CH683766A5 - Vibratory conveyor with baffle for turning workpieces - has downwards-projecting cylinder on bracket engaging ends of workpieces - Google Patents

Vibratory conveyor with baffle for turning workpieces - has downwards-projecting cylinder on bracket engaging ends of workpieces Download PDF

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CH683766A5
CH683766A5 CH211191A CH211191A CH683766A5 CH 683766 A5 CH683766 A5 CH 683766A5 CH 211191 A CH211191 A CH 211191A CH 211191 A CH211191 A CH 211191A CH 683766 A5 CH683766 A5 CH 683766A5
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CH
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mass parts
rail
baffle
mass
baffles
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Andreas Peiker
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Andreas Peiker
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Abstract

The baffle device is used for turning workpieces (7) moving along a vibratory conveyor. The conveyor may consist of a shelf (4) winding in a shallow ascending spiral round the inside of the wall (5) of a vertical cylinder. The shelf may slope gently toward the wall of the cylinder to keep the workpieces from falling off the edge. The baffle consists of an arm extending from the wall with a cylindrical portion (6) extending downwards to engage the rectangular parts (8) of the workpieces. The cylindrical portion stops short of projections (9a,b) at the ends of the workpieces. It engages each workpiece end closer to the wall than the centre of gravity of the workpiece. USE/ADVANTAGE - Vibratory conveyor with baffle device for turning workpieces.

Description

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CH 683 766 A5 CH 683 766 A5

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Beschreibung description

Technisches Gebiet Technical field

Die Erfindung bezieht sich auf eine Schikanen-einbaute für einen Rüttelförderer zum Erzeugen eines Stroms ausgerichteter und/oder geordneter Massenteile. Die Erfindung bezieht sich auch auf einen Rüttelförderer mit einer solchen Schikanen-einbaute, auf ein Verfahren und auf die Verwendung einer solchen Schikaneneinbaute. The invention relates to a baffle-built for a vibrating conveyor for generating a stream of aligned and / or ordered mass parts. The invention also relates to a vibrating conveyor with such a baffle built-in, to a method and to the use of such a baffle built-in.

Stand der Technik State of the art

Überall, wo im Schüttgut angelieferte Massenteile Stück für Stück in einer bestimmten Orientierung und in einer vorgegebenen Zeit einem Magazin, einer Maschine oder einer Montageeinrichtung zugeführt werden müssen, können sogenannte Rüttelförderer zum Einsatz gebracht werden. Solche Sortiermaschinen sind seit langem bekannt und werden z.B. von der Firma AEG Aktiengesellschaft Vibrationstechnik, Goldsteinstrasse 238, D-6000 Frankfurt (Main) 71, zum Verkauf angeboten. Sie bestehen im Prinzip aus einem zylindrischen oder kegelförmigen Teilefördererkopf, der auf einem Vibrationsgerät befestigt ist. Entlang der zylindrischen resp. kegelförmigen Aussenwand ist eine Wendelbahn nach oben geführt. Die Wendelbahn ist mit ganz bestimmten, auf die zu sortierenden Massenteile ausgerichteten Schikanen ausgestattet. Die Teile, die ungeordnet auf dem Boden des Topfs liegen, wandern unter Wirkung der Vibrationsbewegung auf der Wendelbahn aufwärts. Durch die Schikanen werden aus den zunächst ungeordnet geförderten Teilen die mit der gewünschten Orientierung ausgesucht. Die nicht ausgewählten Teile werden eliminiert, d.h. sie fallen in den Topf zurück. Am Ende der Wendelbahn haben dann alle Massenteile die gleiche Orientierung. So-called vibratory conveyors can be used wherever bulk parts delivered in bulk have to be fed piece by piece in a certain orientation and in a given time to a magazine, a machine or an assembly device. Such sorting machines have been known for a long time and are e.g. offered for sale by the company AEG Aktiengesellschaft Vibrationstechnik, Goldsteinstrasse 238, D-6000 Frankfurt (Main) 71. They basically consist of a cylindrical or conical part conveyor head, which is attached to a vibration device. Along the cylindrical, respectively. conical outer wall is a spiral track led upwards. The spiral track is equipped with very specific baffles that are aligned with the mass parts to be sorted. The parts that are disordered on the bottom of the pot move upwards under the action of the vibration movement on the spiral track. The baffles are used to select the parts with the desired orientation from the initially disorganized parts. The unselected parts are eliminated, i.e. they fall back into the pot. At the end of the spiral track, all parts of the mass have the same orientation.

Ein typisches Anwendungsgebiet für solche Rüttelförderer ist das Sortieren und Ausrichten von Schrauben. Entsprechend gibt es eine grosse Zahl verschiedenster Schikanen für diese Anwendung. A typical area of application for such vibratory conveyors is the sorting and alignment of screws. Accordingly, there is a large number of different baffles for this application.

Darstellung der Erfindung Presentation of the invention

Aufgabe der Erfindung ist es, weitere Schikaneneinbauten der eingangs genannten Art anzugeben, die sich insbesondere zum Ausrichten und Sortieren von quaderförmigen Massenteilen wie z.B. Halbleiterbauteilen eignen. The object of the invention is to provide further baffle internals of the type mentioned, which are particularly suitable for aligning and sorting cuboid mass parts, such as Semiconductor components are suitable.

Im besonderen ist es auch Aufgabe der Erfindung, eine Sortiereinrichtung für einen Rüttelförderer anzugeben, der sich zum Sortieren von als Schüttgut angelieferten SMD-Bauteilen (SMD = Surface Mounted Device) eignet. In particular, it is also an object of the invention to provide a sorting device for a vibrating conveyor which is suitable for sorting SMD components (SMD = Surface Mounted Device) delivered as bulk goods.

Gemäss der Erfindung zeichnet sich eine Schikaneneinbaute der genannten Art durch ein vorspringendes Element aus, das so in einen Bewegungsraum der auf einer Transportbahn geförderten Massenteile hineinragt, dass zumindest gewisse der ankommenden Massenteile am genannten Element in einem seitlich ausserhalb einer ungestörten Bewegungsbahn des Schwerpunkts des jeweiligen According to the invention, a baffle installation of the type mentioned is characterized by a projecting element which projects into a movement space of the mass parts conveyed on a transport path in such a way that at least some of the arriving mass parts on the element mentioned move laterally outside an undisturbed movement path of the center of gravity of the respective one

Massenteils liegenden Kontaktpunkt mit ihrer Oberfläche anstossen und in Folge dessen unter der andauernden Wirkung der Förderkraft vorzugsweise um 90° gedreht werden. Bump the contact point lying in the mass with its surface and, as a result, preferably be rotated by 90 ° under the continuous effect of the conveying force.

Gemäss der Erfindung werden somit zumindest all jene Massenteile gedreht, die in einer bestimmten Weise orientiert ankommen. Diejenigen Teile, die die gewünschte Orientierung nicht haben, werden z.B. nicht gedreht oder in eine für die nachfolgende Schikane eindeutig falsche Orientierung resp. Position gebracht. According to the invention, at least all those parts of the mass that arrive oriented in a certain way are thus rotated. Those parts that do not have the desired orientation are e.g. not rotated or in a clearly wrong orientation for the subsequent chicane resp. Position.

Je nach dem, wie stark das Element in den Bewegungsraum des jeweiligen Massenteils hineinragt, wird dieses mehr oder weniger gedreht. Vorzugsweise wird das Element so bemessen, dass das Massenteil jeweils eine 90° Rotation durchführt. Depending on how much the element protrudes into the movement space of the respective mass part, this is rotated more or less. The element is preferably dimensioned such that the mass part performs a 90 ° rotation in each case.

Damit das Massenteil die gewünschte Rotation auch durchführt und nicht vorzeitig vom vorspringenden Element abgleitet, empfiehlt es sich, das genannte Element im Bereich des Kontaktpunktes mit einer um eine vertikale Achse gekrümmte Oberfläche zu versehen, auf welcher sich der Kontaktpunkt zwischen Massenteil und Element während der Drehung fortbewegt. Im Bereich des ersten Kontaktpunktes, d.h. dort, wo das ankommende Massenteil das Element erstmals berührt, sollte die Tangentialebene an die Oberfläche des Elements möglichst steil (z.B. unter einem Winkel von mehr als 45°), vorzugsweise aber im wesentlichen senkrecht zur ungestörten Bewegungsbahn des Massenteils stehen. Auf diese Weise kann die Drehbewegung zuverlässig eingeleitet werden. Nicht im Sinne der Erfindung ist es, wenn die Tangentialebene im ersten Kontaktpunkt so schwach gegenüber der Vorwärtsrichtung geneigt ist, dass sogar die zu drehenden Massenteile nur noch entlang der Oberfläche des Elements gleiten, ohne das erfindungsge-mässe Drehmoment zu erfahren. So that the mass part also performs the desired rotation and does not slide off prematurely from the projecting element, it is advisable to provide the element mentioned in the area of the contact point with a surface curved around a vertical axis, on which the contact point between the mass part and element is located during the rotation moved. In the area of the first contact point, i.e. where the incoming mass part touches the element for the first time, the tangential plane to the surface of the element should be as steep as possible (e.g. at an angle of more than 45 °), but preferably essentially perpendicular to the undisturbed path of movement of the mass part. In this way, the rotary movement can be initiated reliably. It is not in the sense of the invention if the tangential plane in the first contact point is inclined so weakly with respect to the forward direction that even the mass parts to be rotated only slide along the surface of the element without experiencing the torque according to the invention.

Vorzugsweise ist die Oberfläche des Elements im Bereich des Kontaktpunkts zylinderförmig gekrümmt, wobei die Krümmungsachse der Oberfläche seitlich gegenüber der Bewegungsbahn des Schwerpunkts des Massenteils versetzt ist. Das Element kann dabei ganz oder nur segmentartig zy-linder- oder zapfenförmig ausgebildet sein. The surface of the element is preferably curved in a cylindrical manner in the region of the contact point, the axis of curvature of the surface being offset laterally with respect to the movement path of the center of gravity of the mass part. The element can be completely or only segment-like cylindrical or peg-shaped.

Zum Ausrichten resp. Ordnen von im wesentlichen quaderförmigen Massenteilen mit jeweils bezüglich einer Mittelebene zwischen Rücken- und Bauchfläche des Quaders asymmetrisch angeordneten und seitlich nach aussen abstehenden beinartigen Fortsätzen verfügt die erfindungsgemässe Schikaneneinbaute über einen unter resp. über der Mittelebene des ankommenden Massenteils angeordneten Freiraum, in den die Beine des Massenteiis nur dann zu liegen kommen, wenn das Massenteil in einer bestimmten Lage angefördert wird und mit seinem quaderförmigen Körper im Kontaktpunkt am vorstehenden Element anstösst, so dass nur die korrekt ankommenden Massenteile mit dem richtigen Radius um das vorspringende Element herumgedreht werden und durch weitere, nachfolgende Schikanen ausgewählt werden können. Wenn also das Massenteil (z.B. Halbleiterbauteil) in unerwünschter Lage ankommt, dann stösst es z.B. mit einem Bein am vorspringenden Element an und To align or To arrange essentially cuboid mass parts, each with asymmetrical arrangement with respect to a central plane between the back and abdominal surface of the cuboid and leg-like extensions projecting laterally outwards, the baffle installation according to the invention has an under or Above the median plane of the incoming mass part, the free space in which the legs of the mass part come to rest only when the mass part is conveyed in a certain position and with its cuboid body abuts the protruding element in the contact point, so that only the correctly arriving mass parts the correct radius around the protruding element and can be selected by subsequent chicanes. So if the mass part (e.g. semiconductor component) arrives in an undesired position, then it bumps e.g. with one leg on the projecting element and

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wird in Folge dessen mit einem viel zu grossen Radius gedreht. Nach der Schikane liegt es also gegenüber dem korrekt orientierten Massenteil seitlich versetzt und kann ohne Probleme eliminiert werden. is consequently rotated with a much too large radius. According to the chicane, it is laterally offset from the correctly oriented mass part and can be eliminated without any problems.

Je nach dem, ob die gewünschte Lage die Rük-ken- oder Bauchlage des Halbleiterbauelements sein soll, ragt das vorspringende Element von unten herauf oder von oben herab in den Bewegungsraum hinein. Depending on whether the desired position should be the back position or the prone position of the semiconductor component, the projecting element projects upwards or downwards into the movement space.

Wenn das im wesentlichen quaderförmige Massenteil auf einer seiner Flächen eine rinnenförmige Ausnehmung resp. Vertiefung mit einem bestimmten Profil hat, dann lässt sich die Schikane zum Drehen der Massenteile vorzugsweise mit einer weiteren, zweiten Schikane kombinieren, die als längliche Schiene ausgebildet ist und auf der die korrekt durch die erste Schikane gedrehten Massenteile auf dem formschlüssig angepassten Schienenprofil reitend gefördert werden. If the substantially cuboid mass part on one of its surfaces, a groove-shaped recess. Has a recess with a certain profile, then the chicane for rotating the mass parts can preferably be combined with another, second chicane, which is designed as an elongated rail and on which the mass parts correctly rotated by the first chicane are conveyed riding on the positively adapted rail profile .

Um die nicht auf der Schiene richtig, d.h. rittlings geförderten Bauteile zu eliminieren, kann die Schiene auf beiden Seiten abschüssig und/oder verengt ausgeführt sein, so dass die unerwünschten Massenteile wieder in den Topf zurückfallen. In order not to get them on the rail correctly, i.e. To eliminate astride components, the rail can be sloping and / or narrow on both sides, so that the unwanted mass parts fall back into the pot.

Um den an der ersten Schikane sich in erwünschten Weise drehenden Massenteile das Aufsitzen auf die Maschine zu erleichtern, ist die Schiene vorzugsweise an ihrem der ersten Schikaneneinbaute zugewandten Ende entsprechend dem Radius der korrekt drehenden Massenteile gekrümmt und somit entsprechend besser sortiert werden. In order to make it easier for the mass parts rotating on the first baffle to sit on the machine, the rail is preferably curved at its end facing the first baffles in accordance with the radius of the correctly rotating mass parts and thus better sorted accordingly.

Vorzugsweise wird der drehenden Schikane eine dritte, die Massenteile vereinzelnde und/oder in Längsrichtung orientierende Schikane vorgeschaltet. Auf diese Weise wird gewährleistet, dass ein sich drehendes Massenteil nicht durch ein auf gleicher Höhe sich fortbewegendes Massenteil gestört wird. Wenn die dritte Schikane eine Längsausrichtung durchführt, dann können die quaderförmigen Bauteile nur noch in vier verschiedenen Lagen an der drehenden Schikane ankommen. Preferably, the rotating chicane is preceded by a third chicane separating the mass parts and / or orienting in the longitudinal direction. This ensures that a rotating mass part is not disturbed by a mass part moving at the same height. If the third chicane performs a longitudinal alignment, then the cuboid components can only arrive at the rotating chicane in four different positions.

Um z.B. geschädigte Halbleiterbauteile nach der schienenförmigen Schikane zu eliminieren, kann am Ende eine Profilpassform vorgesehen sein, die z.B. Bauteile mit verbogenen Beinen eliminieren kann. To e.g. To eliminate damaged semiconductor components after the rail-shaped chicane, a profile fit can be provided at the end, which e.g. Eliminate components with bent legs.

Gemäss der Erfindung werden Massenteile, die auf einer Bauchseite eine rinnenförmige Ausnehmung mit einem vorgegebenen Profil aufweisen, unter Verwendung eines Rüttelförderers im wesentlichen in zwei Schritten sortiert. Im ersten Schritt werden die Massenteile mittels eines vorspringenden Elements im wesentlichen um 90° gedreht. In einem nachfolgenden zweiten Schritt werden mit einer länglichen Schiene, deren Schienenprofil an die Ausnehmung angepasst ist, diejenigen Massenteile aussortiert, deren rinnenförmige Ausnehmung parallel zur Förderrichtung ausgerichtet ist. All diejenigen Massenteile, die nicht rittlings auf der Schiene gefördert werden, werden eliminiert. According to the invention, mass parts which have a trough-shaped recess on a belly side with a predetermined profile are sorted essentially in two steps using a vibrating conveyor. In the first step, the mass parts are rotated essentially by 90 ° by means of a projecting element. In a subsequent second step, an elongated rail, the rail profile of which is adapted to the recess, is used to sort out those mass parts whose channel-shaped recess is aligned parallel to the conveying direction. All parts of the mass that are not straddled by the rail are eliminated.

Die Massenteile werden vorzugsweise mit einer geeigneten Schikane vorgängig vereinzelt. Zum Schluss werden Sie in vorteilhafter Weise einem Profiltest unterzogen. The mass parts are preferably separated beforehand with a suitable chicane. Finally, you will be advantageously subjected to a profile test.

Massenteile, deren Ausnehmung parallel zu einer Mass parts, the recess parallel to one

Kurzseite ihres quaderförmigen Körpers ist, werden zunächst in Längsrichtung ausgerichtet, so dass sie beim Drehen um 90° sich auf der Schiene rittlings fortbewegen können. The short side of their cuboid body is initially aligned in the longitudinal direction so that they can move astride the rail when they are turned by 90 °.

Das Verfahren resp. die Schikaneneinbaute eignen sich insbesondere zum Sortieren von SMD-Di-oden vom Typ BP 104 BS. The procedure resp. the baffles are particularly suitable for sorting SMD diodes of the type BP 104 BS.

Aus der nachfolgenden Beschreibung und den Patentansprüchen ergeben sich weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung. Further advantageous embodiments of the invention result from the following description and the patent claims.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen Brief description of the drawings

Nachfolgend soll die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen: The invention will be explained in more detail below on the basis of exemplary embodiments and in connection with the drawings. Show it:

Fig. 1a, 1b eine schematische Darstellung eines Rüttelförderers im Querschnitt und in der Draufsicht; Fig. 1a, 1b is a schematic representation of a vibrating conveyor in cross section and in plan view;

Fig. 2a, 2b eine erfindungsgemässe Schikane zum Drehen von Massenteilen; 2a, 2b a chicane according to the invention for rotating mass parts;

Fig. 3 eine Veranschaulichung der durch die unterschiedlichen Lagen hervorgerufenen unterschiedlichen Drehradien; 3 is an illustration of the different turning radii caused by the different positions;

Fig. 4 einen Schnitt durch eine erfindungsgemässe schienenförmige Schikane mit einem rittlings aufsitzenden Halbleiterbauteil; 4 shows a section through a rail-shaped baffle according to the invention with an astride semiconductor component;

Fig. 5 eine Darstellung der aus zwei Schikaneneinbauten bestehenden Kombination; 5 shows a representation of the combination consisting of two baffles;

Fig. 6 eine Profilpassform zum Überprüfen der Lage und Unversehrtheit der geordneten Bauteile; und 6 shows a profile fit for checking the position and integrity of the ordered components; and

Fig. 7 eine schematische Darstellung einer besonders bevorzugten Kombination von Schikanen zum Sortieren von Halbleiterbauteilen. 7 shows a schematic illustration of a particularly preferred combination of chicanes for sorting semiconductor components.

In den Figuren sind grundsätzlich gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen versehen. In the figures, the same parts are basically provided with the same reference numerals.

Wege zur Ausführung der Erfindung Ways of Carrying Out the Invention

Fig. 1a, 1b zeigt einen an sich bekannten Rüttelförderer. Er besteht im wesentlichen aus einem z.B. zylinderförmigen Topf 1, welcher auf einen Vibrator 2 aufgesetzt ist. Der Topf 1 weist einen Boden 3 auf, der gegen die Mitte vorzugsweise kegelförmig ansteigt. Auf der Innenseite einer Aussenwand 5 windet sich eine Förderbahn 4 schneckenförmig nach oben. Die Förderbahn hat eine bestimmte Breite d und ist seitlich gegen die Aussenwand 5 leicht geneigt, so dass sie als eine Art Führungsrinne wirkt. 1a, 1b shows a vibratory conveyor known per se. It essentially consists of e.g. cylindrical pot 1, which is placed on a vibrator 2. The pot 1 has a bottom 3 which preferably rises conically towards the center. On the inside of an outer wall 5, a conveyor track 4 winds upward in a spiral. The conveyor track has a certain width d and is slightly inclined laterally against the outer wall 5, so that it acts as a kind of guide trough.

Die zu sortierenden Massenteile werden als Schüttgut auf den Boden 3 des Topfs 1 geleert. Unter der Wirkung der Vibration des Vibratore 2 bewegen sich die Massenteile nach aussen, gelangen auf die Förderbahn 4 und wandern auf dieser nach oben. Im vorliegenden Beispiel wandern die Massenteile im Uhrzeigersinn (s. Pfeil R). The mass parts to be sorted are emptied as bulk goods onto the bottom 3 of the pot 1. Under the effect of the vibration of the vibrator 2, the mass parts move outward, reach the conveyor track 4 and move upwards on it. In the present example, the mass parts move clockwise (see arrow R).

Entlang der Förderbahn 4 oder vorzugsweise am Ende derselben sind die im folgenden beschriebenen, erfindungsgemässen Schikaneneinbauten angeordnet. In Fig. 1b bezeichnet 16 eine am Ende der Förderbahn 4 angeordnete Sortiereinrichtung The baffle internals according to the invention described below are arranged along the conveyor track 4 or preferably at the end thereof. In FIG. 1b, 16 denotes a sorting device arranged at the end of the conveyor track 4

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mit einer Kombination von mindestens zwei Schikanen zum Ausrichten von Halbleiterbauteilen. Im folgenden werden zunächst die einzelnen Schikanen im Detail erläutert, um am Schluss ihren Kombinationseffekt um so deutlicher hervortreten zu lassen. with a combination of at least two baffles for aligning semiconductor components. In the following, the individual baffles are first explained in detail in order to make their combination effect all the more clear at the end.

Fig. 2a, 2b zeigt eine erfindungsgemässe Schikaneneinbaute zum Drehen eines Massenteils. In der Darstellung gemäss Fig. 2a zeigt die Förderkraft (vektormässig) vom Betrachter weg (senkrecht zur Zeichenebene). Aufgrund der leichten Neigung der Förderbahn 4 gegen die Aussenwand 5 bewegt sich das Massenteil, das z.B. ein Halbleiterbauteil 7 ist und einen quaderförmigen Körper 8 hat, im wesentlichen entlang der Innenseite der Aussenwand 5. Im Bereich der Schikaneneinbaute läuft es näherungsweise auf einer geraden Linie, sofern es nicht gestört wird. Aber gerade das tut die Schikaneneinbaute mit einem vorspringenden Element 6. Dieses ragt nämlich in den Bewegungsraum des Halbleiterbauteils 7 hinein. D.h. das Halbleiterbauteil 7 stösst mit seinem quaderförmigen Körper 8 am genannten Element 6 an, so dass es seine Bewegungsrichtung ändern muss. 2a, 2b shows a baffle installation according to the invention for rotating a mass part. In the illustration according to FIG. 2a, the conveying force (in vector form) points away from the viewer (perpendicular to the plane of the drawing). Due to the slight inclination of the conveyor track 4 against the outer wall 5, the mass part, which e.g. is a semiconductor component 7 and has a cuboid body 8, essentially along the inside of the outer wall 5. In the area of the baffles, it runs approximately on a straight line, provided that it is not disturbed. But this is precisely what the baffles do with a projecting element 6. This protrudes into the movement space of the semiconductor component 7. I.e. the semiconductor component 7 abuts with its cuboid body 8 on said element 6, so that it has to change its direction of movement.

Der erste Kontaktpunkt zwischen dem quaderförmigen Körper 8 und dem vorspringenden Element 6 ist in der Fig. 2a, 2b mit dem Bezugszeichen 12 gekennzeichnet. Dieser Kontaktpunkt 12 liegt gegenüber der ungestörten Bahn des Schwerpunkts 11 des Massenteils seitlich versetzt. Dadurch entsteht ein Hebelarm Y (Fig. 2a), der zusammen mit der Förderkraft 10 zu einem Drehmoment führt. Das Halbleiterbauteil 7 beginnt sich somit um den Kontaktpunkt 12 zu drehen. The first contact point between the cuboid body 8 and the projecting element 6 is identified in FIG. 2a, 2b with the reference number 12. This contact point 12 is laterally offset from the undisturbed path of the center of gravity 11 of the mass part. This creates a lever arm Y (FIG. 2a) which, together with the conveying force 10, leads to a torque. The semiconductor component 7 thus begins to rotate about the contact point 12.

Gemäss einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung hat das Element 6 einen zylindrischen Fortsatz. Es weist somit zumindest im Bereich des Kontaktpunkts 12 eine um eine vertikale Krümmungsachse 13 gekrümmte Oberfläche auf. Somit wandert der Kontaktpunkt 12 bei der Drehung des Massenteils auf der zylindrisch gekrümmten Fläche nach «aussen», d.h. weg vom Element 6 gegen den gegenüberliegenden Rand der Förderbahn und somit in gleiche Richtung wie der Schwerpunkt 11, allerdings nicht in gleichem Mass. According to a preferred embodiment of the invention, the element 6 has a cylindrical extension. Thus, at least in the area of the contact point 12, it has a surface curved about a vertical axis of curvature 13. Thus, when the mass part rotates, the contact point 12 migrates outward on the cylindrically curved surface, i.e. away from element 6 against the opposite edge of the conveyor track and thus in the same direction as the center of gravity 11, but not to the same extent.

In der Fig. 2b ist das Halbleiterbauteil 7 in einer Zwischenposition (nach Durchlaufen einer 45° Stellung) gezeigt. Es leuchtet ein, dass beim vorliegenden Beispiel mit dem zylinderförmigen Fortsatz das Halbleiterbauteil 7 durch die Schikane insgesamt um etwa 90° gedreht wird. Es hat dann einen ganz bestimmten Abstand von der Innenseite der Aussenwand 5. Er ist bestimmt durch den Abstand b der am weitesten in die Förderbahn 4 hineinragenden Kante des vorspringenden Elements 6. Dieser im voraus bekannte Abstand b kann mit einer nachfolgenden Schikane ausgenutzt werden, um nicht richtig orientierte Massenteile zu eliminieren. 2b shows the semiconductor component 7 in an intermediate position (after passing through a 45 ° position). It is obvious that in the present example with the cylindrical extension, the semiconductor component 7 is rotated by a total of approximately 90 ° through the chicane. It is then at a very specific distance from the inside of the outer wall 5. It is determined by the distance b from the edge of the projecting element 6 which projects furthest into the conveyor track 4. This previously known distance b can be used with a subsequent baffle to to eliminate incorrectly oriented mass parts.

In Fig. 2a, 2b ist die Wirkung des vorspringenden Elements 6 anhand eines in Längsrichtung und auf der Bauchseite ankommenden Halbleiterbauteils beschrieben, das zudem schön entlang der Innenseite der Aussenwand 5 angefördert worden ist. Dies kann mit einer einfachen, vorgeschalteten Schikane, die noch weiter unten genauer beschrieben wird, erreicht werden. Dieses Ausrichten in Längsrichtung ist jedoch nicht zwingend für das Funktionieren der Erfindung. Es ist klar, dass ein rein quaderförmiges Halbieiterbauteil, das in Querrichtung ankommt, ebenso gedreht wird, sofern es im wesentlichen entlang der Wandung oder zumindest in einem nicht allzu grossen Abstand von derselben ankommt. 2a, 2b, the effect of the projecting element 6 is described with reference to a semiconductor component arriving in the longitudinal direction and on the belly side, which has also been nicely conveyed along the inside of the outer wall 5. This can be achieved with a simple, upstream baffle, which is described in more detail below. However, this longitudinal alignment is not essential for the functioning of the invention. It is clear that a purely cuboidal semi-conductor component that arrives in the transverse direction is also rotated if it arrives essentially along the wall or at least not too far from it.

Wichtig ist dagegen, dass die Massenteile vereinzelt angefördert werden, damit die Drehung der korrekt angeförderten Massenteile nicht durch andere, sich auf gleicher Höhe bewegende Massenteile gestört oder verhindert wird. Es ist auch klar, dass die vereinzelt hintereinander geförderten Massenteile sich auf etwa derselben Bewegungsbahn bewegen müssen, so dass sie im wesentlichen denselben Bewegungsraum beanspruchen. Nur so ist es möglich, das vorspringende Element 6 erfindungsge-mäss zu bemessen (Erzeugung eines Drehmoments mittels Vorgabe eines geeigneten Kontaktpunktes). Selbstverständlich ist es nicht zwingend, dass die Massenteile entlang der Aussenwand 5 angefördert werden. Wenn nämlich der Strom der vereinzelten Massenteile einen vorgegebenen Abstand von der Aussenwand 5 hat, dann muss einfach das vorspringende Element 6 weiter in die Förderbahn 4 (in Fig. 2a, 2b weiter nach rechts) hineinragen. On the other hand, it is important that the mass parts are conveyed individually so that the rotation of the correctly conveyed mass parts is not disturbed or prevented by other mass parts moving at the same height. It is also clear that the mass parts, which are occasionally conveyed one behind the other, have to move on approximately the same movement path, so that they require essentially the same movement space. This is the only way to dimension the projecting element 6 according to the invention (generation of a torque by specifying a suitable contact point). Of course, it is not essential that the mass parts are conveyed along the outer wall 5. If, in fact, the flow of the separated mass parts has a predetermined distance from the outer wall 5, then the projecting element 6 simply has to protrude further into the conveyor track 4 (further to the right in FIGS. 2a, 2b).

Mit dem erfindungsgemässen vorspringenden Element können Drehwinkel bis maximal 90° erreicht werden. Umgekehrt ausgedrückt: Auch wenn die 90° Drehung den maximalen und bevorzugten Wert darstellt, kann bei entsprechender Ausgestaltung des Elements (Wahl des ersten Kontaktpunkts und der Krümmung der Fläche) ein kleinerer Drehwinkel erzielt werden. Zudem ist zu beachten, dass bei bereits teilweise gedreht, d.h. schief angeförderten Massenteilen der durch das vorspringende Element 6 bewirkte Drehwinkel ohnehin kleiner wird. With the projecting element according to the invention, angles of rotation of up to a maximum of 90 ° can be achieved. Conversely expressed: Even if the 90 ° rotation represents the maximum and preferred value, with a corresponding design of the element (choice of the first contact point and the curvature of the surface), a smaller angle of rotation can be achieved. In addition, it should be noted that when already partially rotated, i.e. mass parts conveyed at an angle, the angle of rotation caused by the projecting element 6 becomes smaller anyway.

Insbesondere wenn es darum geht, die maximale, bevorzugte 90° Drehung zu erzielen, dann ist es vorteilhaft, wenn die Tangentialebene an die gekrümmte Fläche des vorspringenden Elements im Bereich des ersten Kontaktpunkts mehr oder weniger senkrecht zur ungestörten Bewegungsrichtung des Massenteils resp. zur Förderkraft 10 steht. Dadurch kann verhindert werden, dass das Massenteil dem Drehmoment «ausweichen» kann durch unerwünschtes Abgleiten vom Element 6. Diese Startbedingung kann natürlich auch mit einer z.B. elliptisch gekrümmten Fläche realisiert werden. Especially when it comes to achieving the maximum, preferred 90 ° rotation, it is advantageous if the tangential plane to the curved surface of the projecting element in the area of the first contact point more or less perpendicular to the undisturbed direction of movement of the mass part or. to the conveyor 10 is. This can prevent the mass part from "evading" the torque due to undesired sliding off of element 6. This starting condition can of course also be achieved with e.g. elliptically curved surface can be realized.

Der Winkel zwischen Tangentialebene und Bewegungsrichtung braucht nicht zwingend 90° zu sein. Es genügt, wenn er so gross ist, dass das «Ausweichen» verhindert werden kann. Dies dürfte bereits ab 45° der Fall sein, wobei die Umstände des Einzelfalls zu berücksichtigen sind. The angle between the tangential plane and the direction of movement does not necessarily have to be 90 °. It is sufficient if it is so large that «evasion» can be prevented. This should already be the case from 45 °, taking into account the circumstances of the individual case.

Wie bereits erwähnt, hat die erfindungsgemässe Schikaneneinbaute nicht nur einen drehenden Effekt sondern auch einen positionierenden, und zwar in dem Sinn, dass Massenteile, die in Förderrichtung eine andere Ausdehnung haben als quer zur Förderrichtung, sich nach der Drehung auf verschiedenen Bewegungsbahnen weiterbewegen. So bewegt sich z.B. der Schwerpunkt eines quaderförmigen Körpers auf einer bezüglich des vorspringen5 As already mentioned, the baffle installation according to the invention not only has a rotating effect but also a positioning effect, in the sense that mass parts which have a different extent in the conveying direction than transversely to the conveying direction continue to move on different trajectories after the rotation. For example, the center of gravity of a cuboid body on a projecting5

10 10th

15 15

20 20th

25 25th

30 30th

35 35

40 40

45 45

50 50

55 55

60 60

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4 4th

7 7

CH 683 766 A5 CH 683 766 A5

8 8th

den Elements 6 weiter aussen liegenden Bahn, wenn es in Längsrichtung auf das Element 6 aufgelaufen ist als in Querrichtung. In Folge dessen können beispielsweise die unerwünschterweise in Längslage gedrehten Massenteile durch eine geeignet in der Förderbahn 4 angebrachte, nachgeschal-tete Öffnung (in welche dann eben nur die in Längsrichtung gedrehten Massenteile fallen) eliminiert werden. the element 6 further outward path when it has run onto the element 6 in the longitudinal direction than in the transverse direction. As a result, for example, the mass parts which are undesirably rotated in the longitudinal position can be eliminated through a suitable opening in the conveyor track 4, in which only the mass parts rotated in the longitudinal direction then fall.

Im folgenden wird nun eine zusätzliche Verfeinerung der Schikaneneinbaute beschrieben, aufgrund der sich insbesondere SMD-Bauteile sortieren bzw. orientieren lassen. Solche Halbleiterbauteile weisen typischerweise einen mehr oder weniger quaderförmigen Körper auf, aus dem seitlich beinartige Kontaktstifte herausragen. In Anlehnung an den für diese Halbleiterbauteile umgangssprachlich oft verwendeten Begriff «Käfer» hat der quaderförmige Körper 8 somit eine Rückenseite 81 und eine gegenüberliegende Bauchseite 82. An Schmalseiten 83a, 83b sind Anschlussbeine 9a, 9b vorhanden. Die Anschlussbeine 9a resp. 9b treten mehr oder weniger in der Mitte der Schmalseiten aus dem Körper heraus und sind gegen die Bauchseite hin abgebogen. Auf der Höhe der durch die Bauchseite 82 definierten Ebene sind sie schliesslich nach aussen gebogen. Sie sind also seitlich abstehend, wie aus der noch zu beschreibenden Fig. 4 zu entnehmen ist. In the following, an additional refinement of the baffle components is described, on the basis of which SMD components in particular can be sorted or oriented. Such semiconductor components typically have a more or less cuboid body from which leg-like contact pins protrude laterally. Based on the term “beetle”, which is often used colloquially for these semiconductor components, the cuboid body 8 thus has a back side 81 and an opposite abdominal side 82. Connection legs 9a, 9b are provided on narrow sides 83a, 83b. The connecting legs 9a, respectively. 9b emerge from the body more or less in the middle of the narrow sides and are bent towards the abdominal side. At the level of the plane defined by the abdominal side 82, they are finally bent outwards. They are thus laterally protruding, as can be seen from FIG. 4, which will be described later.

Um nun solche «Käfer» zu sortieren, weist die erfindungsgemässe Schikaneneinbaute zusätzlich einen Freiraum 17 auf. Dieser ist zwischen der Förderbahn 4 und dem vorspringenden Element 6 vorgesehen. Er entsteht also dadurch, dass das Element 6 von oben herab in den Bewegungsraum der zu sortierenden Halbleiterbauteile ragt, ohne bis auf die Förderbahn 4 selbst herunter zu reichen. In order to sort such "beetles", the baffle installation according to the invention additionally has a free space 17. This is provided between the conveyor track 4 and the projecting element 6. It therefore arises from the fact that the element 6 projects from above into the movement space of the semiconductor components to be sorted, without reaching down to the conveyor track 4 itself.

In diesen Freiraum 17 kommt das Anschlussbein 9b zu liegen, wenn das in Längsrichtung angeförderte Halbleiterbauteil 7 mit der Schmalseite 83b seines quaderförmigen Körpers 8 am vorspringenden Element 6 anstösst. Der Freiraum 17 ist so bemessen, dass die durch das vorspringende Element 6 bewirkte Drehung des Massenteils nicht beeinträchtigt wird. Im vorliegenden Fall bedeutet das, dass das Anschlussbein 9b unter dem zylinderförmigen Fortsatz ungehindert hindurchbewegt resp. -gedreht werden kann. The connecting leg 9b comes to rest in this free space 17 when the semiconductor component 7 conveyed in the longitudinal direction abuts the projecting element 6 with the narrow side 83b of its cuboid body 8. The free space 17 is dimensioned such that the rotation of the mass part caused by the projecting element 6 is not impaired. In the present case, this means that the connecting leg 9b moves unhindered under the cylindrical extension. -can be turned.

Der Freiraum 17 ist andererseits so bemessen, dass nur das in gewünschter Lage (im vorliegenden Fall das auf der Bauchseite 82) ankommende Halbleiterbauteil korrekt um die Schikane herumgedreht wird. Gemäss Fig. 2a, 2b ragt der zylinderförmige Fortsatz von oben herab in den Bewegungsraum des Stroms der Halbleiterbauteile. Er endet in einer definierten Höhe über der Förderbahn 4, derart, dass die Anschlussbeine nur dann unten durchkommen, wenn der «Käfer» auf der Bauchseite ankommt. Dies ist sichergestellt, wenn der zylinderförmige Fortsatz bis auf die Höhe der Mittelebene bezüglich der Rückenseite 81 und der Bauchseite 82 reicht. On the other hand, the free space 17 is dimensioned in such a way that only the semiconductor component arriving in the desired position (in the present case on the belly side 82) is correctly rotated around the chicane. According to FIGS. 2a, 2b, the cylindrical extension protrudes from above into the movement space of the current of the semiconductor components. It ends at a defined height above the conveyor track 4 in such a way that the connecting legs only come through at the bottom when the «beetle» arrives on the belly side. This is ensured if the cylindrical extension extends to the level of the central plane with respect to the back 81 and the belly 82.

Wenn also ein (in unerwünschter Weise) auf der Rückenseite 81 liegendes Halbleiterbauteil ankommt, dann stösst es mit seinem Anschlussbein 9b und nicht mit seinem quaderförmigen Körper 8 If a semiconductor component (undesirably) lying on the rear side 81 arrives, then it bumps with its connecting leg 9b and not with its cuboid body 8

am vorspringenden Element 6 an und wird infolgedessen mit einem anderen insbesondere viel grösseren Radius gedreht. Ein auf der länglichen Schmalseite ankommendes Halbleiterbauteil wird entweder in analoger Weise gedreht oder erfährt eine sonstige unkontrollierte Bewegung. Somit werden nur die in Längsrichtung auf der Bauchseite angeförderten Halbleiterbauteile durch die Schikane korrekt gedreht. Sie können also durch eine nachfolgende Schikane auf die bereits beschriebene Art ausgewählt werden. on the projecting element 6 and is consequently rotated with a different, in particular much larger radius. A semiconductor component arriving on the elongated narrow side is either rotated in an analog manner or undergoes some other uncontrolled movement. Thus, only the semiconductor components conveyed in the longitudinal direction on the belly side are correctly rotated by the chicane. You can therefore be selected by a subsequent chicane in the manner already described.

Zur Verdeutlichung des lagenabhängigen Drehradius ist in Fig. 3 ein nockenartig vorspringendes Element 18 zum Sortieren z.B. T-förmiger Massenteile gezeigt. Die Form lässt sich gedanklich so konstruieren, dass aus einem Quader resp. Rechteck zwei benachbarte Ecken rechtwinklig ausgeschnitten werden, so dass die gezeigte T-Form entsteht. Durch das Herausschneiden der Ecken ist ein bezüglich der ursprünglichen Längsrichtung asymmetrisches Massenteil entstanden. Diese Asymmetrie kann nun genutzt werden, um dem Massenteil je nach Lagen einen unterschiedlichen Drehradius zu verpassen. So wird z.B. der Schwerpunkt bei einem in der Lage L2 ankommenden Bauteil um einen grösseren Radius R1 gedreht als das in der Lage LI ankommende (Drehradius R1). Damit ist klar, dass sich die Erfindung nicht auf quaderförmige oder sogar spezielle SMD-Bauteile beschränkt. In order to clarify the position-dependent turning radius, a cam-like projecting element 18 for sorting e.g. T-shaped mass parts shown. The shape can be constructed in such a way that from a cuboid or. Rectangle two adjacent corners are cut out at right angles, so that the T-shape shown is created. By cutting out the corners, a mass part that is asymmetrical with respect to the original longitudinal direction has been created. This asymmetry can now be used to give the mass part a different turning radius depending on the positions. For example, the center of gravity of a component arriving in position L2 is rotated by a larger radius R1 than that arriving in position LI (turning radius R1). It is therefore clear that the invention is not limited to cuboid or even special SMD components.

Im folgenden soll nun eine besonders bevorzugte Ausführungsform einer nachgeschalteten zweiten Schikane zum Eliminieren der nicht richtig gedrehten oder mit falschen Radius gedrehten Massenteile beschrieben werden. Sie soll am Beispiel einer SMD-Diode vom Typ BP 104 BS der Firma Siemens erläutert werden. Diese Diode hat zusätzlich zu den bereits beschriebenen Merkmalen eine rinnenförmige Ausnehmung auf seiner Bauchseite. Diese Ausnehmung wird nun erfindungsgemäss genutzt, um aus dem Strom der gedrehten Bauteile die richtigen herauszufischen. In the following, a particularly preferred embodiment of a second chicane connected downstream to eliminate the parts of the mass which are not correctly rotated or rotated with the wrong radius will now be described. It will be explained using the example of an SMD diode of the type BP 104 BS from Siemens. In addition to the features already described, this diode has a groove-shaped recess on its belly side. This recess is now used according to the invention to fish out the correct ones from the stream of the turned components.

Fig. 4 veranschaulicht das Prinzip dieser Schikane. Es handelt sich dabei im wesentlichen um eine Schiene 14, die profilmässig an die rinnenförmige Ausnehmung 84 des Halbleiterbauteils 7 formschlüssig angepasst ist. Wenn sich diese Schiene 14 unmittelbar an die in Fig. 2a, 2b gezeigte erste Schikane anschliesst, dann können die in Querrichtung gedrehte SMD-Bauteile selektiv ausgewählt werden, weil nur sie sich rittlings auf die Schiene 14 resp. den profilmässig angepassten Vorsprung setzen können. Alle anders positionierten Bauteile rutschen entweder seitlich links oder rechts weg und können z.B. durch beidseitig der Schiene 14 angeordnete Öffnungen eliminiert werden. Um eine schnelle und saubere Trennung der verschieden orientierten Bauteile zu erhalten, ist die Schiene 14 vorzugsweise beidseitig mit geneigten Flächen 141 und 142 versehen, auf welchen die unsachgemäss positionierten Halbleiterbauteile wegrutschen können. Fig. 4 illustrates the principle of this chicane. It is essentially a rail 14, which is adapted in a form-fitting manner to the groove-shaped recess 84 of the semiconductor component 7. If this rail 14 directly adjoins the first chicane shown in FIGS. 2a, 2b, then the SMD components rotated in the transverse direction can be selected selectively, because only they astride the rail 14 or. be able to set the profile-adjusted lead. All differently positioned components either slide away to the left or right and can e.g. can be eliminated by openings 14 arranged on both sides of the rail. In order to obtain a quick and clean separation of the differently oriented components, the rail 14 is preferably provided on both sides with inclined surfaces 141 and 142, on which the improperly positioned semiconductor components can slip.

Fig. 5 zeigt eine besonders bevorzugte Schikanenkombination. Sie umfasst das drehende, vorspringende Element 6 und dahinter die führende Fig. 5 shows a particularly preferred baffle combination. It comprises the rotating, projecting element 6 and behind it the leading one

5 5

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15 15

20 20th

25 25th

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9 9

CH 683 766 A5 CH 683 766 A5

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Schiene 14. Das mit der (als dreieckig angenommenen) Ausnehmung 84 (vgl. die drei parallelen gestrichelten Linien) versehene Halbleiterbauteil 7 dreht sich wie anhand der Fig. 2a, 2b beschrieben um das vorspringende Element 6. Noch bevor es vollständig gedreht hat, läuft es auf das rampenartig ausgebildete Ende 143 der Schiene 14 auf. Vorzugsweise ist das Ende 143 entsprechend der Bewegungsbahn des sich drehenden Halbleiterbauteils 7 um das vorspringende Element herum gekrümmt. Der vorteilhafte Effekt liegt auf der Hand: Die korrekt gedrehten Massenteile werden zuverlässig auf die Schiene 14 gesetzt. Rail 14. The semiconductor component 7 provided with the recess 84 (assumed to be triangular) (cf. the three parallel dashed lines) rotates around the projecting element 6 as described with reference to FIGS. 2a, 2b. Even before it has rotated completely, it runs it onto the ramp-like end 143 of the rail 14. The end 143 is preferably curved in accordance with the movement path of the rotating semiconductor component 7 around the projecting element. The advantageous effect is obvious: the correctly rotated mass parts are reliably placed on the rail 14.

Je nachdem wie das Ende 143 ausgebildet ist, kann es den Drehvorgang z.B. (in erwünschter Weise) frühzeitig «abbrechen» und schräg nach «aussen» (d.h. vom vorspringenden Element weg) auf die Schiene 14 führen. Der Abstand der Schiene 14 von der Aussenwand 5 kann somit in einem gewissen Rahmen an die Bedürfnisse angepasst werden. Depending on how the end 143 is formed, it can e.g. (in the desired way) "break off" early and lead diagonally outwards (i.e. away from the projecting element) onto the rail 14. The distance of the rail 14 from the outer wall 5 can thus be adapted to the needs to a certain extent.

Fig. 6 zeigt eine weitere Schikane, mit der die auf der Schiene 14 reitenden Halbleiterbauteile auf verbogene Anschlussbeinen 9a, 9b getestet werden können. Es handelt sich dabei im wesentlichen um eine Passform 15, deren Öffnung der Kontur des in Bewegungsrichtung betrachteten, auf der Schiene 14 reitenden Bauteils entspricht. FIG. 6 shows another chicane with which the semiconductor components riding on the rail 14 can be tested for bent connecting legs 9a, 9b. It is essentially a fit 15, the opening of which corresponds to the contour of the component viewed in the direction of movement and riding on the rail 14.

Anhand der Fig. 7 soll nun eine besonders bevorzugte Ausführungsform der Erfindung dargestellt werden, die sich insbesondere zum Sortieren resp. Ordnen von Halbleiterbauteilen von der Art der bereits erwähnten Diode BP 104 eignet. In der Fig. 7 ist ein Ausschnitt der Förderbahn 4 des Rüttelförderers mit einer Sortiereinrichtung 16 (in Fig. 1 nur schematisch angedeutet) gezeigt. Die erste, vorgeschaltete Schikane A lässt aus dem ankommenden Strom von Halbleiterbauteilen nur diejenigen passieren, die in Längsrichtung orientiert sind. Die Schikane A ist im wesentlichen eine Verengung der Förderbahn 4 resp. eine geeignet gebildete Ausnehmung in der Förderbahn 4. Ein quer gestelltes Halbleiterbauteil 71 wird von der Förderbahn herunterfallen, weil sein Schwerpunkt zu nahe an der Aussenkante der Förderbahn 4 ist. Ein in Längsrichtung orientiertes Bauteil 72 wird dagegen an der Verengung weiterkommen. 7, a particularly preferred embodiment of the invention will now be shown, which is particularly suitable for sorting or. Sorting semiconductor devices of the type of the already mentioned diode BP 104 is suitable. FIG. 7 shows a section of the conveyor track 4 of the vibrating conveyor with a sorting device 16 (only indicated schematically in FIG. 1). The first, upstream chicane A only allows those from the incoming stream of semiconductor components to pass that are oriented in the longitudinal direction. The chicane A is essentially a narrowing of the conveyor track 4, respectively. a suitably formed recess in the conveyor track 4. A transversely placed semiconductor component 71 will fall off the conveyor track because its center of gravity is too close to the outer edge of the conveyor track 4. A component 72 oriented in the longitudinal direction, on the other hand, will advance at the constriction.

Aus den vier möglichen Lagen, die ein in Längsrichtung ausgerichtetes im wesentlichen quaderförmiges Halbleiterbauteil haben kann, wird mit der nachfolgenden Sortiereinrichtung eine ganz bestimmte Lage ausgewählt. Diese Auswahl wird gemäss der Erfindung mit einer Kombination von zwei Schikaneneinbauten (Fig. 5) erzielt. Die erfindungsgemässe Kombination umfasst eine Schikane gemäss Fig. 2a, 2b und eine nachgeschaltete Schikane gemäss Fig. 4. An der die Massenteile drehenden Schikaneneinbaute B werden die angelieferten SMD-Dioden um 90° in Querposition gedreht und dann unmittelbar von der Schiene (Fig. 4) aufgegriffen. The following sorting device is used to select a very specific position from the four possible positions that a substantially cuboidal semiconductor component oriented in the longitudinal direction can have. This selection is achieved according to the invention with a combination of two baffles (Fig. 5). The combination according to the invention comprises a baffle according to FIGS. 2a, 2b and a downstream baffle according to FIG. 4. On the baffle assembly B rotating the mass parts, the SMD diodes supplied are rotated through 90 ° in the transverse position and then directly from the rail (FIG. 4 ) picked up.

Beim Sortiervorgang sind dabei im Prinzip vier verschiedene Spielarten zu unterscheiden. In principle, there are four different types of game in the sorting process.

Der erste Fall betrifft die lagerichtig angelieferte Diode. D.h. das Halbleiterbauteil ist in Längsrichtung an der Aussenwand 5 orientiert und liegt mit den Anschlussbeinen auf der Förderbahn 4. Eine solche Diode wird mit den Anschlussbeinchen, wie anhand der Fig. 2a, 2b beschrieben, unter den er-findungsgemässen zylindrischen Fortsatz geraten und mit dem quaderförmigen Körper im Kontaktpunkt am Fortsatz anstossen. Da der Fortsatz die Diode nicht zentral, sondern leicht nach links versetzt berührt, entsteht aus dem Kontaktpunkt (Bezugszeichen 12, Fig. 2) und dem Schwerpunkt der Diode ein Hebel Y, der mit Hilfe der ständig wirkenden Förderkraft 10 wie erwähnt ein Drehmoment erzeugt. Dieses Drehmoment dreht (C) das Halbleiterbauteil 75 um 90° nach rechts (d.h. im Gegenuhrzeigersinn), wobei der Fortsatz den Mittelpunkt der Drehbewegung darstellt. The first case concerns the diode delivered in the correct position. I.e. the semiconductor component is oriented in the longitudinal direction on the outer wall 5 and lies with the connecting legs on the conveyor track 4. Such a diode is placed with the connecting legs, as described with reference to FIGS. 2a, 2b, under the cylindrical extension according to the invention and with the cuboid Bump the body at the contact point on the extension. Since the extension does not touch the diode centrally, but slightly offset to the left, the contact point (reference numeral 12, FIG. 2) and the center of gravity of the diode result in a lever Y which, as mentioned, generates a torque with the aid of the continuously acting delivery force 10. This torque rotates (C) the semiconductor device 75 90 ° to the right (i.e. counterclockwise), with the extension being the center of the rotational movement.

Nach der 90° Drehung trifft das Halbleiterbauteil auf das rampenförmig ausgebildete Ende 143 der Schiene 14. Bei korrekter Drehung um die Schikane B sitzt das Halbleiterbauteil 76 mit seiner Bauchseite formschlüssig auf der Schiene 14. Rittlings (D) bewegt sich dann die Diode auf der Schiene 14 weiter und passiert die Verengung, die durch die Öffnungen F begrenzt ist, problemlos. After the 90 ° rotation, the semiconductor component hits the ramp-shaped end 143 of the rail 14. When rotated correctly about the chicane B, the semiconductor component 76 sits positively with its belly side on the rail 14. The diode then moves astride (D) on the rail 14 and passes the narrowing, which is limited by the openings F, without any problems.

Als zusätzliche Sicherheit ist am anderen Ende der Schiene 14 noch eine Passform G gemäss Fig. 6 angebracht. Durch dieses Profil, welches wie erwähnt der Aussenkontur der Dioden angepasst ist, werden alle Halbleiterbauteile geleitet. Anschliessend verlassen sie die Sortiereinrichtung, um in eine Lagerungsschiene 18 eingefüllt zu werden. As an additional security, a fit G according to FIG. 6 is attached to the other end of the rail 14. All semiconductor components are guided through this profile, which, as mentioned, is adapted to the outer contour of the diodes. They then leave the sorting device in order to be filled into a storage rail 18.

Dioden mit verbogenen Anschlussbeinchen bleiben an der Passform hängen und werden von den nachfolgenden Dioden in den Topf zurückgestos-sen. Dieser in der Praxis zu beobachtende und in der Tat überraschende Effekt beruht vermutlich darauf, dass das mit seinen Anschlussbeinen am Profil aneckende Halbleiterbautei! durch die nachrückenden so stark gegen die begrenzende Wandung 15 gedrückt wird, dass es aus seiner reitenden Position weggedreht resp. hochgehoben wird, und in Folge dessen in den Topf zurückfällt. Erstaunlicherweise gibt es somit keinen die Sortiereinrichtung insgesamt blockierenden Rückstau. Diodes with bent connection pins hang on the fit and are pushed back into the pot by the subsequent diodes. This effect, which can be observed in practice and is in fact surprising, is probably due to the fact that the semiconductor component, which touches the profile with its connecting legs! is pressed so strongly against the delimiting wall 15 by the advancing ones that it rotates away from its riding position or. is lifted up, and as a result falls back into the pot. Surprisingly, there is no backlog blocking the sorting device as a whole.

Die weitere Beförderung in die Lagerungsschiene 18 hinein geschieht durch die Restanteile der Schwingung des Rüttelförderers. Nach dem Füllen der Lagerungsschiene 18 wird diese vom Gerät abgenommen und z.B. dem Bestückungsautomaten zugeführt. The further conveyance into the bearing rail 18 takes place through the remaining parts of the vibration of the vibrating conveyor. After the storage rail 18 has been filled, it is removed from the device and e.g. fed to the placement machine.

Bei der zweiten Spielart wird die Diode auf der Rückenseite liegend angeliefert. In diesem Fall werden die Anschlussbeine nicht in den Freiraum (vgl. Fig. 2a, 2b: Bezugszeichen 17) eintauchen, sondern am vorspringenden Element B anstossen. Das Halbleiterbauteil wird in Folge dessen eine Rotationsbewegung mit einem um die Länge der Anschlussbeine grösseren Radius durchführen. Es wird somit rechts neben der Schiene 14 in die Öffnung F fallen. In the second variant, the diode is delivered lying on the back. In this case, the connecting legs will not plunge into the free space (cf. FIGS. 2a, 2b: reference number 17), but will abut the projecting element B. As a result, the semiconductor component will perform a rotational movement with a larger radius by the length of the connecting legs. It will thus fall into the opening F to the right of the rail 14.

Gemäss der dritten Spielart bewegt sich das Halbleiterbauteil 73 mit der Rückenseite entlang der Aussenwand 5. In der Regel wird es auch dann mit seinem Anschlussbein und nicht mit seinem quaderförmigen Körper am vorspringenden Element anstossen. Wie bei der zweiten Spielart, vergrössert According to the third variant, the semiconductor component 73 moves with the back side along the outer wall 5. As a rule, it will also abut the projecting element with its connecting leg and not with its cuboid body. As with the second variant, enlarged

5 5

10 10th

15 15

20 20th

25 25th

30 30th

35 35

40 40

45 45

50 50

55 55

60 60

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CH 683 766 A5 CH 683 766 A5

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sich dadurch der Drehradius, so dass sich das Bauteil im Bereich E rechts der Schiene bewegt und in die Öffnung F fällt. Dasselbe geschieht, wenn das Halbleiterbauteil mit seiner Bauchseite entlang der Aussenwand 5 ankommt (vierte Spielart). this causes the turning radius so that the component moves in area E to the right of the rail and falls into opening F. The same happens when the semiconductor component arrives with its belly side along the outer wall 5 (fourth variant).

Die Schikane A kann im Prinzip auch weggelassen werden. Dann treffen auch quergestellte Halbleiterbauteile auf die Schikane B. Unabhängig davon, ob sie eine Drehung erfahren oder nicht, werden sie durch die schienenartige Schikane im Bereich F eliminiert. Wenn sie sich drehen, dann können sie mit ihrer rinnenförmigen Ausnehmung auf der Bauchseite nicht mehr auf die Schiene 14 aufsitzen. Vielmehr werden sie entweder nach links oder nach rechts abgleiten und nachher in eine der beiden Öffnungen F fallen. Wenn sie dagegen nicht gedreht werden, dann bleiben sie in der Regel in irgend einer ungünstigen Lage hängen, gleiten allmählich unkontrolliert ab und können deshalb ebenfalls nicht rittlings auf die Schiene 14 gelangen. In principle, chicane A can also be omitted. Then cross-positioned semiconductor components also hit the chicane B. Regardless of whether they experience a rotation or not, they are eliminated by the rail-like chicane in the area F. When they turn, they can no longer sit on the rail 14 with their trough-shaped recess on the belly side. Rather, they will either slide to the left or to the right and then fall into one of the two openings F. If, on the other hand, they are not rotated, they usually get caught in some unfavorable position, gradually slide off in an uncontrolled manner and therefore cannot straddle the rail 14 either.

Um sicherzustellen, dass möglichst alle der lagerichtig an der Schikane B ankommenden Massenteile «sattelfest» auf die Schiene 14 befördert werden, ist diese am Ende vorzugsweise rampenförmig ansteigend und/oder entsprechend der Drehung der Massenteile zumindest teilweise um das vorspringende Element herumgekrümmt (Fig. 5). In order to ensure that as far as possible all of the mass parts arriving in the correct position at chicane B are conveyed onto the rail 14 in a “saddle-proof” manner, the rail 14 preferably rises at the end in a ramp-like manner and / or at least partially curves around the projecting element in accordance with the rotation of the mass parts (FIG. 5 ).

Die SMD-Dioden vom erwähnten Typ stellen mit ihren geringen Massen ein schlecht zu förderndes Gut dar. Im besonderen führen zu hohe Rüttelgeschwindigkeiten und Rüttelamplituden zum Hüpfen der Dioden. Viele werden daher in den Topf zurückfallen. Andererseits, wenn die Förderbedingungen zu schwach eingestellt sind, werden sich die Dioden verhaken und nicht gefördert werden. Die korrekte Einstellung von Frequenz und Amplitude ist verantwortlich dafür, wieviele Dioden pro Minute geliefert werden können. Wenn nur genügend viele Massenteile pro Minute geliefert werden, ist es unwichtig, wieviele der Bauteile an den Schikanen hängenbleiben und in den Topf zurückfallen. With their low masses, the SMD diodes of the type mentioned represent a good that is difficult to convey. In particular, excessive vibrating speeds and vibrating amplitudes cause the diodes to bounce. Many will therefore fall back into the pot. On the other hand, if the funding conditions are set too weak, the diodes will get caught and will not be delivered. The correct setting of frequency and amplitude is responsible for how many diodes can be delivered per minute. If only enough mass parts are delivered per minute, it does not matter how many of the components get stuck on the baffles and fall back into the pot.

Um keinen Engpass im Materialfluss zu provozieren, sollten immer mehrere Lagerungsschienen vorhanden sein damit zwischen dem Bestücken und Einfüllen der Dioden keine zeitliche Differenz entsteht. In order not to provoke a bottleneck in the material flow, there should always be several mounting rails so that there is no time difference between loading and filling the diodes.

Zusammenfassend kann festgestellt werden, dass mit den erfindungsgemässen Schikanen einfache Mittel zum Sortieren und Abfüllen von Massenteilen, insbesondere von Halbleiterbauteilen geschaffen worden sind. In summary, it can be stated that simple means for sorting and filling bulk parts, in particular semiconductor components, have been created with the baffles according to the invention.

Claims (1)

Patentansprüche Claims 1. Schikaneneinbaute für einen Rüttelförderer (1, 2) zum Erzeugen eines Stroms ausgerichteter und/ oder geordneter Massenteile (7), gekennzeichnet durch ein vorspringendes Element (6, 18), das so in einen Bewegungsraum der auf einer Transportbahn (4) geförderten Massenteile (72-75) hineinragt, dass zumindest gewisse der ankommenden Massenteile (75) am genannten Element (6) in einem seitlich ausserhalb einer ungestörten Bewegungsbahn des Schwerpunkts (11) des jeweiligen1. Baffles for a vibrating conveyor (1, 2) for generating a stream of aligned and / or ordered mass parts (7), characterized by a projecting element (6, 18) which thus moves into a movement area of the mass parts conveyed on a transport path (4) (72-75) protrudes that at least some of the arriving mass parts (75) on said element (6) move laterally outside an undisturbed movement path of the center of gravity (11) of the respective Massenteils (7) liegenden Kontaktpunkt (12) mit ihrer Oberfläche anstossen und in Folge dessen unter der andauernden Wirkung der Förderkraft gedreht werden.Bump the contact part (12) of the mass (7) with its surface and, as a result, be rotated under the constant effect of the conveying force. 2. Schikaneneinbaute nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das vorspringende Element im Bereich des Kontaktpunktes (12) eine um eine vertikale Krümmungsachse (13) gekrümmte Oberfläche aufweist, auf welcher sich der Kontaktpunkt (12) während der Drehung des Massenteils (7) bewegt, wobei eine Tangentialebene im ersten Kontaktpunkt (12) vorzugsweise im wesentlichen senkrecht zur ungestörten Bewegungsbahn des Schwerpunkts (11) des Massenteils (7) steht.2. baffles according to claim 1, characterized in that the projecting element in the region of the contact point (12) has a curved surface about a vertical axis of curvature (13) on which the contact point (12) moves during the rotation of the mass part (7) , wherein a tangential plane in the first contact point (12) is preferably substantially perpendicular to the undisturbed movement path of the center of gravity (11) of the mass part (7). 3. Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Element (6) im Bereich des Kontaktpunktes (12) eine zylinderförmig gekrümmte Oberfläche aufweist, wobei die Krümmungsachse (13) der Oberfläche seitlich gegenüber der ungestörten Bewegungsbahn des Schwerpunkts (11) des Massenteils (7) versetzt ist.3. baffles according to one of claims 1 or 2, characterized in that the element (6) in the region of the contact point (12) has a cylindrical curved surface, the axis of curvature (13) of the surface laterally opposite the undisturbed path of movement of the center of gravity (11 ) of the mass part (7) is offset. 4. Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1 bis 3 zum Ausrichten resp. Ordnen von im wesentlichen quaderförmigen Massenteilen (7) mit jeweils bezüglich einer Mittelebene zwischen Rücken-und Bauchseite (81 resp. 82) asymmetrisch angeordneten und seitlich nach aussen abstehenden Fortsätzen (9a, 9b), dadurch gekennzeichnet, dass die Schikaneneinbaute über einen unter resp. über der Mittelebene des ankommenden Massenteils (7) angeordneten Freiraum (17) verfügt, in den die Fortsätze (9a, 9b) des Massenteils (7) nur dann zu liegen kommen, wenn die quaderförmige Oberfläche des korrekt angeförderten Massenteils (7) am Kontaktpunkt (12) anstösst, so dass nur die korrekt ankommenden Massenteile (7, 75) mit dem richtigen Drehradius um das vorspringende Element (6) herumgedreht werden und in Folge dessen durch eine weitere, nachfolgende Schikane selektioniert werden können.4. baffles according to one of claims 1 to 3 for aligning respectively. Organize essentially cuboid mass parts (7), each with asymmetrically arranged extensions (9a, 9b) with respect to a central plane between the back and abdominal sides (81 and 82), respectively, characterized in that the baffles are installed over a respectively under has free space (17) above the center plane of the incoming mass part (7), in which the extensions (9a, 9b) of the mass part (7) only come to rest when the cuboid surface of the correctly conveyed mass part (7) at the contact point ( 12), so that only the correctly arriving mass parts (7, 75) with the correct turning radius are rotated around the projecting element (6) and as a result can be selected by a further, subsequent chicane. 5. Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1 bis 4 zum Ausrichten resp. Ordnen von im wesentlichen quaderförmigen Massenteilen (7), die auf einer Bauchseite (82) eine rinnenförmige Ausnehmung mit einem vorgegebenen Profil aufweisen, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem vorspringenden Element (6) in der Bewegungsbahn der korrekt gedrehten Massenteile eine in Förderrichtung orientierte, längliche Schiene (14) vorgesehen ist, die mit ihrem Schienenprofil formschlüssig in die Ausnehmung des Massenteils (7) greift, so dass sich die korrekt ankommenden Massenteile (7) rittlings auf der Schiene (14) fortbewegen können.5. baffles according to one of claims 1 to 4 for aligning respectively. Organization of essentially cuboid mass parts (7) which have a channel-shaped recess on a belly side (82) with a predetermined profile, characterized in that after the projecting element (6) in the path of movement of the correctly rotated mass parts, an elongated one oriented in the conveying direction Rail (14) is provided, which engages with its rail profile in a form-fitting manner in the recess of the mass part (7), so that the correctly arriving mass parts (7) can move astride the rail (14). 6. Schikaneneinbaute nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Schiene (14) nur gerade so breit ist, dass die korrekt aufsitzenden Massenteile (7) vorbeikommen, die falsch positionierten aber herunterfallen.6. baffles according to claim 5, characterized in that the rail (14) is only just wide enough that the correctly seated mass parts (7) come by, but the incorrectly positioned fall down. 7. Schikaneneinbaute nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Schiene (14) an ihrem dem vorspringenden Element (6) zugeordneten Ende rampenförmig und/oder entsprechend der Bewegungsbahn der drehenden Massenteile gekrümmt ist, so dass die korrekt ausgerichteten Mas-7. baffles according to claim 6, characterized in that the rail (14) at its end associated with the projecting element (6) is ramp-shaped and / or is curved in accordance with the movement path of the rotating mass parts, so that the correctly aligned dimensions 55 1010th 1515 2020th 2525th 3030th 3535 4040 4545 5050 5555 6060 6565 77 1313 CH 683 766 A5CH 683 766 A5 senteile gegebenenfalls bereits während der Drehung zuverlässig auf das Schienenprofil aufgesetzt werden.If necessary, parts can already be reliably placed on the rail profile during rotation. 8. Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine vorgeschaltete Schikane (A) zum Vereinzeln und/oder Längsausrichten der Massenteile (71, 72, ...).8. baffles according to one of claims 1 to 7, characterized by an upstream baffle (A) for separating and / or longitudinally aligning the mass parts (71, 72, ...). 9. Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 5 bis 8, gekennzeichnet durch eine nachgeschaltete vierte Schikane (15) zum Überprüfen der Kontur der sortierten Massenteile.9. baffles according to one of claims 5 to 8, characterized by a downstream fourth baffle (15) for checking the contour of the sorted mass parts. 10. Rüttelförderer mit einer Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1-9 zum Ordnen und Zuführen von Massenteilen, umfassend einen Topf (1), an dessen Aussenwand (5) eine Förderbahn (4) schneckenförmig von unten nach oben läuft.10. vibratory conveyor with a baffle according to one of claims 1-9 for ordering and feeding mass parts, comprising a pot (1), on the outer wall (5) of a conveyor track (4) running helically from bottom to top. 11. Verfahren zum Ausrichten und/oder Ordnen von im wesentlichen quaderförmigen Massenteil (71-76), die auf einer Bauchseite (82) eine rinnenförmige Ausnehmung (84) mit einem vorgegebenen Profil aufweisen, wobei die Massenteile (71-76) in einem Rüttelförderer auf einer Förderbahn (4) gefördert werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Massenteile (71-76) mittels eines vorspringenden Elements (6, 18) im wesentlichen um 90° gedreht werden und dann mit einer länglichen Schiene (14), deren Schienenprofil an die rinnenförmige Ausnehmung (84) angepasst ist, diejenigen Massenteile (71-76) aussortiert werden, deren rinnenförmige Ausnehmung (84) parallel zur Förderrichtung ausgerichtet ist, indem die sich nicht rittlings auf der Schiene (14) fortbewegenden Massenteile (71-76) eliminiert werden.11. A method for aligning and / or arranging substantially cuboid mass parts (71-76), which have a groove-shaped recess (84) with a predetermined profile on a belly side (82), the mass parts (71-76) in a vibrating conveyor are conveyed on a conveyor track (4), characterized in that the mass parts (71-76) are rotated essentially by 90 ° by means of a projecting element (6, 18) and then with an elongated rail (14), the rail profile of which groove-shaped recess (84) is adapted, those mass parts (71-76) are sorted out whose groove-shaped recess (84) is aligned parallel to the conveying direction by eliminating the mass parts (71-76) that do not move astride the rail (14) . 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Massenteile (71-76) vorgängig mit einer Schikane vereinzelt werden.12. The method according to claim 11, characterized in that the mass parts (71-76) are previously separated with a baffle. 13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass mit einer nachgeschalteten Schikane (15) zum Schluss die Kontur der sortierten Massenteile (71-76) überprüft wird.13. The method according to claim 11 or 12, characterized in that the contour of the sorted mass parts (71-76) is finally checked with a downstream chicane (15). 14. Verfahren zum Ausrichten resp. Ordnen von Massenteilen, bei denen die Ausnehmung (84) parallel zu einer Kurzseite des quaderförmigen Körpers (8) verläuft, nach einem der Ansprüche 11-13, dadurch gekennzeichnet, dass die Massenteile (71-76) mit einer Schikane (A) in Längsrichtung ausgerichtet werden.14. Procedure for aligning resp. Ordering mass parts in which the recess (84) runs parallel to a short side of the cuboid body (8) according to one of claims 11-13, characterized in that the mass parts (71-76) with a baffle (A) in the longitudinal direction be aligned. 15. Verwendung einer Schikaneneinbaute nach einem der Ansprüche 1-10 zum Sortieren von SMD-Dioden vom Typ BP 104 BS.15. Use of a baffle according to one of claims 1-10 for sorting SMD diodes of the BP 104 BS type. 55 1010th 1515 2020th 2525th 3030th 3535 4040 4545 5050 5555 6060 6565 88th
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102180349A (en) * 2011-05-02 2011-09-14 苏州工业园区高登威科技有限公司 Rivet conveying device

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CN102180349A (en) * 2011-05-02 2011-09-14 苏州工业园区高登威科技有限公司 Rivet conveying device

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