CH371188A - Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang - Google Patents

Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang

Info

Publication number
CH371188A
CH371188A CH7829559A CH7829559A CH371188A CH 371188 A CH371188 A CH 371188A CH 7829559 A CH7829559 A CH 7829559A CH 7829559 A CH7829559 A CH 7829559A CH 371188 A CH371188 A CH 371188A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
junction
surface treatment
semiconductor elements
several electrodes
electrodes
Prior art date
Application number
CH7829559A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Reimer Dipl Phys Emeis
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of CH371188A publication Critical patent/CH371188A/de

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/24—Alloying of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, with a semiconductor body
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Weting (AREA)
CH7829559A 1958-09-23 1959-09-16 Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang CH371188A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES59948A DE1085969B (de) 1958-09-23 1958-09-23 Verfahren und Vorrichtung zur Oberflaechenbehandlung von Halbleiterbauelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem pn-UEbergang

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH371188A true CH371188A (de) 1963-08-15

Family

ID=7493712

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH7829559A CH371188A (de) 1958-09-23 1959-09-16 Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang

Country Status (6)

Country Link
BE (1) BE582909A (en, 2012)
CH (1) CH371188A (en, 2012)
DE (1) DE1085969B (en, 2012)
FR (1) FR1233331A (en, 2012)
GB (1) GB861624A (en, 2012)
NL (1) NL241711A (en, 2012)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL193073A (en, 2012) * 1954-03-05
BE536986A (en, 2012) * 1954-04-01
BE538469A (en, 2012) 1954-05-27

Also Published As

Publication number Publication date
FR1233331A (fr) 1960-10-12
NL241711A (en, 2012)
GB861624A (en) 1961-02-22
DE1085969B (de) 1960-07-28
BE582909A (fr) 1960-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH371522A (de) Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang
CH498227A (de) Vorrichtung zum Bereitlegen von mindestens angenähert parallelen Fadenabschnitten sowie Verwendung der Vorrichtung
CH480480A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von einheitlichen Nonwovens
CH392699A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Gleichrichteranordnungen mit tablettenförmigen Gleichrichterelementen
CH423566A (de) Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Herstellung von Kammzügen
CH429673A (de) Verfahren zur Abscheidung von Halbleitermaterial
CH389783A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit pn-Übergang
CH387410A (de) Verfahren zur Dotierung von Halbleiterkörpern und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
AT250307B (de) Verfahren zur Herstellung von hexagonalen Chalkogeniden des Zinks und Cadmiums mit Halbleiterreinheit
CH486774A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterelementen
CH411136A (de) Halbleitergerät und Verfahren zur Herstellung desselben
CH399155A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Teigwaren
CH382299A (de) Verfahren und Vorrichtung zum maschinellen Zusammensetzen von Kristalldioden
CH411799A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleitervorrichtung
AT278872B (de) Verfahren zur Stimulierung des Wachstums und der Entwicklung von Pflanzen
CH371188A (de) Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Halbleiterelementen mit mehreren Elektroden und mindestens einem p-n-Übergang
CH438750A (de) Verfahren zur Gewinnung von Gallium und/oder Indium
CH464665A (de) Verfahren zur mindestens teilweisen Trocknung von Gemüsen
CH415863A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen mit mindestens einem pn-Uebergang und nach diesem Verfahren hergestelltes Halbleiterbauelement
CH415855A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit einem Siliciumkörper und mit mindestens einem pn-Übergang
CH364845A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen mit einem Halbleiterkörper und mindestens einer in den Halbleiterkörper einlegierten aluminiumhaltigen Elektrode
CH489601A (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Behandlung von Flüssigkeiten mit Enzymträgern
AT283624B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Flachglas
AT282494B (de) Verfahren und Einrichtung zur Verbesserung der Leistung einer mechanisch-biologischen Abwasserreinigungsanlage
AT302618B (de) Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von kunststoffimprägnierten Gegenständen