässiger Dicke ausbilden. Die Substrate haben beim CSS-Verfahren eine Temperatur T1, bei der sich der aufzubringende Stoff (CdS bzw. CdTe) auf der Substratoberfläche niederschlägt. Damit der Stoff aus dem Tiegel verdampft herrscht in diesem eine Temperatur T2, bei dem der aufzubringende Stoff sublimiert. Diese Temperatur T2 ist deutlich höher als die Temperatur T1 des Substrates.
[0009] Der Prozess wird nach dem Stand der Technik in hintereinandergeschalteten, beheizten Vakuumkammern ausgeführt, durch die die Substrate auf einem Transportsystem aus Rollen, Transportbändern oder in Transportrahmen, die die Substrate an ihrer seitlichen Kante stützen, bewegt werden.
[0010] Untersuchungen haben gezeigt, dass beim CSS-Verfahren die Adsorption und die Desorption des aufgedampften Stoffes ein Gleichgewicht anstreben. Dieses ist abhängig von der Substrattemperatur (genauer der Temperatur der aufgedampften Schicht). Die exakte Regelung der Substrattemperatur ist somit zum Erreichen der angestrebten Schichtdicke essentiell.
[0011] Bei der Bewegung des Substrates über einen Tiegel steigt die Temperatur des Substrates jedoch aufgrund der thermischen Einstrahlung aus dem Tiegel stetig an. Dies kann bis zu einem Mass erfolgen, bei dem die Abscheidung des aufzubringenden Stoffes reduziert wird oder sich gar umkehrt und somit der abzuscheidende Stoff bzw. die vorhergehend abgeschiedene Stoffschicht erneut verdampft. Im aktuellen Stand der Technik muss Wärme über die Substratrückseite abgeführt werden (Kühlung). Im Ergebnis der zunehmenden Erwärmung der dem Tiegel zugewandten Substratseite entstehen variierende Temperaturen über einzelne Schichtdickenabschnitte. Es ist jedoch erforderlich, dass die gesamte Schichtabscheidung (von den ersten Nanometern bis zum letzten Mikrometer) in einem engen Temperaturbereich vollzogen wird.
[0012] Darüber hinaus muss innerhalb einer Beschichtungskampagne, d.h. vom Auffüllen eines Tiegels bis das Material in dem Tiegel völlig verdampft ist, die Tiegeltemperatur nachgeregelt werden, um eine konstante Beschichtungsrate zu gewährleisten (am Anfang z.B. 640 °C, am Ende 680 °C). Damit verbunden ist auch eine ungewünschte Änderung der Substrattemperatur im Verlauf einer Kampagne (aufgrund der veränderten Wärmeabstrahlung der Tiegel). Deshalb wird angestrebt, die thermische Kopplung zwischen Tiegel und Substrat zu verringern.
[0013] Um eine möglichst gleichmässige Verteilung des verdampften aufzubringenden Stoffes zu erreichen, sind häufig zwischen Tiegeln und Substraten Lochblenden angeordnet. Durch diese Lochblenden kann der verdampfte aufzubringende Stoff hindurchtreten, wobei die Verteilung des aufzubringenden Stoffes vergleichmässigt wird. Zur Gewährleistung eines kontinuierlichen Materialdurchtritts durch die Lochblende wird diese aktiv beheizt, um eine Kondensation von Material zu verhindern. Diese Beheizung erfolgt bevorzugt mittels einer elektrischen Widerstandsheizung, die entweder direkt oder indirekt ausgeführt wird. Bei HÄDRICH, Kapitel 4, S. 25–27 wird näheres zu den Eigenschaften der Lochblende, dem CSS-Verfahren und den ablaufenden Prozessen erläutert.
[0014] In Punkt 4.2, S. 28 führt HÄDRICH aus: «Eine wesentliche Modifikation ... ist die Verwendung eines 3 mm dicken FTO (SnO 2: F)-beschichteten Glassubstrats, auf das auch das Temperaturprofil bei der Bedampfung angepasst werden muss, um zu vermeiden, dass die CdS-Schicht durch zu lange Beheizung re-evaporiert.»
[0015] Es wird also bereits in der Literatur darauf abgehoben, dass die zu starke thermische Erwärmung des Substrates (genauer, der bereits aufgedampften Materialien) beim CSS-Verfahren problematisch ist.
[0016] Es stellt sich somit die Aufgabe, die thermische Erwärmung des Substrates über dem Tiegel beim CSS-Verfahren zu reduzieren.
[0017] Erfindungsgemäss wird die Aufgabenstellung mit der Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen der Vorrichtung sind in den rückbezogenen Unteransprüchen offenbart.
[0018] Die Lochblenden sind nach dem Stand der Technik flächig und eben ausgeführt und zwischen Tiegelöffnung und Substrat, parallel zu diesem, angeordnet. Aktuell eingesetzte Lochblenden sind aus homogenem Material gefertigt (bspw. Graphit, Molybdän). Die Dicke der Lochblenden liegt im Bereich von 3 mm bis 10 mm, vorzugsweise bei ca. 5 mm. Die Löcher sind gleichmässig oder aber nach einem, die Beschichtungshomogenität verbessernden Muster in der Lochblende verteilt. Ausführungen zur Anordnung und Abmessungen der Löcher bzw. den zu deren Auslegung notwendigen Kalkulationen finden sich ebenfalls bei HÄDRICH. Kennzeichnend ist, dass die Zahl der Löcher am Rand der Lochblende meist zunimmt, da der meiste Stoff in der Mitte des Tiegels verdampft und dies durch eine höhere Lochzahl im Randbereich kompensiert werden muss. Neben der Zahl der Löcher in der Lochblende können jedoch auch die Lochdurchmesser variiert werden. Die Lochblenden nach dem Stand der Technik weisen in alle Raumrichtungen (sowohl Richtung Substrat als auch in Richtung Tiegel) gleiche thermische Eigenschaften, insbesondere gleiche thermische Emissionseigenschaften auf.
[0019] Die erfindungsgemässe Anordnung sieht vor, die Substrate oberhalb von Lochblenden anzuordnen, die richtungsabhängige thermische Eigenschaften haben. Insbesondere sollen die Lochblenden in Richtung auf das Substrat ein geringeres thermisches Emissionsvermögen aufweisen als in Richtung auf den Tiegel. Die Lochabmessungen und -anordnungen können aus dem Stand der Technik übernommen werden.
[0020] Das unterschiedliche thermische Emissionsvermögen wird durch unterschiedliche Materialien oder aber durch unterschiedliche Materialeigenschaften (Oberflächenstruktur) auf der dem Tiegel und/oder der dem Substrat zugewandten Seite der Lochblende erreicht. Das thermische Emissionsvermögen wird als thermischer Emissionsgrad (hier: Emissionsgrad) bestimmt. Die Messung des thermischen Emissionsgrades erfolgt mit Methoden nach dem Stand der Technik. So werden bspw. Strahlungsthermometer (Thermosäulen), Bolometer oder Quantendetektoren eingesetzt.
[0021] In einer ersten bevorzugten Ausführungsform weist die Seite der Lochblende, die dem Tiegel zugewandt ist, eine aufgeraute Oberflächenstruktur auf, während die dem Substrat zugewandte Seite glatt oder sogar poliert ist. Die Aufrauhung kann bspw. durch Sandstrahlen erzeugt werden.
[0022] In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die Seite der Lochblende, die dem Tiegel zugewandt ist, mit einem Material beschichtet, das einen höheren Emissionsgrad aufweist, als das Lochblendenmaterial.
[0023] In noch einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die Seite der Lochblende, die dem Substrat zugewandt ist, mit einem Material beschichtet, das einen niedrigeren Emissionsgrad aufweist, als das Lochblendenmaterial.
[0024] Ein weitere bevorzugte Ausführungsform sieht vor, dass die Seite der Lochblende, die dem Tiegel zugewandt ist, mit einem Material beschichtet wird, das einen höheren Emissionsgrad aufweist und die Seite der Lochblende, die dem Substrat zugewandt ist, mit einem Material beschichtet wird, das einen niedrigeren Emissionsgrad aufweist als das Lochblendenmaterial.
[0025] Bevorzugte Ausführungsformen sehen vor, dass die Lochblende mehrschichtig, vorzugsweise zweischichtig oder dreischichtig, hergestellt ist, wobei das Material mit dem geringeren Emissionsgrad dem Substrat zugewandt ist. Vorteilhafte Weiterbildungen weisen zur Reduzierung des Wärmedurchganges durch die Lochblende einen Freiraum zwischen mindestens zwei dieser Schichten oder aber die Anordnung von wärmedämmendem Material zwischen mindestens zwei dieser Schichten auf.
[0026] Die oben genannten Massnahmen zur Erhöhung des thermischen Emissionsgrads auf der Tiegelseite können mit Massnahmen zur Senkung des thermischen Emissionsgrads auf der Substratseite je nach technischer Anforderung kombiniert werden bzw. umgekehrt.
[0027] Die Daten zu den thermischen Emissionsgraden sind den öffentlich zugänglichen Nachschlagewerken und Datenbanken zu entnehmen. Ebenso sind die Messmethoden im Stand der Technik dokumentiert.
[0028] Die Lochblende besteht in einer bevorzugten Ausführungsform aus Graphit mit einer Materialdicke, die vorzugsweise im Bereich von 3 mm bis 10 mm, besonders bevorzugt, von 4 mm bis 8 mm und ganz besonders bevorzugt von 5 mm bis 7 mm liegt.
[0029] Beschichtungen mit Materialien, die Emissionsgrade aufweisen, die von dem des Materials der Lochblende abweichen, liegen bevorzugt im Dickenbereich von 100 nm bis 0,1 mm, besonders bevorzugt im Bereich von 150 nm und 50 um und ganz besonders bevorzugt im Bereich von 300 nm bis 10 um. Die Beschichtung kann in Richtung auf den Tiegel als Schwärzung (SiC, Graphit) ausgeführt sein. Die Beschichtung kann in Richtung auf das Substrat als Aufhellung (Al2O3) oder Verspiegelung ausgeführt sein. Geeignete Materialien für die Beschichtungen verunreinigen den Prozess nicht. Sie sind häufig oxidische oder keramische Materialien mit natürlicher Rauheit. Derartige Materialien sind bevorzugt: Al2O3, SiC oder pyrolytischer Graphit.
[0030] In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform, ist die Lochblende aus Graphit der oben genannten Materialdicke ausgeführt und in Richtung des Substrates mit einem flächig aufliegenden und zur Lochblende korrespondierende Öffnungen aufweisenden Blech versehen. Das Blech besteht vorzugsweise aus Molybdän und weist dabei bevorzugt eine Dicke von 0,05 mm bis 1,5 mm, besonders bevorzugt von 0,075 bis 1,25 mm und ganz besonders bevorzugt von 0,1 mm bis 1 mm auf. In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Öffnungen des Blechs grösser als die der Lochblende. So wird vorteilhaft ein Zuwachsen der Öffnungen durch sich auf dem Blech niederschlagendes Beschichtungsmaterial verhindert. Weiterhin bevorzugt ist dazu das Beheizen des Blechs (direkt oder indirekt). In einer weiterhin bevorzugten Ausführungsform besteht zwischen der Lochblende und dem Blech ein Freiraum (1 mm bis 3 mm), wobei die Lochblende und/oder das Blech lokale Abstandshalter aufweisen, die für einen konstanten Abstand von Lochblende und Blech sorgen. Eine vorzugsweise eingesetzte Ausführungsform sieht die Abstandshalter als Umrandungen um die Öffnungen vor. Vorteilhaft hierbei ist insbesondere, dass um die Öffnungen ein wärmeleitender Kontakt gewährleistet ist, der die Temperatur des Bleches, insbesondere im Bereich der Öffnungen, der der Lochblende annähert. Dies trägt dazu bei, Ablagerungen von Beschichtungsmaterial im Öffnungsbereich des Bleches zu vermeiden. Eine Weiterentwicklung dieser Ausführungsform weist ein Wärmedämmmaterial im Freiraum aus. Als Wärmedämmmaterial können bspw. Kohle- oder Glasfasern eingesetzt werden. Die so ausgebildete mehrschichtige Lochblende weist einen vorteilhaft reduzierten Wärmedurchgang auf.
Figuren
[0031]
<tb>Fig. 1<SEP>zeigt schematisch die Anordnung einer Ausführungsform der erfindungsgemässen Lochblende über dem Tiegel (3) mit granuliertem zu verdampfendem Stoff (31). Die Lochblende (2) besteht hier aus der eigentlichen Lochblende (2) und dem über dieser angeordneten Blech (21), das von der eigentlichen Lochblende (2) durch eine Abstand (22) getrennt ist. Oberhalb der Lochblende (2) ist der in seiner räumlichen Verteilung vergleichmässigte verdampfte Stoff (33) dargestellt. Dieser schlägt sich anschliessend auf der Unterseite des kontinuierlich mit der Geschwindigkeit (11) bewegten Substrats (1) nieder.
<tb>Fig. 2a<SEP>zeigt schematisch eine erfindungsgemässe Lochblende (2) mit einer Beschichtung (24) auf der dem Substrat zugewandten Seite, die einen geringeren thermischem Emissionsgrad aufweist, als die dem Tiegel zugewandte unbeschichtete Seite der Lochblende (2).
<tb>Fig. 2b<SEP>zeigt schematisch eine erfindungsgemässe Lochblende (2) mit einer Beschichtung (25) auf der dem Tiegel zugewandten Seite, die einen höheren thermischem Emissionsgrad aufweist, als die dem Substrat zugewandte unbeschichtete Seite der Lochblende (2).
<tb>Fig. 2c<SEP>zeigt schematisch eine erfindungsgemässe Lochblende (2) mit einer Beschichtung (24) auf der dem Substrat zugewandten und einer Beschichtung (25) auf der dem Tiegel zugewandten Seite. Die Beschichtung auf der dem Substrat (24) zugewandten Seite weist einen geringeren thermischen Emissionsgrad auf, als das unbeschichtete Material der Lochblende (2), während die Beschichtung (25) auf der dem Tiegel zugewandten Seite einen höheren thermischen Emissionsgrad aufweist, als das unbeschichtete Material der Lochblende (2).
Ausführungsbeispiel
[0032] Ein Substrat (1) mit den Abmessungen (1600 mm x 1200 mm x 3,2 mm) wird mit einer Schicht aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) einer Dicke von 250 nm als transparenter Frontkontaktschicht beschichtet.
[0033] Anschliessend wird das Substrat (1) mit der nach unten gerichteten Frontkontaktschicht in eine Abfolge von Vakuumkammern oder aber eine durchgehende Vakuumkammer mit verschiedenen Abschnitten eingeschleust. Das Substrat wird in der ersten Vakuumkammer (dem ersten Abschnitt) auf eine Temperatur von 500 °C erhitzt. Dies erfolgt mittels geeigneter Heizvorrichtungen, während das Substrat (1), auf einer Transportvorrichtung (nicht dargestellt) ruhend, von dieser durch die erste Vakuumkammer (bzw. den ersten Abschnitt der Vakuumkammer) bewegt wird. Das Substrat erreicht die folgende Vakuumkammer (bzw. den folgenden Abschnitt) und wird weiterhin von der Transportvorrichtung (Bewegungsgeschwindigkeit 1,5 m/min) mit einem Abstand von 0,5 cm über einen Tiegel (3) mit granulierten CdS (31) bewegt. Der Tiegel (3) reicht über die gesamte Breite (senkrecht zur Transportrichtung (11)) des Substrates (1) und erstreckt sich in Transportrichtung (11) über eine Länge von 17 cm. Das CdS (31) im Tiegel (3) ist auf 620 °C erhitzt und sublimiert. Die aufsteigenden Gase (32) treten durch eine Lochblende (22) einer Dicke von 6 mm und schlagen sich auf der Frontkontaktschicht des Substrates (1) nieder. Beim Durchtritt des aufsteigenden gasförmigen CdS (32) durch die Öffnungen (23) der Lochblende (2) wird dieses in seiner räumlichen Verteilung oberhalb der Lochblende (2) vergleichmässigt. Die Lochblende (2) besteht aus Graphit einer Materialdicke von 5 mm und weist kreisrunde Öffnungen (23) eines Durchmessers von 3 mm auf. Auf der tiegelzugewandten Seite ist die Lochblende (2) aufgeraut. Die substratzugewandte Seite weist ein Molybdänblech (21) von 1 mm mit zu der Lochblende (2) korrespondierenden Öffnungen auf. Aufgrund des Molybdänbleches (21) strahlt die erhitzte Lochblende 2 nicht direkt auf das Substrat (1) ab. Das zwischen Lochblende (2) und Substrat (1) befindliche Molybdänblech (21) schirmt das Substrat ab. Da die Unterseite der Lochblende (2) aufgeraut ist, erfolgt eine bevorzugte Abstrahlung der Hitze der Lochblende 2 zurück in Richtung Tiegel (3). Die Oberseite der Graphitanteils der Lochblende (2) ist glatt und gibt bereits so weniger Wärme an das darüber angeordnete Molybdänblech (21) weiter.
[0034] Im Rahmen der regelmässigen Auffüllung des CdS-Granulates in den Tiegeln wird auch die abnehmbar auf den Tiegeln aufliegende Lochblende (2) gereinigt und von Abscheidungen befreit.
[0035] Wenn das Substrat (1) den Tiegel (3) passiert hat, weist die Frontkontaktschicht eine vollständige (ausser an den Auflagestellen), homogene Schicht von CdS (nicht dargestellt) mit einer Dicke von 65 nm auf. Nach dem Aufbringen dieser CdS-Schicht erfolgt die Weiterverarbeitung des Substrates (1) nach dem Stand der Technik. Dazu wird das Substrat (1) bei 500 °C in die nachfolgenden Behandlungskammern transportiert. So wird nunmehr, ebenfalls im CSS-Verfahren und unter Einsatz einer erfindungsgemässen Lochblende (2), die CdTe-Schicht mit einer Dicke von 5000 nm aufgebracht. Danach erfolgt die Aufbringung der Rückkontaktschicht bzw. -schichten mit Verfahren nach dem Stand der Technik. Die Rückkontaktschicht besteht hier aus einer Schichtfolge von Anpassungsschicht und eigentlicher Kontaktschicht. Hier wird eine Anpassungsschicht aus Te (50 nm) durch NP-Ätzen der CdTe Schicht ausgebildet, auf die nachfolgend die Mo-Schicht (250 nm) als eigentliche Kontaktschicht abgeschieden wird.
[0036] Abschliessend erfolgen die weiteren Verarbeitungsschritte nach dem Stand der Technik.
Zitierte Nichtpatentliteratur
[0037] Mathias HÄDRICH, «Materialwissenschaftliche Untersuchungen an CdTe-CdS-Heterosolarzellen» Dissertation, Friedrich-Schiller-Universität Jena, 2009, http://www.db-thueringen.de/servlets/DerivateServlet/Derivate-18406/H%C3%A4drich/Dissertation.pdf (Link Stand 26.11.2013)
Bezugszeichen
[0038]
<tb>1<SEP>Substrat (Glas)
<tb>11<SEP>Bewegungsrichtung des Substrates
<tb>2<SEP>Lochblende
<tb>21<SEP>Blech
<tb>22<SEP>Abstand zwischen Lochblende und Blech
<tb>23<SEP>Öffnung in der Lochblende
<tb>24<SEP>Beschichtung auf der Substratseite der Lochblende
<tb>25<SEP>Beschichtung auf der Tiegelseite der Lochblende
<tb>3<SEP>Tiegel
<tb>31<SEP>Granulat des aufzudampfenden Stoffes
<tb>32<SEP>sublimierter aufzudampfender Stoff vom Granulat aufsteigend
<tb>33<SEP>sublimierter aufzudampfender Stoff nach dem Durchtritt durch die Lochblende
Claims (10)
1. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten, aufweisend einen beheizten Tiegel mit einem sublimierenden Stoff und einer Öffnung, die zu einem vor dieser Öffnung angeordneten oder einem an dieser Öffnung vorbeigeführten zu beschichtenden Substrat gerichtet ist, wobei zwischen Substrat und Tiegelöffnung und die gesamte Tiegelöffnung bedeckend, eine Lochblende mit Öffnungen angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Lochblende auf der dem Tiegel und/oder dem Substrat zugewandten Seite eine Oberflächenstruktur und/oder Beschichtung und/oder Abdeckung aufweist, welche die thermische Emission in Richtung des Tiegels erhöht und/oder in Richtung des Substrates, im Vergleich zu einer Lochblende ohne Oberflächenstruktur und/oder Beschichtung und/oder Abdeckung, reduziert.
2. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur in einer aufgerauten Oberfläche der dem Tiegel zugewandten Seite der Lochblende besteht.
3. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung in einer geschwärzten Oberfläche der dem Tiegel zugewandten Seite der Lochblende besteht.
4. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abdeckung in der Anordnung eines Abdeckbleches mit zur Lochblende korrespondierenden Öffnungen auf der dem Tiegel zugewandten Seite der Lochblende besteht.
5. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur in einer polierten Oberfläche der dem Substrat zugewandten Seite der Lochblende besteht.
6. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung in einer hellen mit Al2O3oder einer Verspiegelung der dem Substrat zugewandten Seite der Lochblende besteht.
7. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Abdeckung in der Anordnung eines Abdeckbleches mit zur Lochblende korrespondierenden Öffnungen auf der dem Substrat zugewandten Seite der Lochblende besteht.
8. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 4 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Abdeckung und Lochblende ein Freiraum besteht.
9. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Freiraum mit wärmedämmendem Material gefüllt ist, wobei die Bereiche der Öffnungen und Lochblende und Abdeckung frei bleiben.
10. Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das wärmedämmende Material Kohlefaser oder Glasfaser ist.
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---|---|---|---|
CH00652/15A CH711057A2 (de) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten mit einer Lochblende mit optimiertem thermischem Emissionsverhalten. |
Applications Claiming Priority (1)
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CH00652/15A CH711057A2 (de) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten mit einer Lochblende mit optimiertem thermischem Emissionsverhalten. |
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CH711057A2 true CH711057A2 (de) | 2016-11-15 |
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ID=57249972
Family Applications (1)
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CH00652/15A CH711057A2 (de) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | Anordnung zur CSS-Beschichtung von Substraten mit einer Lochblende mit optimiertem thermischem Emissionsverhalten. |
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Country | Link |
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CH (1) | CH711057A2 (de) |
-
2015
- 2015-05-11 CH CH00652/15A patent/CH711057A2/de unknown
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