CH441532A - Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche und des Volumens eines aus elektrisch leitendem Material, insbesondere Halbleitermaterial bestehenden Körpers - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche und des Volumens eines aus elektrisch leitendem Material, insbesondere Halbleitermaterial bestehenden Körpers

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CH441532A
CH441532A CH117866A CH117866A CH441532A CH 441532 A CH441532 A CH 441532A CH 117866 A CH117866 A CH 117866A CH 117866 A CH117866 A CH 117866A CH 441532 A CH441532 A CH 441532A
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CH
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treating
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electrically conductive
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particular semiconductor
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CH117866A
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Helmut Dipl Phys Poser
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Halbleiterwerk Frankfurt Oder
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    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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CH117866A 1965-04-02 1966-01-28 Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche und des Volumens eines aus elektrisch leitendem Material, insbesondere Halbleitermaterial bestehenden Körpers CH441532A (de)

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DEV0028595 1965-06-01

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0021140A1 (de) * 1979-06-29 1981-01-07 International Business Machines Corporation Ionenquelle in einer Vakuumkammer und Verfahren zum Betrieb derselben

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0021140A1 (de) * 1979-06-29 1981-01-07 International Business Machines Corporation Ionenquelle in einer Vakuumkammer und Verfahren zum Betrieb derselben

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