BR112021011616A2 - Método para operar uma instalação de revestimento para produzir sistemas de camadas - Google Patents

Abstract

método para operar uma instalação de revestimento para produzir sistemas de camadas. a invenção refere-se a um método de retroalimentação autocontrolado para operar ao menos uma instalação de revestimento (108) para produzir sistemas de camadas (10), a um método para produzir um sistema de camadas (10) em ao menos uma instalação de revestimento (108), a um método para ativar um processo de revestimento em ao menos uma instalação de revestimento (108) para produzir um sistema de camadas (10), a um sistema de revestimento (100) para produzir um sistema de camadas (10), a uma instalação de revestimento (108) para produzir um sistema de camadas (10), a um sistema (200) de instalações de revestimento (108) para produzir sistemas de camadas (10), a uma base de dados (106) para armazenar conjuntos de dados de instalação (dat), a um produto de programa de computador para um método para operar ao menos uma instalação de revestimento (108), e a um sistema de processamento de dados (124) para executar um programa de processamento de dados.

Description

"MÉTODO PARA OPERAR UMA INSTALAÇÃO DE REVESTIMENTO PARA PRODUZIR SISTEMAS DE CAMADAS" Técnica Anterior

[001] A invenção refere-se a um método para operar uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas. A invenção se refere ainda a um método para a produção de um sistema de camadas, a um método para a ativação de um processo de revestimento em uma instalação de revestimento, a um sistema de revestimento, a um sistema de instalações de revestimento, bem como a uma base de dados para armazenar conjuntos de dados de instalação, a um produto de programa de computador para um método para operar uma instalação de revestimento e a um sistema de processamento de dados para executar um método para operar uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas.

[002] Um método de revestimento implementado em um ambiente de fabricação com um processo de revestimento subjacente tipicamente exibe variações de batelada de revestimento para batelada de revestimento. Esses desvios devem-se ao fato de que a condição da instalação de revestimento muda ligeiramente, por exemplo, devido a vestígios de material de revestimento nas paredes da câmara de vácuo, a influências do operador ao carregar a instalação de revestimento com o material do revestimento, ao desgaste de vários componentes instalados na instalação de revestimento, e seus semelhantes.

[003] Um método economicamente sensível para manter os desvios de batelada de revestimento para batelada de revestimento os mais baixos possíveis consiste em uma manutenção de processo superprecisa, na qual o processo de revestimento subjacente é levemente ajustado de batelada de revestimento para batelada de revestimento, se necessário.

[004] Essa manutenção de processo requer um profundo know-how e até hoje só pode ser realizada com êxito por operadores bem treinados ou por pessoal capacitado.

[005] No caso do revestimento de substratos com um sistema de camadas, como é típico na indústria óptica, por exemplo, a manutenção de processo assemelha-se ao seguinte: Depois que um substrato óptico é revestido com um sistema de camadas, realiza-se uma medição óptica em ao menos um substrato revestido, na qual registra-se um sinal de medição espectralmente resolvido que reproduz o sistema óptico composto pelo substrato óptico e pelo sistema de camadas aplicado. No caso de revestimentos antirreflexo ou revestimentos espelhados, determina-se o reflexo espectral ou reflexibilidade do sistema óptico em um espectrômetro disponível na praça. O resultado é um conjunto de dados bidimensionais composto por tuplas de dados (por exemplo, comprimento de onda em nanômetros, refletividade em %). O operador compara esse conjunto de dados registrado ("conjunto de dados reais de instalação") a um conjunto de dados alvo da mesma natureza, que, no caso dos revestimentos antirreflexo ou revestimentos espelhados, descreve o reflexo espectral do sistema alvo.

[006] No caso de desvios intoleráveis na trajetória espectral ou nos parâmetros espectrais, tal como nos valores de cores L*, C*, h* (no dito espaço de cores CIELCh), o operador deve fazer uma correção ao processo de revestimento subjacente. Via de regra, o operador ajustará a espessura de camada física que será depositada, armazenada no processo de revestimento, de ao menos uma camada única do sistema de camadas. Essa seleção de camada normalmente baseia-se na experiência ou em rotinas predefinidas.

[007] Depois que uma nova batelada de revestimento é produzida por esse processo de revestimento, o operador pode determinar a eficácia de sua manutenção de processo por meio de uma nova comparação entre o conjunto de dados reais e o conjunto de dados alvo e pode ter que fazer novas correções fenomenológicas (não geradas numericamente) ao processo de revestimento.

[008] Esse método é por vezes um processo de tentativa e erro iterativo demorado e dispendioso que só pode ser executado por operadores peritos. Tal procedimento descrito, baseado na experiência, nem sempre conduzirá por certo ao resultado desejado. Além disso, a manutenção de processo baseada na experiência nem sempre conduzirá às mesmas relações de espessura de camada para os mesmo valores de cores ópticas. Isso pode levar a relações entre propriedades de camada e espessura de camada involuntariamente diversas.

[009] Elementos ópticos com revestimento antirreflexo interferométrico conhecidos, como os revelados na WO 2016/110339 A1, normalmente exibem uma refletância de luz de cerca de 1%, calculada de acordo com a norma DIN EN ISO 13666:2013-10. A cor do reflexo residual remanescente pode exibir forte variação quando o ângulo de visão muda. A variação pode estender-se por toda a escala visual de cores.

Revelação da Invenção

[010] O objetivo da invenção consiste em propor um método para a operação economicamente otimizada de uma instalação de camadas para a produção de sistemas de camadas.

[011] Outros objetivos da invenção consistem em revelar uma instalação de revestimento, um sistema de revestimento, um sistema de instalações de revestimento, além de uma base de dados, um produto de programa de computador e um sistema de processamento de dados para executar o referido método.

[012] Os objetivos são cumpridos graças aos traços das reivindicações independentes. Modelos favoráveis e vantagens da invenção transparecerão das demais reivindicações, da descrição e dos desenhos.

[013] A invenção é particularmente adequada para a produção de elementos ópticos. Entende-se que o método de acordo com a invenção não se limita à produção de elementos ópticos e revestimentos, tampouco à deposição de sistemas multicamada. À semelhança, o substrato sobre o qual deposita-se o sistema de camadas pode ou não ser transparente, de acordo com o necessário.

[014] Além disso, a invenção pode ser usada para um sistema de camadas composto por uma camada única depositada sobre um substrato e com uma espessura de camada. Isso não impede que uma camada promotora de adesão seja disposta entre a camada única e o substrato e/ou que a camada única seja revestida com uma camada protetora. A possível camada promotora de adesão e/ou camada protetora não exercem influência, ou ao menos não exercem influência significativa, sobre as propriedades investigadas do sistema de camadas com a camada única.

[015] Como alternativa, o sistema de camadas pode ser composto por várias camadas únicas depositadas uma sobre a outra em um substrato, sendo que cada camada única possui uma respectiva espessura de camada. As espessuras de camada das respectivas camadas únicas podem ser iguais ou diferentes. Também neste caso uma camada promotora de adesão pode ser disposta entre a camada única mais próxima do substrato e o substrato, e/ou o sistema de camadas pode ser revestido com uma camada protetora. A possível camada promotora de adesão e/ou camada protetora não exercem influência, ou ao menos não exercem influência significativa, sobre as propriedades investigadas do sistema de camadas com as várias camadas únicas.

[016] Salvo indicação em contrário, os termos usados na presente revelação serão entendidos à luz das normas DIN EN ISO 13666:2013-10 (EN ISO 13666:2012 (D/E)) e DIN EN ISO 11664-4:2012-06 (EN ISO 11664-4:2011) do Deutsches Institut für Normung e.V. de 2012 e 2011, respectivamente.

[017] De acordo com a seção 4.2 da DIN EN ISO 13666:2013-10, os termos "luz visível", "radiação visível" ou "faixa de comprimento de onda visível" referem-se à radiação óptica que é capaz de causar diretamente uma sensação de luz em seres humanos. A radiação visível refere-se em geral a uma faixa de comprimento de onda de 400 nm a 780 nm.

[018] No contexto da presente revelação, radiação visível pode referir-se, de preferência, a uma faixa de comprimento de onda de 400 nm ou 460 nm a 700 nm, que corresponde à sensibilidade máxima do olho humano. Isso pode aumentar simultaneamente a flexibilidade de modelo para o modelo das propriedades de filtro e da taxa de subida (slew rate).

[019] De acordo com a seção 15.1 da norma DIN EN ISO 13666:2013-10, os termos "refletância espectral", "refletância" ou "refletividade", respectivamente, referem-se à razão da potência radiante espectral refletida por cada material ou superfície ou revestimento, respectivamente, para a potência radiante incidente para um comprimento de onda (λ) específico. No presente caso, a refletividade refere-se à refletividade do revestimento como um todo, com suas várias subcamadas com índices de refração altos e baixos, e não à refletividade de uma única subcamada.

[020] De acordo com um primeiro aspecto da invenção, propõe-se um método para operar ao menos uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas, o método compreendendo: (i) detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real em um sistema de camadas real composto por uma ou mais camadas únicas, cada uma com uma espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, sendo que as uma ou mais camadas únicas são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação compreende ao menos a espessura de camada real de instalação da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(ii) associar a curva de medição real do sistema de camadas real de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real, a uma curva de medição alvo de um conjunto de dados alvo com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas com um conjunto de dados alvo, sendo que o conjunto de dados alvo compreende ao menos uma espessura de camada alvo conhecida da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(iii) gerar uma curva de medição real de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação das respectivas camadas únicas em ao menos um intervalo espectral da curva de medição real e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final com ao menos uma espessura de camada real de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição real é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(iv) gerar uma curva de medição alvo de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única em ao menos um intervalo espectral da curva de medição alvo e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição alvo é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

e

(v) prover o conjunto de dados alvo de simulação finais para a ao menos uma instalação de revestimento como um novo conjunto de dados de instalação para a deposição de um novo sistema de camadas com ao menos uma espessura de camada real de correção como uma nova espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas com o conjunto de dados alvo de simulação finais.

[021] Vantajosamente, o método de acordo com a invenção permite uma operação de instalações de revestimento autocontrolada e retroalimentada.

[022] Favoravelmente, a instalação de revestimento pode ser implementada para a produção de sistemas de camadas, tal como para elementos ópticos.

[023] Os pontos significantes da curva podem ser vantajosamente usados para encontrar o modelo alvo do sistema de revestimento correspondente a uma curva de medição do sistema de camadas examinado e, então, usá-lo para uma primeira aproximação na forma de um deslocamento horizontal e/ou lateral da curva de medição.

[024] O conjunto de dados alvo com a curva de medição alvo contém os dados alvo do revestimento ideal. Além de uma medição óptica espectralmente resolvida, esses dados podem conter outras quantidades alvo, tal como, por exemplo, na faixa espectral visível, os valores de cores L*, C* e h* e/ou quantidades espectrais calculáveis definidas, tal como transmissão média ou ponderada e/ou valores de reflexo em um intervalo a ser definido, conforme desejado. Exemplos de quantidades espectralmente calculáveis podem ser a faixa visual, bem como as faixas IR-A/IR-B e/ou UV-A/UV-B.

[025] Ademais, o conjunto de dados alvo contém intervalos espectrais específicos a revestimento aninhados de pequenos a grandes. O maior intervalo possível indicado representa o campo de visão espectral máximo. O número de intervalos é selecionável à vontade. O conjunto de dados alvo contém pontos espectrais característicos que corrigem de maneira inequívoca o layout óptico do revestimento.

[026] A curva de medição real compreende ao menos os dados da medição óptica realizada. O conjunto de dados de instalação compreende ao menos as espessuras de camada reais das várias camadas únicas definidas na instalação de revestimento, se o sistema de camadas for composto por várias camadas únicas, ou a espessura de camada real da uma camada única definida na instalação de revestimento, se o sistema de camadas for composto por uma só camada única, respectivamente.

[027] A curva de medição real de simulação compreende ao menos uma curva de medição espectral simulada, que de preferência representa a melhor correspondência possível com a medição óptica executada como curva de medição real.

[028] O conjunto de dados reais de simulação compreende ao menos uma espessura de camada real de simulação de uma das camadas únicas do sistema de camadas ou as espessuras de camada reais de simulação das várias camadas únicas do sistema de camadas determinadas no método de otimização iterativo.

[029] A curva de medição alvo de simulação compreende ao menos uma curva de medição espectral simulada, que de preferência representa a melhor correspondência possível entre a curva de medição alvo e a curva de medição real de simulação.

[030] O conjunto de dados alvo de simulação compreende ao menos as espessuras de camada alvo de simulação das várias camadas únicas determinadas no método de otimização iterativo ou a espessura de camada alvo de simulação da camada única com a melhor correspondência possível com a curva de medição alvo com recálculo através do conjunto de dados alvo de simulação. As uma ou mais espessuras de camada alvo de simulação definidas desse conjunto de dados representam favoravelmente os parâmetros de processo para a batelada de revestimento sucessiva.

[031] Para tanto, o conjunto de dados alvo de simulação compreende os parâmetros de cálculo definidos do sistema de camadas simulado para camadas as mais ideais possíveis e/ou processos ideais, propriedades materiais tais como índices de refração os mais ideais possíveis e condições de deposição as mais ideais possíveis, além de parâmetros de instalação tais como geometria de revestimento, controle da espessura de revestimento etc.

[032] Por outro lado, o conjunto de dados alvo de simulação correlaciona as diferenças ópticas entre a curva de medição real e a curva de medição real de simulação e, ao mesmo tempo, leva em consideração desvios relacionados ao sistema, tais como desvios morfológicos e técnicos de batelada de revestimento para batelada de revestimento, além de desvios não relacionados ao sistema, tais como diferenças de manuseio etc. Por outro lado, utiliza-se o conjunto de dados reais de simulação para calcular a curva de medição alvo de simulação de volta à curva de medição alvo.

[033] Com a ajuda desse conjunto de dados alvo de simulação, existe a possibilidade de uma nova análise das correlações entre parâmetros de instalação e parâmetros de camada e/ou propriedades de camada Para tanto, pode ser vantajoso ter recurso a um número estatisticamente relevante de conjuntos de dados.

[034] O método de acordo com a invenção propõe que uma curva de medição real de um sistema de camadas, que foi depositado sobre a instalação de revestimento, seja carregada no software de simulação de um computador de simulação.

[035] Vantajosamente, o processo de revestimento para um sistema de camadas pode consistir em aplicar uma camada única ou várias camadas únicas.

Cada camada única é descrita, de preferência, por um conjunto de parâmetros que contém a espessura de camada física ou óptica além de outros parâmetros, tais como taxa de deposição, fluxos de gás do processo etc. As uma ou mais camadas únicas do processo de revestimento podem ser compostas pelos materiais ZrO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, Si3N4, Nd2O5, Pr2O3, PrTiO3, La2O3, Nb2O5, Y2O3, Ce2O3, Dy2O5, HfO2, SiO2, MgF2, ZrF4, AIF3, Na3Al3F14, Na3AIF6, silanos e siloxanos, além de quaisquer misturas desses materiais. Todos os métodos típicos, como PVD, CVD, pulverização catódica e seus processos relacionados, podem ser usados como métodos de revestimento.

[036] Com a ajuda do software de simulação, pontos espectrais significantes, por exemplo, tais como valores extremos dos dados espectrais, pontos possivelmente selecionados tais como passagens de 1% onde o reflexo é de 1%, a meia-largura total de um pico na curva de medição ou seus semelhantes, são determinados a partir dos dados espectrais da curva de medição real de acordo com um critério de associação. Faz-se uma comparação com as curvas de medição alvo armazenadas em uma base de dados com base nos pontos espectrais determinados a fim de encontrar uma curva de medição alvo que corresponda à curva de medição real, ou de selecionar uma curva de medição alvo para a qual o desvio em relação à curva de medição real seja o menor possível, respectivamente. Todas as curvas de medição alvo são carregadas no software de simulação a partir da base de dados, e a correspondência entre os pontos característicos da curva de medição alvo com os respectivos pontos da curva de medição real é calculada para cada curva de medição alvo.

[037] Para todos os pontos espectrais com as respectivas coordenadas, a saber comprimento de onda na abscissa em relação à intensidade na ordenada, forma-se o quociente da abscissa correspondente da curva de medição real para a abscissa da curva de medição alvo, bem como o quociente médio dos quocientes determinados. Esses quocientes médios doravante são chamados de fatores de escalonamento e aplicam-se uniformemente a todo o sistema de camadas.

[038] Para cada um desses fatores de escalonamento, gera-se um conjunto de dados espectrais virtual, que resulta em uma primeira aproximação da espessura de camada, no caso de uma camada única, ou das espessuras de camada, no caso de várias camadas únicas, respectivamente, da curva de medição alvo multiplicada pelo fator de escalonamento correspondente.

[039] Isso gera um ponto inicial muito favorável para o método de otimização sucessivo. Esse fator de escalonamento é armazenado na base de dados para possíveis novas análises.

[040] Começando pela espessura de camada preliminar escalonada da camada única, ou das espessuras de camada preliminares escalonadas das várias camadas únicas, respectivamente, da etapa anterior, um método de otimização tem início em um intervalo espectral restrito. Esse intervalo espectral restrito é individual ao revestimento e armazenado no conjunto de dados alvo associado à curva de medição alvo como o primeiro possível dentre uma lista de intervalos do conjunto de dados alvo. Dentro do âmbito desse método de otimização, determina-se a espessura de camada da camada única, se o sistema de camadas for composto por uma camada única, ou as espessuras de camada das várias camadas únicas, se o sistema de camadas for composto por várias camadas únicas, respectivamente, que descrevem a curva de medição real com a curva de medição alvo de simulação subjacente em uma primeira aproximação.

[041] A partir da espessura de camada ou das espessuras de camada, respectivamente, obtidas na etapa anterior como as primeiras espessuras de camada reais de simulação, forma-se o quociente para a camada única ou para cada uma das várias camadas únicas, respectivamente, com a espessura de camada real correspondente, ou espessuras de camada reais, respectivamente, que foram definidas na instalação de revestimento. Esse recálculo resulta no primeiro conjunto de dados de simulação preliminar. Esse primeiro conjunto de dados de simulação preliminar é comparado às espessuras de camada alvo armazenadas no conjunto de dados alvo quanto à plausibilidade no nível da camada única. Um desvio de ±20% por espessura de camada única pode ser aceitável, uma vez que é uma primeira aproximação grosseira. Se o desvio for superior, o processo é reiniciado a partir da etapa anterior, mas, dessa vez, com uma restrição no método de otimização, a saber, de que a espessura de camada única para a qual a espessura de camada única ficou fora da faixa especificada seja restrita a essa faixa.

[042] Idealmente, essa restrição não se faz necessária. Se o for, contudo, a espessura de camada de todas as camadas únicas pode ser restrita de acordo.

[043] Depois dessa etapa, um segundo conjunto preliminar em uma espessura de camada para uma camada única ou em várias espessuras de camada para várias camadas únicas é disponibilizado. Se nenhuma restrição foi necessária, esse segundo conjunto de dados reais de simulação é idêntico ao primeiro conjunto de dados reais de simulação preliminar.

[044] Para cada novo intervalo espectral da lista de intervalos do conjunto de dados alvo, aplica-se agora o método de otimização. O método de otimização corrente sempre utiliza o conjunto do conjunto de dados reais de simulação do método de otimização anterior.

[045] Tipicamente, pode-se usar um algoritmo simples adaptado como método de otimização, mas outros métodos de simulação conhecidos podem ser igualmente adequados. O software de simulação para esses métodos de otimização é disponibilizado na praça por várias produtoras, por exemplo, o software de simulação comercial "Essential MacLeod" ou outros software de simulação renomados para a produção de revestimentos ópticos, por exemplo.

[046] Quando todas as iterações de intervalo se passarem, os dados espectrais aproximam a curva de medição real de bom acordo e uma primeira curva de medição real de simulação final se faz presente, além de um conjunto correspondente de espessuras de camada reais de simulação. Esses dois conjuntos de parâmetros compõem o conjunto de dados reais de simulação, que é armazenado temporariamente.

[047] Essas etapas são repetidas até satisfazer um critério de encerramento, por exemplo, até obter um resultado estável de acordo com um método de seleção estatística. De preferência, considera-se a curva inteira para esse fim, em particular, por exemplo, no que diz respeito a desvios de qui-quadrados e seus semelhantes.

[048] Quando os dados espectrais da curva de medição real são aproximados no melhor acordo possível, o conjunto de dados reais de simulação final pode ser gerado com as uma ou mais espessuras de camada reais de simulação.

[049] Agora, o processo de otimização é reiniciado, com a diferença de que, agora, a otimização entre a curva de medição real de simulação e a curva de medição alvo ocorre a fim de reproduzir os dados espectrais do conjunto de dados alvo. Além disso, o conjunto de dados reais de simulação agora foi corrigido e não será mais alterado.

[050] Ao fim desse procedimento, uma, se o sistema de camadas for composto por uma camada única, ou várias, se o sistema de camadas for composto por várias camadas únicas, espessuras de camada alvo de simulação fazem-se disponíveis, as quais geram o conjunto de dados alvo de simulação. Com base nessas uma ou mais espessuras de camada alvo de simulação, calculam-se as uma ou mais espessuras de camada reais de correção como as próximas uma ou mais espessuras de camada reais de instalação por recálculo com o conjunto de dados alvo de simulação, as quais são definidas, ou transmitidas, respectivamente, na instalação de revestimento.

[051] As vantagens da invenção estão no fato de que, à diferença do procedimento apresentado na técnica anterior, com o método de acordo com a invenção, obtém-se um controle analítico abrangente do processo de revestimento, o qual baseia-se por inteiro em cálculos numéricos.

[052] Como opção, com o método de acordo com a invenção, não só as espessuras de revestimento podem ser levadas em consideração e corrigidas, mas outros parâmetros de processo também podem ser monitorados, se necessário, por exemplo, a condição de uma instalação, a idade e/ou condição das fontes de revestimento, a idade e/ou condição dos equipamentos de medição nas instalações de revestimento, a condição de carregamento com substratos durante o revestimento, e seus semelhantes.

[053] O método de acordo com a invenção pode aplica-se à auto-otimização automática de um processo de revestimento existente, bem como à autoconfiguração automática de novos processos de revestimento, tal como a ativação de instalações de revestimento. Por "ativação", os versados na técnica entendem a nova preparação, ou primeira configuração, respectivamente, de um novo processo de revestimento e sistema de revestimento em uma instalação de revestimento.

[054] A otimização/monitoramento contínuo garante que os sistemas de camadas produzidos dessa maneira, por exemplo, elementos ópticos, tenham o menor desvio possível em relação aos dados alvo.

[055] Além disso, conjuntos de parâmetros recém-introduzidos, tais como conjuntos de dados de instalação e conjuntos de dados de simulação, e o monitoramento dos mesmos, abrem novas possibilidades para o movimento dos revestimentos e instalação.

[056] Vantajosamente, o método de acordo com a invenção resulta em possíveis economias na fabricação de sistemas de revestimento, por exemplo, para elementos ópticos. Uma reação/notificação imediata pode se dar em caso de defeitos processuais de causa técnica. Por exemplo, no caso de defeitos agregados na instalação de revestimento, a batelada seguinte pode ser interrompida imediatamente, evitando assim uma batelada defeituosa. No caso de falhas de instalação ou processo insidiosas, o desalinhamento pode ser evitado por uma correção de revestimento imediata e contínua, em que o conjunto de parâmetros de correção específico à instalação a indica.

[057] A manutenção da instalação de revestimento pode ser simplificada.

Evitam-se diferenças individuais no controle processual em razão de pessoas diferentes. A garantia de qualidade no lado do revestimento é possível nesse sistema autocontrolado, e não a jusante como era antes.

[058] Além disso, há oportunidades de economia vantajosas na engenharia.

A ativação de novos processos pode ser controlada remotamente de fora. Um conjunto de parâmetros recém-introduzido abre novas formas de entender problemas de instalação, processo e camada antes sem solução.

[059] De acordo com uma modalidade vantajosa do método de acordo com a invenção, o critério de encerramento é atingido quando ao menos uma das condições a seguir é satisfeita: (i) um resultado estável está sendo obtido para o critério de associação de acordo com um método de seleção estatística; (ii) o desvio entre a curva de medição real e a curva de medição real de simulação encontra-se dentro de uma faixa de tolerância; (iii) o número máximo de iterações foi realizado.

[060] Vantajosamente, um resultado ideal pode ser obtido se um resultado estável estiver sendo obtido para o critério de associação de acordo com um método de seleção estatística.

[061] Se o desvio entre a curva de medição real e a curva de medição real de simulação estiver dentro de uma faixa de tolerância, obtém-se um resultado ao menos satisfatório.

[062] Se o número máximo de iterações tiver sido realizado, o esforço computacional pode ser limitado.

[063] De acordo com um modelo vantajoso do método de acordo com a invenção, a espessura de camada alvo da respectiva camada única pode ser usada como valor inicial da espessura de camada real de simulação. Isso traz bons resultados do método. Como alternativa, ou em aditamento, a espessura de camada real de simulação da respectiva camada única pode ser usada como valor inicial da espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única. Em especial em combinação com a espessura de camada alvo como o valor inicial da espessura de camada real de simulação da respectiva camada única, os resultados do método podem ser adicionalmente aprimorados.

[064] Como alternativa, ou em aditamento, uma espessura de camada predeterminada da respectiva camada única pode ser usada como valor inicial da espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única. Isso é favorável, por exemplo, se valores empíricos para uma espessura de camada favorável já se fizerem presentes, ou, se várias camadas únicas forem depositadas, se valores empíricos para espessuras de camada favoráveis das camadas únicas já se fizerem disponíveis. Além do mais, com um valor inicial quase arbitrário das espessuras de camada das camadas únicas, um resultado suficientemente bom para um sistema de camadas pode ser obtido com um número de iterações proporcionalmente maior.

[065] De acordo com um modelo vantajoso do método de acordo com a invenção, a geração da curva de medição real de simulação, ou da curva de medição alvo de simulação, respectivamente, pode compreender ainda: determinar um fator de escalonamento como valor médio de quocientes de valores de abscissa da curva de medição real, ou da curva de medição real de simulação, respectivamente, e da curva de medição alvo para valores de abscissa determinados de acordo com o critério de associação, e o escalonar a espessura de camada alvo, se o sistema de camadas for composto por uma camada única, ou as várias espessuras de camada alvo, se o sistema de camadas for composto por várias camadas únicas; ou as uma ou mais espessuras de camada reais de simulação das uma ou mais camadas únicas, respectivamente, com o fator de escalonamento como valores iniciais das uma ou mais espessuras de camada reais de simulação, ou das uma ou mais espessuras de camada alvo de simulação, respectivamente.

[066] Logo, de acordo com o método de acordo com a invenção, a curva de medição real de simulação é gerada a partir da curva de mediação real e das espessuras de camada alvo a fim de determinar valores iniciais para as espessuras de camada reais de simulação, ao passo que a curva de medição alvo de simulação é gerada a partir da curva de medição real de simulação e das espessuras de camada reais de simulação a fim de determinar valores iniciais para as espessuras de camada alvo de simulação.

[067] Isso gera o melhor ponto inicial possível para o método de otimização sucessivo.

[068] De acordo com uma modalidade vantajosa do método de acordo com a invenção, a geração da curva de medição real de simulação, ou da curva de medição alvo de simulação, respectivamente, pode compreender ainda:

ao menos para o primeiro intervalo para cada uma das várias camadas únicas, se o sistema de camadas tiver várias camadas únicas, ou para a camada única, se o sistema de camadas tiver só uma camada única: formar um quociente da primeira espessura de camada real de simulação final correspondente, ou da primeira espessura de camada alvo de simulação final correspondente, respectivamente, e da espessura de camada real de instalação correspondente, sendo que as primeiras espessuras de camada reais de simulação, ou as espessuras de camada alvo de simulação, respectivamente, são geradas escalonando as espessuras de camada reais de simulação, ou as espessuras de camada alvo de simulação, respectivamente, com o quociente.

[069] Logo, para gerar a curva de medição real de simulação, utilizam-se as espessuras de camada reais de simulação, ao passo que, para gerar a curva de medição alvo de simulação, utilizam-se as espessuras de camada alvo de simulação.

[070] Dessa forma, valores iniciais favoráveis podem ser gerados de maneira adequada para uma nova otimização quando do ajuste das curvas de medição reais de simulação, ou das curvas de medição alvo de simulação, respectivamente.

[071] De acordo com uma modalidade vantajosa do método de acordo com a invenção, a geração da curva de medição real de simulação, ou da curva de medição alvo de simulação, respectivamente, pode compreender ainda: verificar a única primeira espessura de camada real de simulação ou as várias espessuras de camada reais de simulação, ou a espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única quanto a ao menos um critério, em particular a plausibilidade e/ou o desvio predeterminado da respectiva espessura de camada alvo da curva de medição alvo, e, se o ao menos um critério se fizer ausente,

repetir a variação da espessura de camada real de simulação da respectiva camada única, ou da espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única e a provisão de uma primeira espessura de camada real de simulação final, ou de uma espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única, bem como a geração da primeira espessura de camada real de simulação, ou espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, sendo que, para a camada única ou para as várias camadas únicas que fracassaram no critério, uma restrição é especificada quando da variação, e prover uma segunda espessura de camada real de simulação, ou espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas.

[072] Logo, para gerar a curva de medição real de simulação, utilizam-se as espessuras de camada reais de simulação, ao passo que, para gerar a curva de medição alvo de simulação, utilizam-se as espessuras de camada alvo de simulação.

[073] Esse procedimento facilita o estreitamento dos parâmetros no método de otimização e, com isso, acelera a determinação dos conjuntos de parâmetros otimizados.

[074] De acordo com um modelo vantajoso, o método de acordo com a invenção compreende ainda: repetir as etapas em um ou mais intervalos espectrais adicionais, sendo que cada intervalo sucessivo inclui o intervalo anterior, sendo que a segunda espessura de camada real de simulação, ou a espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única do intervalo anterior é definida como valor inicial no intervalo sucessivo, e prover uma espessura de camada real de simulação final, ou espessura de camada alvo de simulação, respectivamente, da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas.

[075] Logo, aninhamentos de intervalos iterativos são realizados cada um separadamente para espessuras de camada reais de simulação e espessuras de camada alvo de simulação.

[076] Dessa forma, pode-se obter vantajosamente uma aproximação eficaz das curvas de medição de simulação às curvas de medição reais medidas, com o que os parâmetros de ajuste podem ser assim sucessivamente refinados. O risco de que um mínimo desfavorável seja determinado no processo de otimização pode ser reduzido dessa maneira.

[077] De acordo com um modelo vantajoso do método de acordo com a invenção, é possível produzir um elemento óptico, o qual compreende um substrato e um sistema de camadas redutor de reflexo interferométrico sobre ao menos uma superfície do substrato, sendo que o sistema de camadas compreende uma pilha de ao menos quatro pacotes de camadas sucessivos, sendo que cada pacote de camadas compreende um par de camadas únicas primeira e segunda, sendo que as primeiras camadas únicas têm uma primeira espessura óptica e as segundas camadas únicas têm uma segunda espessura óptica diferente da primeira, sendo que o índice de refração das respectivas primeiras camadas únicas mais próximas ao substrato é superior ao índice de refração das respectivas segundas camadas únicas mais distantes do substrato na pilha, sendo que o sistema de camadas possui uma luminosidade, um croma e um ângulo de matiz de uma cor de reflexo residual, sendo que o valor de uma mudança no ângulo de matiz da cor de reflexo residual em um intervalo de um ângulo de visão com os valores limite de 0° e 30°,

em relação a uma normal de superfície ao sistema de camadas, é inferior ao valor de uma mudança no croma no intervalo do ângulo de visão, sendo que as etapas a seguir são praticadas: - definir um modelo de camada, compreendendo ao menos um primeiro material para primeiras camadas únicas com alto índice de refração e um segundo material para segundas camadas únicas com baixo índice de refração, o número desejado de pacotes de camadas com as camadas únicas e os valores iniciais da espessura das camadas únicas; - definir valores de cor alvo compreendendo luminosidade, croma e ângulo de matiz ao menos em valores limite para um intervalo de um ângulo de visão com valores limite de 0° e 30°; - executar um método de otimização para variar as espessuras de camada única até atingir uma meta de otimização.

[078] Vantajosamente, os valores de cor alvo nos valores limite do intervalo podem ser escolhidos para ser iguais ou semelhantes.

[079] Em particular, os desvios máximos para os ângulos de matiz de diferentes cores de reflexo residual podem ser predeterminados.

[080] Vantajosamente, o sistema de camadas pode ter quatro ou cinco pacotes de camadas. porém, também podem ser providos mais de cinco pacotes de camadas.

[081] O croma também pode ser chamado de saturação de cor. O ângulo de matiz também pode ser chamado de ângulo de cor.

[082] Vantajosamente, ao variar as espessuras de camada das subcamadas, pode-se obter um sistema de camadas de cores estáveis, cuja cor de reflexo residual não muda ou só muda ligeiramente mesmo com uma mudança maior no ângulo de visão. Vantajosamente, uma cor de reflexo residual estável pode ser obtida por uma combinação adequada de croma e ângulo de matiz sobre uma ampla faixa de ângulos de visão.

[083] As primeiras subcamadas, mais próximas ao substrato, dos pacotes de camadas na pilha podem ser feitas do mesmo primeiro material. As segundas subcamadas, distantes do substrato, também podem ser feitas do mesmo segundo material, que difere do primeiro material das primeiras subcamadas. Pode-se providenciar que uma camada funcional de um terceiro material, que possui propriedades refrativas equiparáveis à segunda subcamada, seja disposta, no pacote de camadas mais distante do substrato, entre as subcamadas primeira e segunda. Para fins de cálculo, a camada funcional pode ser associada à segunda subcamada, se necessário. Como alternativa, os materiais das primeiras subcamadas podem variar na pilha. Outrossim, pode-se providenciar alternativamente que os materiais dos quais as segundas subcamadas são feitas variem na pilha.

[084] De acordo com uma modalidade vantajosa do método de acordo com a invenção, o ângulo de matiz no intervalo do ângulo de visão com os valores limite 0° e 30° pode mudar em até 15°, de preferência em até 10°; e/ou o valor de mudança no ângulo de matiz em um segundo intervalo de um ângulo de visão de 0° a um ângulo de visão limite com um valor limite superior entre 30° e 45°, em relação à normal de superfície ao sistema de camadas, pode ser inferior ao valor de uma mudança no croma no segundo intervalo do ângulo de visão, e o valor da croma no ângulo de visão limite pode ser de ao menos 2, em particular sendo que o ângulo de matiz no segundo intervalo pode mudar em até 20°, de preferência em até 15°; e/ou a refletância fotópica no intervalo do ângulo de visão com os valores limite 0° e 30° pode ser de até 1,5%, de preferência de até 1,2%; e/ou a refletância escotópica no intervalo do ângulo de visão com os valores limite 0° e 30° pode ser de até 1,5%, de preferência de até 1,2%.

[085] A impressão de cores do reflexo residual do sistema óptico permanece por completo ou quase inalterada para um observador.

[086] Vantajosamente, uma cor de reflexo residual estável decorre mesmo com maior variação do ângulo de visão.

[087] Vantajosamente, as primeiras subcamadas podem ser feitas de um material com alto índice de refração.

[088] Favoravelmente, as primeiras subcamadas podem ter ao menos um dos compostos Ta2O5, TiO2, ZrO2, Al2O3, Nd2O5, Pr2O3, PrTiO3, La2O3, Nb2O5, Y2O3, HfO2, óxido de InSn, Si3N4, MgO, CeO2, ZnS e/ou suas modificações, em particular seus outros estados de oxidação e/ou misturas dos mesmos com silanos e/ou siloxanos.

[089] Esses materiais são conhecidos como materiais com alto índice de refração clássicos para implementação em elementos ópticos, tal como para revestir lentes de óculos. No entanto, as subcamadas com índice de refração mais alto também podem conter SiO2 ou outros materiais com índice de refração mais baixo, contanto que o índice de refração da subcamada como um todo seja superior a 1,6, de preferência de ao menos 1,7, mais preferivelmente de ao menos 1,8, mais preferivelmente ainda de ao menos 1,9.

[090] Vantajosamente, as segundas subcamadas podem ser feitas de um material com baixo índice de refração.

[091] As subcamadas com índice de refração mais baixo podem ter ao menos um dos materiais MgF2, SiO, SiO2, SiO2 com adições de Al, silanos, siloxanos em forma pura ou com seus derivados fluorados. No entanto, as subcamadas com índice de refração mais baixo também podem conter uma mistura de SiO2 e Al2O3.

De preferência, as subcamadas com índice de refração mais baixo podem conter ao menos 80% em peso de SiO2, mais preferivelmente ao menos 90% em peso de SiO2.

[092] De preferência, o índice de refração das subcamadas com índice de refração mais baixo é de até 1,55, de preferência de até 1,48, particularmente de preferência de até 1,4. Essas indicações de índices de refração referem-se a condições normais a uma temperatura de 25° C, bem como a um comprimento de onda de referência da intensidade de luz usada de 550 nm.

[093] Exemplos típicos de materiais de camada com diferentes índices de refração incluem dióxido de silício (SiO2) com um índice de refração de 1,46, óxido de alumínio (Al2O3) com um índice de refração de 1,7, dióxido de zircônio (ZrO2) com um índice de refração de 2,05, óxido de titânio de praseodímio (PrTiO3) com um índice de refração de 2,1, óxido de titânio (TiO2) e sulfeto de zinco (ZnS), ambos com um índice de refração de 2,3. Esses valores representam valores médios que podem variar em até 10% dependendo do método de revestimento e da espessura de camada.

[094] Vidros ópticos comuns têm índices de refração entre 1,5 e 2,0. Materiais de camada com índices de refração menores que 1,5, tais como MgF2, SiO2, são, portanto, chamados de materiais com baixo índice de refração em combinação a vidros ópticos, ao passo que materiais de camada com índices de refração maiores que 2,0, tais como ZrO2, PrTiO3, TiO2, ZnS, são chamados de materiais com alto índice de refração em combinação a vidros ópticos.

[095] A diferença nos índices de refração entre os materiais com alto índice de refração e baixo índice de refração das primeiras e segundas subcamadas é, de preferência, de ao menos 0,2 a ao menos 0,5, dependendo do método de revestimento e da espessura de camada.

[096] Os materiais usados para esse tipo de revestimento são os típicos materiais aplicados a um substrato na indústria óptica por meio, por exemplo, de métodos PVD (PVD = deposição física em vapor) ou métodos CVD (CVD = deposição química em vapor).

[097] De acordo com uma modalidade favorável do elemento óptico, ao menos as primeiras subcamadas podem ser feitas de um mesmo primeiro material e as segundas subcamadas podem ser feitas ao menos predominantemente de um mesmo segundo material.

[098] Como opção, as segundas subcamadas podem ser feitas do mesmo segundo material e ter uma camada funcional ente a primeira subcamada e a segunda subcamada somente no pacote de camadas mais distante do substrato. A camada funcional pode ter um índice de refração baixo e pode ser adicionada à segunda subcamada para fins de cálculo, se necessário.

[099] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um método para a produção de um sistema de camadas a partir de uma camada única ou de várias camadas únicas em ao menos uma instalação de revestimento, o método compreendendo: (i) detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real em um sistema de camadas real composto por uma ou mais camadas únicas, cada uma com uma espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, sendo que as uma ou mais camadas únicas são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação compreende ao menos a espessura de camada real de instalação da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas; (ii) associar a curva de medição real do sistema de camadas real de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real, a uma curva de medição alvo de um conjunto de dados alvo com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas com um conjunto de dados alvo, sendo que o conjunto de dados alvo compreende ao menos uma espessura de camada alvo conhecida da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(iii) gerar uma curva de medição real de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação das respectivas camadas únicas em ao menos um intervalo espectral da curva de medição real e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final com ao menos uma espessura de camada real de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição real é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(iv) gerar uma curva de medição alvo de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única em ao menos um intervalo espectral da curva de medição alvo e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição alvo é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(v) prover o conjunto de dados alvo de simulação finais para a ao menos uma instalação de revestimento como um novo conjunto de dados de instalação para a deposição de um novo sistema de camadas com ao menos uma espessura de camada real de correção como uma nova espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas com o conjunto de dados alvo de simulação finais.

[0100] Vantajosamente, o método iterativo pode ser realizado para um ou mais intervalos espectrais, sendo que cada intervalo sucessivo inclui o intervalo anterior.

[0101] Etapas simples do método descrito acima para operar uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, um elemento óptico, podem ser assim vantajosamente aplicadas à produção do próprio sistema de camadas.

[0102] Vantajosamente, usando-se o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, o mesmo permite uma operação autocontrolada e retroalimentada de instalações de revestimento para sistemas de camadas, em particular para sistemas de camadas ópticas.

[0103] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um método para ativar um processo de revestimento em ao menos uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de camadas, sendo que uma curva de medição real de uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa é ao menos aproximada em uma curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento, o método compreendendo: (i) detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real em um sistema de camadas real composto por uma ou mais camadas únicas, cada uma com uma espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, sendo que as uma ou mais camadas únicas são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação compreende ao menos a espessura de camada real de instalação da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(ii) associar a curva de medição real do sistema de camadas real de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real, a uma curva de medição alvo de um conjunto de dados alvo com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas com um conjunto de dados alvo, sendo que o conjunto de dados alvo compreende ao menos uma espessura de camada alvo conhecida da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(iii) gerar uma curva de medição real de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação das respectivas camadas únicas em ao menos um intervalo espectral da curva de medição real e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final com ao menos uma espessura de camada real de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição real é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(iv) gerar uma curva de medição alvo de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única em ao menos um intervalo espectral da curva de medição alvo e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição alvo é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(v) prover o conjunto de dados alvo de simulação finais para a ao menos uma instalação de revestimento como um novo conjunto de dados de instalação para a deposição de um novo sistema de camadas com ao menos uma espessura de camada real de correção como uma nova espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas com o conjunto de dados alvo de simulação finais.

[0104] Vantajosamente, usando-se o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, o mesmo permite um modo de operação autocontrolado e retroalimentado ao ativar processos de revestimento em instalações de revestimento.

[0105] Tipicamente, a ativação de instalações de revestimento requer um tempo considerável, que pode ser vantajosamente encurtado.

[0106] A ativação de uma nova instalação de revestimento pode ser executada com mais eficácia e mais rapidez com o método autocontrolado e retroalimentado de acordo com a invenção para operar uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, para um elemento óptico. Isso resulta em economias potenciais consideráveis durante o preparo da instalação de revestimento. Além disso, a ativação da instalação de revestimento pode ser controlada até mesmo de maneira remota, o que resulta em novas economias em potencial graças à menor quantidade de pessoal operando no local.

[0107] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um sistema de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, para um elemento óptico, o sistema compreendendo ao menos: uma instalação de revestimento para revestir um substrato com um sistema de camadas; um computador de controle para controlar a instalação de revestimento e para se comunicar com um computador de simulação;

um dispositivo de medição óptica para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida do sistema de camadas; um computador de simulação onde é instalado um software de simulação para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas; uma base de dados para armazenar conjuntos de dados de instalação; um dispositivo de entrada para comandar e controlar o computador de simulação e/ou a instalação de revestimento.

[0108] Dessa forma, o sistema de revestimento compreende todos os componentes necessários para uma ativação e operação eficazes da instalação de revestimento de acordo com o método de acordo com a invenção, conforme descrito acima.

[0109] Como resultado, a ativação de uma nova instalação de revestimento com o método de acordo com a invenção para operar uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de revestimento pode ser executada com mais eficácia e mais rapidamente. Isso resulta em economias potenciais consideráveis ao preparar a instalação de revestimento. Além disso, a ativação da instalação de revestimento pode ser controlada até mesmo de maneira remota, o que resulta em novas economias em potencial graças à menor quantidade de pessoal operando no local.

[0110] A instalação de revestimento compreende, por exemplo, uma câmara de vácuo com agregados associados para o revestimento de substratos, tais como várias fontes de revestimento, aberturas, suportes de vidro, bombas etc.

[0111] Vantajosamente, usando o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, o sistema de revestimento pode ser operável de uma maneira autocontrolada e retroalimentada.

[0112] O computador de controle do sistema de revestimento controla o processo de revestimento na instalação de revestimento e gere a comunicação com a instalação de revestimento. Para a troca automática de dados, esse computador pode ter ao menos uma conexão de rede.

[0113] No dispositivo de medição óptica, é possível registrar um sinal de medição espectralmente resolvido, que reproduz o elemento óptico composto pelo substrato óptico e pelo sistema de camadas aplicado. Essa chamada curva de medição real pode ser provida como um conjunto de dados bidimensionais composto por tuplas de dados, por exemplo, como comprimento de onda em nanômetros, refletividade em %. Esses dados são chamados de "dados espectrais".

[0114] O software de simulação é instalado no computador de simulação.

[0115] O software de simulação é um programa de computador que pode ao menos extrair o conjunto de dados gerado pelo dispositivo de medição óptica. Além disso, o software de simulação pode extrair e emitir conjuntos de dados da instalação de revestimento.

[0116] O software implementa o método descrito de acordo com a invenção como um algoritmo de controle. O software trabalha com a base de dados e transmite, por exemplo, conjuntos de dados alvo da base de dados, armazena conjuntos de dados de simulação recém-calculados na base de dados. Ademais, o software implementa ao menos um algoritmo de otimização/ajuste arbitrário como é encontrado em programas de simulação disponíveis na praça, por exemplo, em "Essential MacLeod".

[0117] Na base de dados, os conjuntos de dados alvo de simulação obtidos são armazenados para cada instalação de revestimento e para cada processo de revestimento e podem ser retransmitidos em um momento posterior. Além disso, a base de dados contém os conjuntos de dados alvo correspondentes para todos os processos de revestimento armazenados.

[0118] A troca bidirecional de dados entre o computador de controle da instalação de revestimento e o software de simulação pode ser realizada diretamente pelo software de simulação e uma conexão de rede existente com o computador de controle da instalação de revestimento ou pode-se usar outro software, que assume a troca de dados e mune o software de simulação de dados oriundos da instalação de revestimento e transfere dados de volta à instalação de revestimento no sentido oposto. No caso manual, essa troca de dados ocorre através da interação com um operador através de um dispositivo de entrada.

[0119] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposta uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, para um elemento óptico, em particular conforme descrito acima, a instalação de revestimento compreendendo um componente para a aplicação de um processo de envelhecimento artificial ao sistema de camadas.

[0120] Oportunamente, o sistema de camadas produzido na instalação de revestimento também pode ser envelhecido artificialmente na mesma instalação a fim de obter uma curva de medição real estacionária ao determinar as propriedades espectrais do sistema de camadas. Isso resulta em alto grau de certeza ao determinar as espessuras de camada de correção corretas para os novos sistemas de camadas uma vez que as propriedades dos sistemas de camadas já não mais mudarão significativamente ao longo do tempo.

[0121] Vantajosamente, usando-se o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, o mesmo permite uma operação autocontrolada e retroalimentada de instalações de revestimento.

[0122] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposta uma instalação de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, para um elemento óptico, em particular conforme descrito acima, a instalação de revestimento compreendendo: um dispositivo de medição óptica para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida do sistema de revestimento e/ou um componente para a aplicação de um processo de envelhecimento artificial ao sistema de camadas.

[0123] Favoravelmente, um dispositivo de medição óptica para a determinação in situ dos dados espectrais do sistema de camadas produzido também pode ser disposto na própria instalação de revestimento. Isso elimina incertezas durante a transferência do sistema de revestimento a partir da instalação de revestimento e possíveis mudanças subsequentes ao sistema de camadas.

Assim, a determinação de uma (no caso de um sistema de camadas com uma camada única) ou mais espessuras de camada de correção adequadas pode ser executada mais diretamente. A otimização dos conjuntos de dados de instalação para o método de revestimento pode ser assim realizada com mais eficácia.

Vantajosamente, um componente para envelhecimento artificial do sistema de camadas produzido também pode ser integrado à instalação de revestimento. O sistema de camadas produzido na instalação de revestimento pode ser assim oportunamente envelhecido artificialmente na mesma instalação a fim de obter uma curva de medição real estacionária ao determinar as propriedades espectrais do elemento óptico.

[0124] Isso resulta em alto grau de certeza ao determinar as uma ou mais espessuras de revestimento corretivas corretas para os novos sistemas de camadas uma vez que as propriedades dos sistemas de camadas já não mais mudarão significativamente ao longo do tempo.

[0125] Vantajosamente, usando o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, o sistema de revestimento pode ser operável de uma maneira autocontrolada e retroalimentada.

[0126] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um sistema de instalações de revestimento para a produção de um sistema de camadas, por exemplo, para elementos ópticos, em particular conforme descrito acima, o sistema compreendendo ao menos: uma ou mais instalações de revestimento para revestir ao menos um substrato com um sistema de camadas; um ou mais computadores de controle para controlar ao menos uma instalação de revestimento e para se comunicar com um computador de simulação, um dispositivo de medição óptica para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida do sistema de camadas; um computador de simulação onde é instalado um software de simulação para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas e que se comunica com o computador de controle da instalação de revestimento; uma base de dados para armazenar conjuntos de dados de instalação; e um dispositivo de entrada para comandar e controlar o computador de simulação e/ou as uma ou mais instalações de revestimento.

[0127] Em um sistema de várias instalações de revestimento desse tipo, as várias instalações de revestimento podem ser controladas por um computador de simulação, o que resulta em economias potenciais consideráveis ao operar as instalações de revestimento. Dessa forma, conhecimento e/ou conjuntos de dados que são obtidos em uma instalação de revestimento também podem ser transferidos com eficácia para outra instalação de revestimento.

[0128] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposta uma base de dados para armazenar conjuntos de dados de instalação para um método para operar ao menos uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas, por exemplo, para elementos ópticos, em particular um método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, que compreende:

(i) detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real em um sistema de camadas real composto por uma ou mais camadas únicas, cada uma com uma espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, sendo que as uma ou mais camadas únicas são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação compreende ao menos a espessura de camada real de instalação da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(ii) associar a curva de medição real do sistema de camadas real de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real, a uma curva de medição alvo de um conjunto de dados alvo com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas com um conjunto de dados alvo, sendo que o conjunto de dados alvo compreende ao menos uma espessura de camada alvo conhecida da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(iii) gerar uma curva de medição real de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação das respectivas camadas únicas em ao menos um intervalo espectral da curva de medição real e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final com ao menos uma espessura de camada real de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição real é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento;

(iv) gerar uma curva de medição alvo de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única em ao menos um intervalo espectral da curva de medição alvo e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição alvo é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação até satisfazer um critério de encerramento; (v) prover o conjunto de dados alvo de simulação finais para a ao menos uma instalação de revestimento como um novo conjunto de dados de instalação para a deposição de um novo sistema de camadas com ao menos uma espessura de camada real de correção como uma nova espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas com o conjunto de dados alvo de simulação finais.

[0129] Os conjuntos de dados de instalação compreendem ao menos conjuntos de dados de instalação, conjuntos de dados alvo, conjuntos de dados reais de simulação e/ou conjuntos de dados alvo de simulação.

[0130] Com a ajuda da referida base de dados, uma ampla variedade de conjuntos de dados de instalação, conjuntos de dados alvo, conjuntos de dados reais de simulação e/ou conjuntos de dados alvo de simulação pode ser acessada com eficácia. Dessa forma, descobertas de outros processos de revestimentos e/ou de processos de revestimento anteriores podem ser adicionalmente usadas de maneira favorável ou transferidas a outras instalações de revestimento e/ou processos.

[0131] Vantajosamente, por meio da base de dados usando o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, uma instalação de revestimento ou sistema de instalações de revestimento pode ser operado de maneira autocontrolada e retroalimentada.

[0132] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um produto de programa de computador para um método para operar ao menos uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas, por exemplo, para elementos ópticos, sendo que o produto de programa de computador compreende ao menos um meio de armazenamento legível por computador que compreende instruções de programa que são executáveis em um sistema de computador e fazem com que o sistema de computador execute um método que compreende:

(i) detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real em um sistema de camadas real composto por uma ou mais camadas únicas, cada uma com uma espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, sendo que as uma ou mais camadas únicas são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação compreende ao menos a espessura de camada real de instalação da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(ii) associar a curva de medição real do sistema de camadas real de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real, a uma curva de medição alvo de um conjunto de dados alvo com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas com um conjunto de dados alvo, sendo que o conjunto de dados alvo compreende ao menos uma espessura de camada alvo conhecida da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas;

(iii) gerar uma curva de medição real de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação das respectivas camadas únicas em ao menos um intervalo espectral da curva de medição real e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final com ao menos uma espessura de camada real de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição real é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação até satisfazer um critério de encerramento; (iv) gerar uma curva de medição alvo de simulação de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação da respectiva camada única em ao menos um intervalo espectral da curva de medição alvo e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas, com o que a curva de medição alvo é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação até satisfazer um critério de encerramento; (v) prover o conjunto de dados alvo de simulação finais para o ao menos um sistema de revestimento como um novo conjunto de dados de instalação para a deposição de um novo sistema de camadas com ao menos uma espessura de camada real de correção como uma nova espessura de camada real de instalação da respectiva camada única, que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final da respectiva camada única dentre as uma ou mais camadas únicas com o conjunto de dados alvo de simulação finais.

[0133] O produto de programa de computador pode prover o software para controlar e operar instalações de revestimento de maneira modular e torná-lo acessível a uma ampla variedade de sistemas de processamento de dados.

[0134] Vantajosamente, por meio do produto de programa de computador usando o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, uma instalação de revestimento ou sistema de instalações de revestimento pode ser operado de maneira autocontrolada e retroalimentada.

[0135] De acordo com outro aspecto, em particular independente, da invenção, é proposto um sistema de processamento de dados para a execução de um programa de processamento de dados que compreende instruções de programa legíveis por computador para executar um método para operar ao menos uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas, por exemplo, para elementos ópticos, em particular conforme descrito acima. O sistema de processamento de dados pode compreender favoravelmente o computador de simulação e a base de dados, e também o computador de controle da instalação de revestimento.

[0136] Vantajosamente, por meio do sistema de processamento de dados usando o método de acordo com o primeiro aspecto da invenção, uma instalação de revestimento ou sistema de instalações de revestimento pode ser operado de maneira autocontrolada e retroalimentada.

Desenhos

[0137] Outras vantagens transparecerão com base na descrição dos desenhos a seguir. Nas figuras, ilustram-se modalidades exemplificativas da invenção. As figuras, a descrição e as reivindicações contêm diversos traços em combinação. Os versados na técnica oportunamente também considerarão os traços individualmente e combiná-los-ão para formar outras combinações úteis.

O disposto a seguir ilustra, à guisa de exemplo: na Fig. 1, um diagrama em blocos de um sistema de revestimento de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção; na Fig. 2, um fluxograma do método para operar ao menos uma instalação de revestimento para a produção de sistemas de camadas para elementos ópticos de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção; na Fig. 3, um fluxograma do método de acordo com a invenção; na Fig. 4, um fluxograma detalhado do método de acordo com a invenção;

na Fig. 5, um elemento óptico com um sistema de camadas com cinco pacotes de camadas sobre um substrato de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção; na Fig. 6, curvas de refletividade de um sistema de camadas de acordo com a invenção a uma incidência de luz perpendicular com a comparação de uma curva de mediação real e uma curva de medição alvo na faixa de comprimento de onda de 280 nm a 800 nm; na Fig. 7, uma representação ampliada das curvas de refletividade da Fig. 6; na Fig. 8, curvas de refletividade do sistema de camadas a uma incidência de luz perpendicular com uma comparação da curva de medição alvo e uma curva de medição alvo de simulação escalonada; na Fig. 9, curvas de refletividade do sistema de camadas a uma incidência de luz perpendicular com uma comparação da curva de medição alvo e uma curva de medição alvo simulada ajustada em um primeiro intervalo espectral de 380 nm a 580 nm; na Fig. 10, curvas de refletividade do sistema de camadas a uma incidência de luz perpendicular com uma comparação da curva de medição alvo e uma curva de medição alvo simulada ajustada em um intervalo espectral maior de 380 nm a 780 nm; na Fig. 11, curvas de refletividade do sistema de camadas a uma incidência de luz perpendicular com uma comparação da curva de medição real e uma curva de medição alvo simulada ajustada ao longo de toda a faixa de comprimento de onda de 280 nm a 800 nm; na Fig. 12, um diagrama em blocos de um sistema de instalações de revestimento de acordo com outra modalidade exemplificativa da invenção.

Modalidades da Invenção

[0138] Nas figuras, componentes do mesmo tipo ou com o mesmo efeito são designados com os mesmos números de referência. As figuras meramente ilustram exemplos e não devem ser entendidas como limitantes.

[0139] A terminologia direcional usada doravante, com termos como "esquerda", "direita", "superior", "inferior", "anterior", "atrás", "posterior" e seus semelhantes, visa meramente a facilitar o entendimento das figuras e não visa de forma alguma a representar uma limitação da generalidade. Os componentes e elementos representados, seu modelo e uso podem variar de acordo com as considerações de um versado na técnica e podem ser adaptados às respectivas aplicações.

[0140] A Figura 1 ilustra um diagrama em blocos de um sistema de revestimento 100 de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção.

Vantajosamente, o sistema de revestimento 100 pode ser operável com um processo de controle autocontrolado e retroalimentado. O sistema de revestimento 100 para a produção de um sistema de camadas 10 para um elemento óptico 80 compreende ao menos uma instalação de revestimento 108 para revestir um substrato 22 com um sistema de camadas 10 para um elemento óptico 80.

[0141] A estrutura de um elemento óptico 80 com um sistema de camadas 10 sobre um substrato 22 é representada na Figura 5.

[0142] O sistema de revestimento 100 compreende ainda um computador de controle 110 para controlar a instalação de revestimento 108 e para se comunicar com um computador de simulação 102, um dispositivo de medição óptica para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida 90 do sistema de camadas 10, um computador de simulação 102 onde é instalado um software de simulação 104 para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas 10, uma base de dados 106 para armazenar conjuntos de dados de instalação DAT, e um dispositivo de entrada 114 para comandar e controlar o computador de simulação 102 e/ou a instalação de revestimento 102 através de entradas manuais 120.

[0143] A base de dados 106 é empregada de preferência de acordo com um aspecto, em particular um aspecto independente, para executar um método de acordo com o primeiro aspecto da invenção.

[0144] A base de dados 106 serve para armazenar conjuntos de dados de instalação DAT para um método para operar a instalação de revestimento 108 para a produção de sistemas de camadas 10 para elementos ópticos 80, sendo que os conjuntos de dados de instalação DAT compreendem ao menos conjuntos de dados de instalação DAT_n, DAT_n+1, conjuntos de dados alvo DAT_target, conjuntos de dados reais de simulação DAT_actual_sim e/ou conjuntos de dados alvo de simulação DAT_target_sim.

[0145] Um produto de programa de computador é implementado no computador de simulação 102 para um método de acordo com o primeiro aspecto da invenção para operar ao menos uma instalação de revestimento 108 para a produção de sistemas de camadas 10 para elementos ópticos 80, sendo que o produto de programa de computador compreende ao menos um meio de armazenamento legível por computador que compreende instruções de programa que são executáveis no sistema de computador 102 e fazem com que o sistema de computador 102 execute o método.

[0146] O produto de programa de computador pode ser considerado um aspecto independente da invenção, em particular para executar um método de acordo com o primeiro aspecto da invenção em um computador de simulação 102 de um sistema de processamento de dados 124.

[0147] O sistema de processamento de dados 124, que compreende ao menos o computador de simulação 102 e o software de simulação 104, serve para a execução de um programa de processamento de dados que compreende instruções de programa legíveis por computador para executar o método para operar a instalação de revestimento 108 para a produção de sistemas de camadas 10 para elementos ópticos 80.

[0148] O sistema de processamento de dados 124 pode ser considerado um aspecto distinto da invenção, em particular para executar um método de acordo com o primeiro aspecto da invenção com um computador de simulação 102.

[0149] A instalação de revestimento 108 pode compreender, como opção, um componente 116 para a aplicação de um processo de envelhecimento artificial ao sistema de camadas 10 para garantir razões estáveis do elemento óptico 80 ao medir espectralmente o sistema de camadas 10 no dispositivo de medição óptica 112, 118.

[0150] Também como opção, a instalação de revestimento 108 também pode compreender um dispositivo de medição óptica 118 para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida 90 do sistema de camadas 10, de modo que medições in situ das propriedades espectrais do sistema de camadas 10 possam ser executadas na própria instalação de revestimento 180 e retroalimentação direta possa ser transmitida ao computador de simulação 102.

[0151] Na Figura 2, uma sequência do método de acordo com um primeiro aspecto da invenção para operar ao menos uma instalação de revestimento 108 para a produção de sistemas de camadas 10 para elementos ópticos 80 de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção é representada graficamente e descrita nas Figuras 3 e 4 como um fluxograma, ou como um fluxograma detalhado, respectivamente, em etapas individuais.

[0152] Na primeira etapa S100 (i), o método para operar a instalação de revestimento 108 de acordo com o primeiro aspecto da invenção compreende detectar ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como uma curva de medição real 90 em um sistema de camadas real 10_n composto por uma sequência de camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 com respectivas espessuras de camada reais de instalação d_actual_11, ..., d_actual_20. As camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 são assim produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação DAT_n da instalação de revestimento 108. O conjunto de dados de instalação DAT_n compreende ao menos as espessuras de camada reais de instalação d_actual_11, ..., d_actual_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20.

[0153] Na etapa S102 seguinte, (ii) associa-se a curva de medição real 90 do sistema de camadas real 10_n de acordo com um critério de associação, que, em particular, pode compreender pontos espectrais significantes da curva de medição real 90, a uma curva de medição alvo 92 de um conjunto de dados alvo DAT_target com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas com conjunto de dados alvo 10_target composto por camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20. O conjunto de dados DAT_target compreende ao menos espessuras de camada alvo conhecidas d_target_11, ..., d_target_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 e pode ser recuperado a partir da base de dados 106 através do computador de simulação 102.

[0154] Em uma etapa adicional S104, (iii) gera-se uma curva de medição real de simulação 94 de acordo com um método iterativo ao variar ao menos espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 em ao menos um intervalo espectral 82 da curva de medição real 90. Isso resulta em um conjunto de dados reais de simulação final DAT_actual_sim com ao menos espessuras de camada reais de simulação finais g_actual_11, ..., g_actual_20, com o que a curva de medição real 90 é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação 94.

Esse método iterativo é realizado até satisfazer um critério de encerramento, por exemplo, até obter um resultado estável para o critério de associação de acordo com um método de seleção estatística (verificação S114 e consulta S116 na Figura 4).

Como valores iniciais das espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, por exemplo, as espessuras de camada alvo d_target_11, ..., d_target_20 são usadas no método iterativo.

[0155] Na etapa S104 seguinte, (iii) gera-se uma curva de medição alvo de simulação 98 de acordo com um método iterativo ao variar ao menos as espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 em ao menos um intervalo espectral 82 da curva de medição real 92. Isso resulta em um conjunto de dados alvo de simulação finais DAT_target_sim com ao menos espessuras de camada alvo de simulação finais g_target_11, ..., g_target_20, com o que a curva de medição alvo 92 é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação 98. Esse método iterativo é realizado até satisfazer um critério de encerramento, por exemplo, até obter um resultado estável para o critério de associação de acordo com um método de seleção estatístico (verificação S115 e consulta S117 na Figura 4). Por exemplo, as espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20 são usadas como valores iniciais das espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20 no método iterativo.

[0156] Em uma etapa final S108, (v) alimenta-se o conjunto de dados alvo de simulação finais DAT_target_sim à instalação de revestimento 108 como um novo conjunto de dados de instalação DAT_n+1 para a deposição de um novo sistema de camadas 10_n+1 com ao menos espessuras de camada reais de correção d_corr_11, ..., d_corr_20 como novas espessuras de camada reais de instalação d_actual_11, ..., d_actual_20. Essas são determinadas a partir das espessuras de camada alvo de simulação finais g_target_11, ..., g_target_20 com o conjunto de dados alvo de simulação finais DAT_target_sim.

[0157] Para gerar a curva de medição real de simulação 94, ou curva de medição alvo de simulação 98, respectivamente, na etapa S104, ou S106, respectivamente, um fator de escalonamento 122 pode ser determinado em uma etapa S110, ou S111, respectivamente, como um valor médio de quocientes de valores de abscissa da curva de medição real 90, ou da curva de medição real de simulação 94, respectivamente, e da curva de medição alvo 92 para valores de abscissa determinados de acordo com o critério de associação. Com esse fator de escalonamento 122, as espessuras de camada alvo d_target_11, ..., d_target_20; ou as espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, respectivamente, das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 são escalonadas e determinadas como valores iniciais das espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou das espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20.

[0158] Para gerar a curva de medição real de simulação 94, ou a curva de medição alvo de simulação 98, respectivamente, na etapa S104, ou S106, respectivamente, em cada caso em uma etapa S112, ou S113, respectivamente, ao menos para o primeiro intervalo 82 para cada uma das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, um quociente 126 pode ser formado a partir da primeira espessura de camada real de simulação final correspondente g_actual_11, ..., g_actual_20, ou da primeira espessura de camada alvo de simulação final correspondente g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, e da espessura de camada real de instalação correspondente d_actual_11, ..., d_actual_20. Com o quociente 126, as primeiras espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, são geradas ao escalonar as espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou as espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, com o quociente 126.

[0159] Em uma etapa S114, ou S115, respectivamente, as primeiras espessuras de camada real de simulação únicas g_actual_11, ..., g_actual_20, ou as espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, podem ser verificadas quanto a ao menos um critério, em particular a plausibilidade e/ou um desvio predeterminado em relação às respectivas espessuras de camada alvo g_target_11, ..., g_target_20 da curva de medição alvo

94. Se o ao menos um critério se fizer ausente, a variação das espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou das espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, nas etapas S104, S106 e a provisão S108 de primeiras espessuras reais de simulação finais g_actual_11, ..., g_actual_20, ou de espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, bem como a geração da primeira espessura de camada real de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou da espessura de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, são repetidas, sendo que, para as camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 que fracassaram no critério, uma restrição é especificada quando da variação S104, S106. Sucessivamente, as segundas espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou as espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, são providas.

[0160] As etapas S104, S106, S112, S113, S114, S115 podem ser repetidas em um ou mais intervalos espectrais adicionais 84, 86, sendo que cada intervalo sucessivo 84, 86 inclui o intervalo anterior 82, 84, e sendo que as segundas espessuras de camada reais de simulação g_actual_11, ..., g_actual_20, ou espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, do intervalo anterior 82, 84 são definidas como valores iniciais no intervalo sucessivo 84, 86, e espessuras de camada reais de simulação finais g_actual_11, ..., g_actual_20, ou espessuras de camada alvo de simulação g_target_11, ..., g_target_20, respectivamente, são providas.

[0161] Vantajosamente, o método descrito para a produção de um sistema de camadas 10 para um elemento óptico 80 pode ser executado de tal modo que o método iterativo seja executado para um ou mais intervalos espectrais, 82, 84, 86, sendo que cada intervalo sucessivo 84, 86 inclui o intervalo anterior 82, 84. Além disso, o método descrito também pode ser usado para ativar um processo de revestimento em ao menos uma instalação de revestimento 108 para a produção de um sistema de camadas 10 para um elemento óptico 80.

[0162] A Figura 5 ilustra, à guisa de exemplo, um elemento óptico 80 com um sistema de camadas 10 sobre um substrato 22, por exemplo, uma lente de óculos, de acordo com uma modalidade exemplificativa da invenção. O sistema de camadas redutor de reflexo interferométrico 10 é disposto sobre ao menos uma superfície 24 do substrato 22. Vantajosamente, o sistema de camadas 10 é produzível por um método autocontrolado e retroalimentado de acordo com o primeiro aspecto da invenção.

[0163] Como a camada mais inferior sobre o substrato 22, o sistema de camadas 10 pode incluir, convencionalmente, uma camada intermediária de camada única ou multicamada 30, por exemplo, para aprimorar a adesão da pilha 40 e/ou como proteção contra arranhões ao substrato 22. Essa camada intermediária 30 pode consistir, convencionalmente, por exemplo, em óxidos de metal, cromo, silanos ou siloxanos subestequiométricos com baixo índice de refração. A camada intermediária 30 não é relevante para outras considerações das propriedades ópticas.

[0164] Na Figura 5, por exemplo, cinco pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 de uma pilha 40 são dispostos sucessivamente sobre a camada intermediária 30.

[0165] Uma pilha 40 de ao menos quatro, neste exemplo cinco, pacotes de camada sucessivos 42, 44, 46, 48, 50 é disposta sobre a camada intermediária 30, sendo que cada pacote de camadas 42, 44, 46, 48, 50 compreende um par de primeiras camadas únicas 11, 13, 15, 17, 19 e segundas camadas únicas 12, 14, 16, 18, 20.

[0166] O pacote de camadas 42 mais próximo ao substrato compreende a camada única 11 mais próxima ao substrato e a camada única 12 mais distante do substrato, o pacote de camadas seguinte 44 compreende a camada única 13 mais próxima ao substrato e a camada única 14 mais distante do substrato, o pacote de camadas 46 consecutivo a esses compreende a camada única 15 mais próxima ao substrato e a camada única 16 mais distante do substrato, o pacote de camadas 48 consecutivo a esses a camada única 17 mais próxima ao substrato e a camada única 18 mais distante do substrato, e o pacote de camadas 50 mais distante do substrato a camada única 19 mais próxima ao substrato e a camada única 20 mais distante do substrato.

[0167] Como opção, o pacote de camadas 50 mais distante do substrato pode ter uma camada funcional 34 entre a subcamada 19 mais próxima ao substrato e a subcamada 20 mais distante do substrato, que pode atuar, por exemplo, para aumentar a condutividade elétrica, para equalização da tensão mecânica e/ou como uma barreira de difusão. Essa camada funcional 34 pode ser feita de um material com baixo índice de refração e pode ser ligada a outros óxidos de metal, tais como, por exemplo, alumínio. Para fins de cálculo e simulação das propriedades ópticas, a camada funcional 34 pode ser adicionada à subcamada com índice de refração mais baixo 20 do pacote de camadas mais superior 50, mais distante do substrato, ou, se necessário, pode ser descartada, por exemplo, se a espessura de camada for relativamente baixa.

[0168] Em cada pacote de camadas 42, 44, 46, 48, 50, cada uma das primeiras camadas únicas correspondentes 11, 13, 15, 17, 19 possui uma primeira espessura óptica t1 e cada uma das segundas camadas únicas correspondentes 12, 14, 16, 18, 20 possui uma segunda espessura óptica t2 diferente da primeira t1 no respectivo pacote de camadas 42, 44, 46, 48, 50.

[0169] O índice de refração n1 das respectivas primeiras camadas únicas 11, 13, 15, 17, 19 mais próximas ao substrato é superior ao índice de refração n2 das respectivas segundas camadas únicas 12, 14, 16, 18, 20 mais distantes do substrato na pilha 40. O sistema de camadas 10 possui uma luminosidade L*, um croma C* e um ângulo de matiz h de uma cor de reflexo residual, sendo que o valor de uma mudança Δh no ângulo de matiz h da cor de reflexo residual em um intervalo de um ângulo de visão AOI com os valores limite de 0° e 30°, em relação a uma normal de superfície 70 ao sistema de camadas 10, é inferior ao valor de uma mudança ΔC* no croma C* no intervalo do ângulo de visão AOI.

[0170] O sistema de camadas é visto por um observador a um ângulo de visão AOI de 0° em relação a um ângulo limite, por exemplo, de 30°, medido a partir da normal de superfície 70.

[0171] Para projetar o sistema de camadas 10, as etapas a seguir são favoravelmente executadas: - definir um modelo de camadas compreendendo ao menos um primeiro material para as primeiras camadas únicas com alto índice de refração 11, 13, 15, 17, 19 e um segundo material para as segundas camadas únicas com baixo índice de refração 12, 14, 16, 18, 20, o número desejado de pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 com as camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 e os valores iniciais da espessura das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20;

- definir valores de cor alvo compreendendo luminosidade L*, croma C* e ângulo de matiz h ao menos em valores limite para um intervalo de um ângulo de visão AOI com valores limite de 0° e 30°; - executar um método de otimização para variar as espessuras de camada única d_actual_11, ..., d_actual_20 até atingir um objetivo de otimização.

[0172] O substrato 22 é, por exemplo, um plástico, em particular um plástico transparente para uma lente de óculos.

[0173] Em particular, o termo "lente de óculos", no contexto da presente revelação, refere-se a uma lente de óculos revestida de acordo com a seção 8.1.13 da norma DIN EN ISO 13666:2013-10, portanto, uma lente de óculos à qual aplicaram-se um ou mais revestimentos de superfície, em particular para modificar uma ou mais de suas propriedades.

[0174] De preferência, as referidas lentes de óculos podem ser empregadas vantajosamente, em particular, como óculos claros (com ou sem correção), óculos escuros, óculos de proteção para ski, óculos de proteção de trabalho, além de óculos relacionados a dispositivos de exibição de vestir (chamados de "head- mounted display" ou HMD).

[0175] No contexto da presente revelação, o termo "lente de óculos" pode compreender ainda produtos de lente de óculos semiacabados, em particular uma lente de óculos em branco ou produto de lente de óculos semiacabado de acordo com a seção 8.4.2 da norma DIN EN ISO 13666:2013-10, isto é, uma lente em branco ou lente com só uma das superfícies opticamente acabada.

[0176] Com referência aos modelos na Figura 5, a superfície oposta 26 do substrato 22 pode opcionalmente ter outro sistema de camadas 10, similar ou idêntico, não ter revestimento nenhum ou ter só um revestimento protetor (não ilustrado).

[0177] De preferência, cada uma das camadas únicas 11, 13, 15, 17, 19 mais próximas ao substratos é feita de um primeiro material idêntico. De preferência, o primeiro material é um material com índice de refração mais alto com um primeiro índice de refração n1.

[0178] De preferência, cada uma das camadas únicas 12, 14, 16, 18, 20 mais distantes do substratos é feita de um segundo material idêntico. De preferência, o segundo material é um material com baixo índice de refração com um segundo índice de refração n2. O índice de refração n1 é superior ao índice de refração n2; de preferência a diferença dos índices de refração n1, n2 é de ao menos 0,2, de preferência de até ao menos 0,5.

[0179] A ordem das primeiras camadas únicas 11, 13, 15, 17, 19 e segundas camadas únicas 12, 14, 16, 187, 20 permanece a mesma na pilha 40, de modo que, em cada pacote de camadas 42, 44, 46, 48, 50, a respectiva primeira camada única 11, 13, 15, 17, 19 mais próxima ao substrato tem sempre o índice de refração mais alto e a respectiva segunda camada única 12, 14, 16, 18, 20 mais distante do substrato tem sempre o índice de refração mais baixo dentre as camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20.

[0180] Em particular, as camadas únicas com índice de refração mais alto 11, 13, 15, 17, 19 podem ser camadas de materiais com alto índice de refração e as camadas únicas com índice de refração mais baixo 12, 14, 16, 18, 20 podem ser camadas de materiais com baixo índice de refração.

[0181] Os pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 na pilha 40 diferem somente em sua respectiva espessura e/ou nas espessuras das camadas únicas individuais 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 em cada pacote de camadas 42, 44, 46, 48, 50.

[0182] De uma maneira reconhecida, a pilha 40 termina com uma camada de cobertura 32 que serve, por exemplo, para manter o sistema de camadas 10. A camada de cobertura 32 é aplicada à última camada única opticamente relevante 20 do pacote de camadas mais superior 50 da pilha 40 e pode conter, por exemplo, moléculas contendo flúor. A camada de cobertura 32 normalmente propicia uma propriedade de manutenção aprimorada à pilha 40, com propriedades tais como uma função impermeável a água e a óleo a uma energia de superfície tipicamente inferior a 15 mN/m.

[0183] Fora isso, a camada de cobertura 32 não é relevante para considerações adicionais das propriedades ópticas do sistema de camadas 10.

[0184] As propriedades ópticas da pilha 40 do sistema de camadas 10 podem ser simuladas computacionalmente por meio de métodos de cálculo e/ou métodos de otimização conhecidos em si. O sistema de camadas 10 é então produzido com as espessuras de camada determinadas das subcamadas únicas 60, 62 dos pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50.

[0185] Na produção de sistemas de camadas ópticas 10, as propriedades ópticas do sistema de camadas 10 são ajustadas durante a produção das subcamadas 60, 62. Por exemplo, o método conhecido da WO 2016/110339 A1 pode ser usado, o qual é brevemente delineado abaixo. Com esse método conhecido, vários efeitos ópticos, tais como espelhamento e redução do reflexo, podem ser obtidos em um sistema material mudando apenas as espessuras de camada mas mantendo-se o mesmo material usado No entanto, outros métodos também são possíveis.

[0186] Ao variar as espessuras dos pacotes de camadas, conforme descrito na WO 2016/110339 A1, embora mantenham-se os mesmo materiais, diferentes refletividades podem ser obtidas, especialmente para um efeito redutor de reflexo.

Isso se dá minimizando ou otimizando, respectivamente, um parâmetro σ. O parâmetro σ, por sua vez, é uma função das espessuras de camada das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, ou de razões das espessuras ópticas t1,

t2 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, respectivamente, de cada um dos quatro pacotes de camadas 42, 44, 46, 48 (não ilustrado) ou cinco pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 de acordo com a Figura 5, respectivamente, na pilha 40.

[0187] A certo comprimento de onda λ, a espessura óptica t de uma camada, também chamada FWOT (espessura óptica de onda total), é determinada por: d t= ∙n λ onde d representa a espessura de camada, λ representa o comprimento de onda do modelo, e n representa o índice de refração das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20.

[0188] Um efeito redutor de reflexo por parte da pilha 40 pode ser obtido para uma refletividade predeterminada Rm da pilha 40 se o produto da refletividade Rm e parâmetro σ for definido em menos que 1: Rm ∙σ<1

[0189] A refletividade Rm, também chamada de refletância, aqui descreve a razão de intensidade refletida para intensidade incidente de um feixe luminoso como quantidade de energia. A refletividade Rm é promediada oportunamente ao longo da faixa da luz de 380 nm a 800 nm e referida a 100 %.

[0190] A referida condição pode ser aplicada como condição limite para um processo de otimização do método para a produção do sistema de camadas 10.

[0191] As espessuras ópticas t1, t2 das primeiras e segundas camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 dos pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 são determinadas determinando o parâmetro σ por meio de um método de otimização, de preferência por meio de um cálculo variacional.

[0192] Nele, de preferência, as espessuras das respectivas camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, quando cinco pacotes de camadas 42, 44, 46,

48, 50 estão na pilha 40, são formadas em função de um quociente (com i = 1, 2, 3, 4, 5) da primeira espessura óptica t1 das respectivas primeiras camadas únicas com índice de refração mais alto 11, 13, 15, 17, 19 e da segunda espessura óptica t2 das segundas camadas únicas com índice de refração mais baixo 12, 14, 16, 18, 20 da respectiva pilha de camadas 42, 44, 46, 48, 50.

[0193] Em um modelo vantajoso, em um sistema de camadas 10 de acordo com a figura 5, o parâmetro σ para uma pilha 40 com cinco pacotes de camadas sucessivos 42, 44, 46, 48, 50 pode ser determinado com base na relação , onde i = operações de 2 a nmax = 5.

[0194] Os índices i = 1, 2, 3, 4, 5 designam a ordem dos pacotes de camadas 42, 44, 46, 48, 50 sobre o substrato 22. Logo, v1 designa o pacote de camadas 42 mais próximo ao substrato e v5 designa o pacote de camadas 50 mais distante do substrato.

[0195] Sabe-se como especificar perceptualmente cores relacionadas no chamado espaço de cores CIE-L*a*b* (espaço de cores CIELab simplificado) nas coordenadas cartesianas, conforme estabelecido na DIN EN ISO 1 1664-4:2012-06 (EN ISO 11664-4:2011).

[0196] L* é a luminosidade CIELab, a*, b* são as coordenadas CIELab, C* é o croma CIELab, e hab é o ângulo de matiz CIELab.

[0197] O eixo L* descreve a luminosidade (luminância) da cor com valores de 0 a 100. O eixo L* é perpendicular ao plano a*b* no ponto zero. Ele também pode ser chamado de eixo cinza neutro porque, entre as extremidades preta (L* = 0) e branca (L* = 100), estão contidas todas as cores acromáticas (tons de cinza).

[0198] No eixo a*, verde e vermelho são opostos um ao outro, o eixo b* corre entre azul e amarelo. Tons de cor complementares são opostos um ao outro em 180°, em seu centro, isto é, a origem de coordenada a* = 0, b* = 0 é cinza.

[0199] O eixo a* descreve o componente verde ou componente vermelho de uma cor, sendo que os valores negativos designam valores verde e positivo para vermelho. O eixo b* descreve o componente azul ou componente amarelo de uma cor, sendo que os valores negativos designam valores azul e positivo para amarelo.

[0200] Os valores a* variam de cerca de -170 a +100, os valores b* variam de -100 a +150, os valores máximos só sendo atingidos a luminosidade média de certos tons de cor. O corpo de cores CIELab possui sua maior extensão na faixa de luminosidade média, mas essa extensão varia em altura e tamanho dependendo da faixa de cores.

[0201] O ângulo de matiz CIELab hab deve ter entre 0° e 90° se ambos a* e b* forem positivos, entre 90° e 180° se b* for positivo e a* for negativo, entre 180° e 270° se ambos a* e b* forem negativos, e entre 270° e 360° se b* for negativo e a* for positivo.

[0202] No espaço de cores CIE-L*C*h (espaço de cores CIELCh simplificado), as coordenadas cartesianas do espaço de cores CIELab são transformadas em coordenadas polares. As coordenadas cilíndricas C* (croma, saturação de cor relativa, distância do eixo L no centro) e h (ângulo de matiz, ângulo do tom de cor no círculo de cores CIELab) são especificadas. A luminosidade CIELab L* permanece inalterada.

O ângulo de matiz h decorre dos eixos a* e b* b* h=arctan a* O ângulo de matiz h aqui designa a cor do reflexo residual do sistema de camadas redutor de reflexo 10.

O croma C* resulta em 2 2 C* = (a* ) +(b* ) O croma C* também é chamado de profundidade de cor.

[0203] Para definir as espessuras de camada d_target_11, ..., d_target_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, realiza-se um método de otimização para variar as espessuras de camada única d_target_11, ..., d_target_20 até satisfazer a otimização alvo. O método de otimização, em seguida, varia as espessuras de camada única d_target_11, ..., d_target_20 até satisfazer a otimização alvo (estabilidade de cores).

[0204] O ângulo de matiz h pode, com isso, mudar no intervalo do ângulo de visão AOI com os valores limite 0° e 30° em até 15°, de preferência em até 10°. O valor da mudança Δh no ângulo de matiz h em um segundo intervalo de um ângulo de visão AOI de 0° até um ângulo de visão limite Ɵ com valores limite superiores 30° e 45°, em relação à normal de superfície 70 ao sistema de camadas 10, pode ser inferior ao valor de uma mudança ΔC* no croma C* no segundo intervalo do ângulo de visão AOI, e o valor do croma C* no ângulo de visão limite Ɵ pode ser de ao menos Ɵ = 2, em particular o ângulo de matiz h no segundo intervalo pode mudar em até 20°, de preferência em até 15°.

[0205] A refletância fotópica Rv no intervalo do ângulo de visão AOI com os valores limite 0° e 30° pode ser vantajosamente de até 1,5%, de preferência de até 1,2%.

[0206] A refletância escotópica Rv' no intervalo do ângulo de visão AOI com os valores limite 0° e 30° pode ser vantajosamente de até 1,5%, de preferência de até 1,2%.

[0207] Nas Figuras 6 a 11, as curvas de refletividade na incidência perpendicular de luz como curvas de medição reais 90 junto com curvas de medição alvo 92, ou curvas de medição reais de simulação 94, respectivamente, são respectivamente representadas.

[0208] A Figura 6 ilustra curvas de refletividade de um sistema de camadas 10 de acordo com a invenção com uma comparação de uma curva de mediação real

90 (linha sólida) e uma curva de medição alvo 92 (linha tracejada) na faixa de comprimento de onda de 280 nm a 800 nm; a Figura 7 ilustra uma representação ampliada das curvas de refletividade da Figura 6. A curva de medição alvo 92 foi determinada por meio de uma comparação de valores extremos da base de dados 106 como a curva de medição alvo 92 com a curva de medição real 90. Um forte deslocamento do pico pode ser observado na faixa de baixo comprimento de onda entre 280 nm e 380 nm e na representação ampliada na Figura 7 na faixa de comprimento de onda de 380 nm e 680 nm.

[0209] Na Figura 8, as curvas de refletividade do sistema de camadas 10 com uma comparação da curva de medição alvo 92 (linha tracejada) e uma curva de medição alvo de simulação escalonada 98 (linha sólida) são representadas. Sendo assim, ocorreu um deslocamento horizontal da curva de medição alvo de simulação

98. O sistema de camadas completo 10 foi escalonado, isto é, o vetor que contém todas as espessuras de camada física g_target_11, ..., g_target_20 das camadas únicas 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 representando o sistema de camadas 10 foi multiplicado por um fator de escalonamento 122, isto é, cada camada única 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 foi engrossada, ou afilada, respectivamente, pelo mesmo fator de escalonamento 122.

[0210] A Figura 9 ilustra curvas de refletividade do sistema de camadas 10 com uma comparação da curva de medição alvo 92 e uma curva de medição alvo de simulação 98 ajustada a ela em um primeiro intervalo espectral 82 de 380 nm a 580 nm. Nele, o algoritmo simples foi aplicado para o método de otimização iterativo. O algoritmo foi iniciado com o alvo de otimização para mapear a curva de medição alvo de simulação 98 da etapa anterior o mais precisamente possível à curva de medição alvo 92 no intervalo de 380 nm a 580 nm mudando as espessuras de camada física g_target_11, ..., g_target_20. Isso resulta em uma aproximação excelente de ambas as curvas de medição 92, 98 no intervalo selecionado 82.

[0211] A Figura 10 ilustra curvas de refletividade do sistema de camadas 10 com uma comparação da curva de medição alvo 92 e uma curva de medição alvo simulada 98 ajustada a ela em um maior intervalo espectral 84 de 380 nm a 780 nm.

Dessa vez, uma otimização simples foi aplicada no intervalo maior 84 de 380 nm a 780 nm. Nenhuma relação das espessuras de camada foi levada em consideração.

Na faixa de comprimento de onda mais baixa por volta de 400 nm, a qualidade da concordância entre ambas as curvas de medição 92, 98 é ligeiramente pior, ao passo que é melhor na faixa de comprimento de onda mais alta de 580 nm a 680 nm.

[0212] A Figura 11 ilustra curvas de refletividade do sistema de camadas 10 com uma comparação da curva de medição alvo 92 e uma curva de medição alvo de simulação 98 ajustada a ela ao longo de toda a faixa de comprimento de onda como um intervalo 86 de 280 nm a 800 nm. Dessa vez, uma otimização simples foi aplicada no intervalo maior 86 de 280 nm a 800 nm. Nenhuma relação das espessuras de camada foi levada em consideração. A qualidade da concordância entre ambas as curvas de medição 92, 98 piorou ligeiramente na faixa de comprimento de onda média de 480 nm a 580 nm, mas, em média, melhorou em toda a faixa de comprimento de onda de 280 nm a 800 nm.

[0213] A Figura 12 ilustra um diagrama em blocos de um sistema 200 de instalações de revestimento 108 de acordo com outra modalidade da invenção. O sistema 200 também pode ser considerado um sistema independente que é operável com um processo autocontrolado e retroalimentado de acordo com o primeiro aspecto da invenção. Sob esse aspecto, o sistema 200 de instalações de revestimento 108 para a produção de sistemas de camadas 10 para elementos ópticos 80 compreende duas instalações de revestimento 108 para revestir um substrato 22 com um sistema de camadas 10 para um elemento óptico 80, um respectivo computador de controle 110 para controlar uma instalação de revestimento 108 e para se comunicar com um computador de simulação 102, um dispositivo de medição óptica 112 por instalação de revestimento 108 para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida 90 do sistema de camadas 10, e um computador de simulação 102 onde é instalado software de simulação 104 para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas 10 e que se comunica com os computadores de controle 102 das instalações de revestimento

108. O sistema 200 compreende ainda: uma base de dados 106 para armazenar conjuntos de dados de instalação DAT, um dispositivo de entrada 114 para comandar e controlar o computador de simulação 102 e/ou as instalações de revestimento 108. Com o referido sistema 200 de instalações de revestimento 108, é vantajosamente possível controlar várias instalações de revestimento 108 através de um computador de simulação 102 e ativar e/ou otimizar os processos de revestimento para a fabricação de elementos ópticos 80 com sistemas de camadas 10.

Claims (17)

REIVINDICAÇÕES

1. Método para operar ao menos uma instalação de revestimento (108) para a produção de sistemas de camadas (10), o método sendo CARACTERIZADO por compreender: (i) detectar (S100) ao menos uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa como a curva de medição real (90) em um sistema de camadas real (10_n) composto por uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), cada uma com uma espessura de camada real de instalação (d_actual_11, ..., d_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), sendo que as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) são produzidas de acordo com um conjunto de dados de instalação (DAT_n) da ao menos uma instalação de revestimento, sendo que o conjunto de dados de instalação (DAT_n) compreende ao menos a espessura de camada real de instalação (d_actual_11, ..., d_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20); (ii) associar (S102) a curva de medição real (90) do sistema de camadas real (10_n) de acordo com ao menos um critério de associação, em particular pontos espectrais significantes da curva de medição real (90), a uma curva de medição alvo (92) de um conjunto de dados alvo (DAT_target) com valores de ordenada e valores de abscissa, que baseia-se em um sistema de camadas composto por uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) com um conjunto de dados alvo (10_target), sendo que o conjunto de dados alvo (DAT_target) compreende ao menos uma espessura de camada alvo (d_target_11, ..., d_target_20) conhecida da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20);

(iii) gerar (S104) uma curva de medição real de simulação (94) de acordo com um método iterativo variando-se ao menos uma espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20) das respectivas camadas únicas (11, 12,

13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) em ao menos um intervalo espectral (82) da curva de medição real (90) e obtendo-se um conjunto de dados reais de simulação final

(DAT_actual_sim) com ao menos uma espessura de camada real de simulação final

(g_actual_11, ..., g_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16,

17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17,

18, 19, 20), com o que a curva de medição real (90) é ao menos aproximada na curva de medição real de simulação (94) até satisfazer um critério de encerramento

(S116);

(iv) gerar (S106) uma curva de medição alvo de simulação (98) de acordo com um método iterativo variando-se ao menos a espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13,

14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) em ao menos um intervalo espectral (82) da curva de medição alvo (92) e obtendo-se um conjunto de dados alvo de simulação finais

(DAT_target_sim) com ao menos uma espessura de camada alvo de simulação final

(g_target_11, ..., g_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16,

17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17,

18, 19, 20), com o que a curva de medição alvo (92) é ao menos aproximada na curva de medição alvo de simulação (98) até satisfazer um critério de encerramento

(S116);

(v) prover (S108) o conjunto de dados alvo de simulação finais

(DAT_target_sim) para a ao menos uma instalação de revestimento (108) como um novo conjunto de dados de instalação (DAT_n+1) para a deposição de um novo sistema de camadas (10_n+1) com ao menos uma espessura de camada real de correção (d_corr_11, ..., d_corr_20) como uma nova espessura de camada real de instalação (d_actual_11, ..., d_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), que é determinada a partir da espessura de camada alvo de simulação final (g_target_11, ..., g_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) com o conjunto de dados alvo de simulação finais (DAT_target_sim).

2. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o critério de encerramento é atingido quando ao menos uma das condições a seguir é satisfeita: (i) um resultado estável está sendo obtido para o critério de associação de acordo com um método de seleção estatística; (ii) o desvio entre a curva de medição real (90) e a curva de medição real de simulação (94) encontra-se dentro de uma faixa de tolerância; (iii) o número máximo de iterações foi realizado.

3. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, CARACTERIZADO pelo fato de que a espessura de camada alvo (d_target_11, ..., d_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) é usada como valor inicial da espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20); e/ou pelo fato de que a espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) é usada como valor inicial da espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20); e/ou pelo fato de que uma espessura de camada predeterminada da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) é usada como valor inicial da espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20) da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20).

4. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, CARACTERIZADO pelo fato de que gerar (S104, S106) a curva de medição real de simulação (94), ou a curva de medição alvo de simulação (98), respectivamente, compreende ainda: determinar (S110) um fator de escalonamento (122) como valor médio de quocientes de valores de abscissa da curva de medição real (90), ou da curva de medição real de simulação (94), respectivamente, e da curva de medição alvo (92) para valores de abscissa determinados de acordo com o critério de associação, e escalonar a espessura de camada alvo (d_target_11, ..., d_target_20); ou a espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) com o fator de escalonamento (122) como valores iniciais da espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou da espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20).

5. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, CARACTERIZADO pelo fato de que gerar (S104, S106) a curva de medição real de simulação (94), ou a curva de medição alvo de simulação (98), respectivamente, compreende ainda: ao menos para o primeiro intervalo (82) para a única ou cada uma das várias camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), formar (S112) um quociente (126) da primeira espessura de camada real de simulação final correspondente

(g_actual_11, ..., g_actual_20), ou da primeira espessura de camada alvo de simulação final correspondente (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, e da espessura de camada real de instalação correspondente (d_actual_11, ..., d_actual_20), sendo que uma primeira espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou uma espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) são geradas escalonando a espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) com o quociente (126).

6. Método, de acordo com qualquer a reivindicação 5, CARACTERIZADO pelo fato de que gerar (S104, S106) a curva de medição real de simulação (94), ou a curva de medição alvo de simulação (98), respectivamente, compreende ainda: verificar (S114) a única primeira espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou a espessura de camada real de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) quanto a ao menos um critério, em particular a plausibilidade e/ou o desvio predeterminado da respectiva espessura de camada alvo (g_target_11, ..., g_target_20) da curva de medição alvo (94), e, se o ao menos um critério se fizer ausente, repetir a variação (S104, S106) da espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou da espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) e a provisão (S108) de uma primeira espessura de camada real de simulação final (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), bem como a geração da primeira espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, sendo que, para a respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) que fracassou no critério, uma restrição é especificada quando da variação (S104, S106), e prover uma segunda espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20).

7. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 5, CARACTERIZADO por compreender: repetir as etapas (S104, S106, S112, S113, S114, S115) em um ou mais intervalos espectrais adicionais (84, 86), sendo que cada intervalo sucessivo (84, 86) inclui o intervalo anterior (82, 84), sendo que a segunda espessura de camada real de simulação (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) do intervalo anterior (82, 84) é definida como valor inicial no intervalo sucessivo (84, 86), e prover uma espessura de camada real de simulação final (g_actual_11, ..., g_actual_20), ou espessura de camada alvo de simulação (g_target_11, ..., g_target_20), respectivamente, da respectiva camada única (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) dentre as uma ou mais camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20).

8. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 7,

CARACTERIZADO pelo fato de que um sistema de camadas redutor de reflexo interferométrico (10) é depositado sobre ao menos uma superfície (24) de um substrato (22),

sendo que o sistema de camadas (10) compreende uma pilha (40) de ao menos quatro pacotes de camadas sucessivos (42, 44, 46, 48, 50), sendo que cada pacote de camadas (42, 44, 46, 48, 50) compreende um par de camadas únicas primeira e segunda (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20), sendo que as primeiras camadas únicas (11, 13, 15, 17, 19) têm uma primeira espessura óptica (t1) e as segundas camadas únicas têm uma segunda espessura óptica (t2) diferente da primeira (t1),

sendo que o índice de refração (n1) das respectivas primeiras camadas únicas (11, 13, 15, 17, 19) mais próximas ao substrato é superior ao índice de refração (n2) das respectivas segundas camadas únicas (12, 14, 16, 18, 20) mais distantes do substrato na pilha (40),

sendo que o sistema de camadas (10) possui uma luminosidade (L*), um croma (C*) e um ângulo de matiz (h) de uma cor de reflexo residual,

sendo que o valor de uma mudança (Δh) no ângulo de matiz (h) da cor de reflexo residual em um intervalo de um ângulo de visão (AOI) com os valores limite de 0° e 30°, em relação a uma normal de superfície (70) ao sistema de camadas

(10), é inferior ao valor de uma mudança (ΔC*) no croma (C*) no intervalo do ângulo de visão (AOI), sendo que as etapas seguintes são praticadas:

- definir um modelo de camadas compreendendo ao menos um primeiro material para as primeiras camadas únicas com alto índice de refração (11, 13, 15,

17, 19) e um segundo material para as segundas camadas únicas com baixo índice de refração (12, 14, 16, 18, 20), o número desejado de pacotes de camadas (42, 44,

46, 48, 50) com as camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20) e os valores iniciais da espessura das camadas únicas (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20); - definir valores de cor alvo compreendendo luminosidade (L*), croma (C*) e ângulo de matiz h ao menos em valores limite para um intervalo de um ângulo de visão (AOI) com valores limite de 0° e 30°; - executar um método de otimização para variar as espessuras de camada única (d_actual_11, ..., d_actual_20) até atingir uma meta de otimização.

9. Método, de acordo com a reivindicação 8, CARACTERIZADO pelo fato de que o ângulo de matiz (h) no intervalo do ângulo de visão (AOI) com os valores limite 0° e 30° muda em até 15°, de preferência em até 10°; e/ou pelo fato de que o valor da mudança (Δh) no ângulo de matiz (h) em um segundo intervalo de um ângulo de visão (AOI) de 0° a um ângulo de visão limite (Ɵ) com um valor limite superior entre 30° e 45°, em relação à normal de superfície (70) ao sistema de camadas (10), é inferior ao valor de uma mudança (ΔC*) no croma (C*) no segundo intervalo do ângulo de visão (AOI), e o valor do croma (C*) no ângulo de visão limite (Ɵ) é de ao menos 2, em particular sendo que o ângulo de matiz (h) no segundo intervalo muda em até 20°, de preferência em até 15°; e/ou pelo fato de que a refletância fotópica (Rv) no intervalo do ângulo de visão (AOI) com os valores limite 0° e 30° é de até 1,5%, de preferência de até 1,2%; e/ou pelo fato de que a refletância escotópica (Rv') no intervalo do ângulo de visão (AOI) com os valores limite 0° e 30° é de até 1,5%, de preferência de até 1,2%.

10. Método para a produção de um sistema de camadas (10) em ao menos uma instalação de revestimento (108) com um método de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, CARACTERIZADO pelo fato de que o sistema de camadas (10) é produzido com base em um conjunto de dados alvo de simulação finais (DAT_target_sim) para a instalação de revestimento (108).

11. Método para ativar um processo de revestimento na ao menos uma instalação (108) para a produção de um sistema de camadas (10) com um método de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 9, CARACTERIZADO pelo fato de que uma curva de medição real (90) de uma curva de medição espectral com valores de ordenada e valores de abscissa é ao menos aproximada em uma curva de medição real de simulação (94) até satisfazer um critério de encerramento.

12. Sistema de revestimento (100) para a produção de um sistema de camadas (10), com um método de acordo ao menos com a reivindicação 1, CARACTERIZADO por compreender ao menos: - uma instalação de revestimento (108) para revestir um substrato (22) com um sistema de camadas (10) para um elemento óptico (80), - um computador de controle (110) para controlar a instalação de revestimento (108) e para se comunicar com um computador de simulação (102); - um dispositivo de medição óptica para determinar uma curva de medição real (90) espectralmente resolvida do sistema de camadas (10); - um computador de simulação (102) onde é instalado um software de simulação (104) para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas (10), - uma base de dados (106) para armazenar conjuntos de dados de instalação (DAT), - um dispositivo de entrada (114) para comandar e controlar o computador de simulação (102) e/ou a instalação de revestimento (108).

13. Instalação de revestimento (108) para a produção de um sistema de camadas (10), com um método de acordo ao menos com a reivindicação 1, CARACTERIZADA por compreender ao menos um dos seguintes:

(i) um componente (116) para a aplicação de um processo de envelhecimento artificial ao sistema de camadas (10), (ii) um dispositivo de medição óptica (118) para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida (90) do sistema de camadas (10).

14. Sistema (200) de instalações de revestimento (108) para a produção de sistemas de camadas (10), com um método de acordo ao menos com a reivindicação 1, CARACTERIZADO por compreender ao menos: - uma ou mais instalações de revestimento (108) para revestir um substrato (22) com um sistema de camadas (10), - um ou mais computadores de controle (110) para controlar ao menos uma instalação de revestimento (108) e para se comunicar com um computador de simulação (102), - um dispositivo de medição óptica (112) para determinar uma curva de medição real espectralmente resolvida (90) do sistema de camadas (10), - um computador de simulação (102) onde é instalado um software de simulação (104) para o cálculo óptico e otimização do sistema de camadas (10) e que se comunica com o computador de controle (102) da instalação de revestimento (108); - uma base de dados (106) para armazenar conjuntos de dados de instalação (DAT), - um dispositivo de entrada (114) para comandar e controlar o computador de simulação (102) e/ou as uma ou mais instalações de revestimento (108).

15. Base de dados (106) CARACTERIZADA por armazenar conjuntos de dados de instalação (DAT) para um método para operar ao menos uma instalação de revestimento (108) para a produção de sistemas de camadas (10) de acordo ao menos com a reivindicação 1.

16. Produto de programa de computador para um método para operar ao menos uma instalação de revestimento (108) para a produção de sistemas de camadas (10), o produto de programa de computador sendo CARACTERIZADO por compreender ao menos um meio de armazenamento legível por computador que compreende instruções de programa que são executáveis em um sistema de computador (102) e fazem com que o sistema de computador (102) execute um método de acordo ao menos com a reivindicação 1.

17. Sistema de processamento de dados (124) CARACTERIZADO por executar um programa de processamento de dados que compreende instruções de programa legíveis por computador para executar um método para operar ao menos uma instalação de revestimento (108) para a produção de sistemas de camadas (10) de acordo ao menos com a reivindicação 1.