BR112021004243A2 - processos para a produção de camadas de efeito ótico que compreendem partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis não esféricas orientadas - Google Patents
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Abstract
processos para a produção de camadas de efeito ótico que compreendem partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis não esféricas orientadas. a presente invenção refere-se ao campo de conjuntos magnéticos e processos para a produção de camadas de efeito ótico (oel) compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de orientação magnética num substrato. em particular, a presente invenção refere-se a conjuntos magnéticos e processos para produzir as ditas oels como meios antifalsificação em documentos de segurança ou artigos de segurança ou para fins decorativos.
Description
[0001] A presente invenção refere-se ao campo da proteção de documentos de valor e bens comerciais de valor contra a falsificação e reprodução ilegal. Em particular, a presente invenção refere-se a camadas de efeito ótico (OEL- optical effect layers) mostrando um efeito ótico dependente do ângulo de visão em forma de ansa, montagens e processos magnéticos para a produção da dita OEL, bem como utilizações das ditas camadas de efeito ótico como meio antifalsificação em documentos.
[0002] A utilização de tintas, composições de revestimento, revestimentos ou camadas, contendo partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticos, em particular partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas, para a produção de elementos de segurança e documentos de segurança é conhecido na técnica.
[0003] Recursos de segurança, por exemplo, para documentos de segurança, podem ser classificados em recursos de segurança "secretos" e "abertos". A proteção oferecida pelos recursos de segurança secretos baseia-se no conceito de que esses recursos estão ocultos, normalmente exigindo equipamentos e conhecimentos especializados para sua deteção, considerando que recursos de segurança "abertos" são facilmente detetáveis com os sentidos humanos não auxiliados, por exemplo, essas características podem ser visíveis e/ou detetáveis através dos sentidos táteis embora ainda sejam difíceis de produzir e/ou copiar. Contudo, a eficácia dos recursos de segurança abertos depende em grande parte do reconhecimento fácil deles como um recurso de segurança, porque os utilizadores só realizarão uma verificação de segurança com base nesse recurso de segurança se estiverem cientes de sua existência e natureza.
[0004] Revestimentos ou camadas compreendendo partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis orientadas são divulgados, por exemplo, nos documentos US 2.570.856; US 3.676.273; US 3.791.864; US
5.630.877 e US 5.364.689. partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em revestimentos permitem a produção de imagens, desenhos e/ ou padrões induzidos magneticamente através da aplicação de um campo magnético correspondente, provocando uma orientação local das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis no revestimento não endurecido, seguido de endurecimento do último. Isso resulta em efeitos óticos específicos, ou seja, imagens fixas magneticamente induzidas, desenhos ou padrões altamente resistentes à falsificação. Os elementos de segurança baseados em partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis orientadas só podem ser produzidos tendo acesso às partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis ou a uma tinta ou composição correspondente compreendendo as ditas partículas, e a tecnologia específica empregue para aplicar a dita tinta ou composição e orientar ditas partículas de pigmento na tinta ou composição aplicada.
[0005] Os efeitos de anel móvel foram desenvolvidos como elementos de segurança eficientes. Os efeitos de anel em movimento consistem em imagens oticamente ilusórias de objetos como funis, cones, tigelas, círculos, elipses e hemisférios que parecem se mover em qualquer direção x-y, dependendo do ângulo de inclinação da referida camada de efeito ótico. Os métodos para produzir efeitos de anel móvel são divulgados, por exemplo, nos documentos EP 1 710 756 A1, US 8.343.615, EP 2 306 222 A1, EP 2 325 677 A2 e US 2013/084411.
[0006] O documento WO 2011/092502 A2 divulga um aparelho para a produção de imagens de anéis em movimento que exibem um anel aparentemente em movimento com a mudança do ângulo de visão. As imagens de anel móvel divulgadas podem ser obtidas ou produzidas usando um dispositivo que permita a orientação de partículas magnéticas ou magnetizáveis com a ajuda de um campo magnético produzido pela combinação de uma folha magnetizável macia e um íman esférico tendo seu eixo norte-sul perpendicular no plano da camada de revestimento e disposto abaixo da dita folha macia e magnetizável.
[0007] As imagens dos anéis móveis da técnica anterior são geralmente produzidas pelo alinhamento das partículas magnéticas ou magnetizáveis de acordo com o campo magnético de apenas um íman rotativo ou estático. Como as linhas de campo de apenas um íman geralmente dobram de maneira relativamente suave, ou seja, têm uma baixa curvatura, também a mudança na orientação das partículas magnéticas ou magnetizáveis é relativamente suave sobre a superfície do OEL. Adicionalmente, a intensidade do campo magnético diminui rapidamente com o aumento da distância do íman quando apenas um único íman é usado. Isso dificulta a obtenção de um recurso altamente dinâmico e bem definido através da orientação das partículas magnéticas ou magnetizáveis, e pode resultar em efeitos visuais que exibem as bordas do anel borradas.
[0008] O documento WO 2014/108404 A2 divulga camadas de efeito ótico (OEL) compreendendo uma pluralidade de partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas orientadas magneticamente, que são dispersas num revestimento. O padrão de orientação magnética específica das OELs divulgadas fornece ao espectador o efeito ótico ou impressão de um corpo em forma de ansa que se move após a inclinação do OEL. Além disso, O documento WO 2014/108404 A2 divulga OELs exibindo ainda um efeito ótico ou impressão de uma saliência na área central do corpo em forma de ansa, sendo a dita protrusão causada por uma zona de reflexão na área central cercada pelo corpo em forma de ansa. A protrusão divulgada fornece a impressão de um objeto tridimensional, como uma meia esfera, presente na área central cercada pelo corpo em forma de ansa.
[0009] O documento WO 2014/108303 A1 divulga camadas de efeito ótico (OEL) compreendendo uma pluralidade de partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas orientadas magneticamente, que são dispersas num revestimento. O padrão de orientação magnética específica das OELs divulgadas fornece ao espectador o efeito ótico ou impressão de uma pluralidade de corpos em forma de ansa aninhados em torno de uma área central comum, em que os ditos corpos exibem um movimento aparente dependente do ângulo de visão. Além disso, O documento WO 2014/108303 A1 divulga OELs compreendendo ainda uma saliência que é cercada pelo corpo em forma de ansa mais interna e preenche parcialmente a área central definida por esse meio. A protrusão divulgada fornece a ilusão de um objeto tridimensional, como uma meia esfera, presente na área central.
[0010] Os documentos WO 2017/064052 A1, WO 20170/80698 A1 e WO 2017/148789 A1 divulgam conjuntos magnéticos e processos para a produção de camadas de efeito ótico (OEL) compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas magneticamente orientadas num substrato, em que as ditas camadas de efeito ótico fornecem uma impressão ótica de um ou mais corpos em forma de ansa tendo um tamanho que varia ao inclinar a camada de efeito ótico.
[0011] Permanece a necessidade de recursos de segurança que exibam um efeito dinâmico em forma de ansa dinâmico atraente que muda sua aparência num substrato de boa qualidade, que pode ser facilmente verificado, independentemente da orientação do documento de segurança, é difícil de produzir em larga escala com o equipamento disponível para um falsificador e que pode ser fornecido em grande número de formas e formatos possíveis.
[0012] Consequentemente, é um objetivo da presente invenção superar as deficiências da técnica anterior, como discutido acima.
[0013] Num primeiro aspeto, a presente invenção fornece um processo para produzir uma camada de efeito ótico (OEL) (x20) num substrato (x10) e camadas de efeito ótico (OEL) obtidas do mesmo, o dito processo compreendendo as etapas de: a) aplicar sobre uma superfície de substrato (x10) uma primeira composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um ou mais primeiros padrões de uma primeira camada de revestimento (x21), a dita primeira composição de revestimento curável por radiação estando num primeiro estado, b) expor a primeira composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de ansa tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa e tendo um eixo magnético resultante substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), opcionalmente, uma ou mais peças polares (x33) e/ou opcionalmente uma matriz de suporte (x34) e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético resultante substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10); ou a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo uma matriz de suporte (x34), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de ansa tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, cada um dos dois ou mais ímanes dipolo tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético e/ou uma ou mais peças polares (x33), e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético; ou a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo uma matriz de suporte (x34), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético, de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas, e c) curar pelo menos parcialmente a primeira composição de revestimento curável por radiação da etapa b) para um segundo estado, de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas nas suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais primeiros padrões pelo menos parcialmente curados, d) aplicar pelo menos parcialmente nos um ou mais primeiros padrões pelo menos parcialmente curados da etapa c) uma segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um ou mais segundos padrões de uma segunda camada de revestimento (x22), a dita segunda composição de revestimento curável por radiação estando num primeiro estado, e) expor a segunda composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético de um segundo conjunto magnético (x00-b), o dito segundo conjunto magnético (x00-b) sendo selecionado a partir do primeiro conjunto magnético (x00-a) da etapa b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é diferente do primeiro conjunto magnético (x00-a) usado na etapa b) e em que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do dito conjunto magnético (x00-b ) é oposta à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro conjunto magnético (x00-a) dentro do quadro de referência do substrato (x10); e f) curar pelo menos parcialmente a segunda composição de revestimento curável por radiação da etapa e) para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais segundos padrões pelo menos parcialmente curados, em que a camada de efeito ótico fornece uma impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e uma forma, que varia ao inclinar a camada de efeito ótico em que a camada de efeito ótico fornece uma impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e um formato que varia ao inclinar a camada de efeito ótico.
[0014] Num aspeto adicional, a presente invenção fornece camadas de efeito ótico (OEL) (x20) preparadas pelo processo descrito acima.
[0015] Num aspeto adicional, é fornecida uma utilização da camada de efeito ótico (OEL) (x20) para a proteção de um documento de segurança contra falsificação ou fraude ou para uma aplicação decorativa.
[0016] Num aspeto adicional, a presente invenção fornece um documento de segurança ou um elemento ou objeto decorativo compreendendo uma ou mais camada de efeito ótico, como as descritas no presente documento.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS A Fig. 1A ilustra exemplos de um processo adequado para a produção de camadas de efeito ótico (OELs) (120) compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas num substrato (110) de acordo com a presente invenção. O processo compreende as etapas de a) aplicar na superfície do substrato (110) a primeira composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um primeiro padrão de uma primeira camada de revestimento (121), b) expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (100-a) de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas, c) curar pelo menos parcialmente o primeiro revestimento curável por radiação composição da etapa b) para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticas não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um primeiro padrão pelo menos parcialmente curado, d), aplicar pelo menos parcialmente no primeiro padrão pelo menos parcialmente curado da etapa c) a segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um segundo padrão da segunda camada de revestimento (122), e) expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (100-b), e f) pelo menos parcialmente curando a segunda composição de revestimento curável por radiação da etapa d) para um segundo estado de modo a fixar o não esférico partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar o segundo padrão pelo menos parcialmente curado.
A Fig. 1A (esquerda) ilustra esquematicamente um processo em que a primeira camada de revestimento (121) tem o mesmo tamanho que a segunda camada de revestimento (122) e em que a segunda camada de revestimento (122) cobre totalmente a primeira camada de revestimento (121), ou seja, a segunda camada de revestimento (122) se sobrepõe totalmente à primeira camada de revestimento (121). As Fig. 1A (meio) e 1A (direita) ilustram esquematicamente processos em que a primeira camada de revestimento (121) tem um tamanho diferente do que a segunda camada de revestimento (122), em particular a segunda camada de revestimento (122) tem um tamanho menor que o primeira camada de revestimento (121), e em que a segunda camada de revestimento (122) cobre parcialmente a primeira camada de revestimento (121), isto é, a segunda camada de revestimento (122) se sobrepõe parcialmente à primeira camada de revestimento (121). A Figura. 1B ilustra um exemplo de um processo adequado para a produção de camadas de efeito ótico (OELs) (120) compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas num substrato (110) de acordo com a presente invenção.
O processo compreende as etapas de a) aplicar na superfície do substrato (110) a primeira composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar dois primeiros padrões, em particular, dois primeiros padrões espaçados, de uma primeira camada de revestimento (121), b) expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (100-a), de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas, c) curar pelo menos parcialmente a primeira composição de revestimento curável por radiação da etapa b) a um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar dois primeiros padrões pelo menos parcialmente curados, d), aplicar pelo menos parcialmente nos dois primeiros padrões, pelo menos parcialmente curados da etapa c), a segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um segundo padrão da segunda camada de revestimento (122), e) expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (100-b), e f) curar pelo menos parcialmente a primeira composição de revestimento curável por radiação da etapa b) a um segundo estado de modo a fixar o partículas esféricas magnéticas ou de pigmento magnetizáveis em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar o segundo padrão pelo menos parcialmente curado.
A Fig. 1B ilustra esquematicamente um processo em que a primeira camada de revestimento (121) tem um tamanho diferente do que a segunda camada de revestimento (122) e em que a segunda camada de revestimento (122) cobre parcialmente a primeira camada de revestimento (121). As Fig. 2-5 ilustram esquematicamente primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x100-b) adequados para o processo de acordo com a presente invenção, em que o dito processo usa dois dos ditos conjuntos magnéticos, um sendo usado durante a etapa b) com o primeiro conjunto magnético (x00-a) de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) e o outro sendo usado durante a etapa e) com o segundo conjunto magnético (x00-b) de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22), em que o segundo conjunto magnético (x00-b) é diferente do primeiro conjunto magnético (x00-a) e em que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do dito conjunto magnético (x00-b) é oposto à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro conjunto magnético (x00-a) dentro do quadro de referência do substrato (x10). A Fig. 2A ilustra esquematicamente um primeiro/segundo conjunto magnético (200-a, 200-b) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (230) que compreende uma matriz de suporte (234), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (231), em particular um íman dipolo em forma de anel, tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (210) e uma peça polar em forma de ansa (233), em particular uma peça polar em forma de anel (233); e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (240) compreendendo dois ou mais, em particular, sete ímanes dipolo (241) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (210) e seis espaçadores (242). A Fig. 2B1 ilustra esquematicamente uma vista inferior do dispositivo gerador de campo magnético (230) da Fig. 2A.
A Fig. 2B2 ilustra esquematicamente uma secção transversal da matriz de suporte (234) da Fig. 2A.
A Fig. 3A ilustra esquematicamente um primeiro/segundo conjunto magnético (300-a, 300-b) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (330) que compreende uma matriz de suporte (334), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (331), em particular uma combinação de quatro ímanes dipolo dispostos numa disposição em forma de ansa, em particular em forma de quadrado, tendo uma magnetização radial e dois ou mais ímanes dipolo (332), em particular oito ímanes dipolo, cada um tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (310); i) um dispositivo gerador de campo magnético (340), em particular um íman dipolo em barra única, tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (310). A Fig. 3B1 ilustra esquematicamente uma vista superior do dispositivo gerador de campo magnético (330) da Fig. 3A.
A Fig. 3B2 ilustra esquematicamente uma secção transversal ao longo da linha (D-D') da matriz de suporte (334) da Fig. 3A.
A Fig. 4A ilustra esquematicamente um primeiro/segundo conjunto magnético (400-a, 400-b) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (430) o dito conjunto magnético que compreende uma matriz de suporte (434), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (431), em particular uma combinação de quatro ímanes dipolo dispostos numa disposição em forma de ansa, em particular em forma de quadrado, tendo uma magnetização radial e dois ou mais ímanes dipolo (432), em particular dezanove ímanes dipolo, cada um tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (410); b) um dispositivo gerador de campo magnético (440), em particular um íman dipolo em barra única, tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (410); e c) uma ou mais peças polares (450), em particular uma peça polar em forma de disco (450). A Fig. 4B1 ilustra esquematicamente uma vista superior do dispositivo gerador de campo magnético (430) da Fig. 4A.
A Fig. 4B2 ilustra esquematicamente uma secção transversal ao longo da linha (D-D') da matriz de suporte (434) da Fig. 4A.
A Fig. 5A ilustra esquematicamente um primeiro/segundo conjunto magnético (500-a, 500-b) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (530) que compreende uma matriz de suporte (534), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (531), em particular um íman dipolo em forma de anel, tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (510) e uma peça polar em forma de ansa (533), em particular uma peça polar em forma de anel (533); e i) um dispositivo gerador de campo magnético (540) compreendendo dois ou mais, em particular sete, ímanes dipolo (541) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (510) e seis espaçadores (542). A Fig. 5B1 ilustra esquematicamente uma vista inferior do dispositivo gerador de campo magnético (530) da Fig. 5A. A Fig. 5B2 ilustra esquematicamente uma secção transversal da matriz de suporte (534) da Fig. 5A. As Fig. 6A-C mostram imagens de OEL's (620) conforme visto sob diferentes ângulos de visão e obtidas pelo processo de acordo com a presente invenção, em que o dito processo usa em sequência dois primeiros ou segundos conjuntos magnéticos diferentes (x00-a, x00-b) representado na Figura 2-4. A Fig. 6A mostra imagens de OELs (620) conforme visto sob diferentes ângulos de visão e obtidas pelo processo usando o primeiro conjunto magnético (200-a) representado na Fig. 2A-B2 e o segundo conjunto magnético (300-b) representado nas Fig. 3A-B2. As Fig. 6B e 6C mostram imagens de OELs (620) como visto sob diferentes ângulos de visão e obtidas pelo processo usando o primeiro conjunto magnético (200-a) representado na Fig. 2A-B2 e o segundo conjunto magnético (400-b) representado na Fig. 4A-B2. A Fig. 7 mostra imagens de uma OEL comparativa visto sob diferentes ângulos de visão obtidos por um processo usando o primeiro conjunto magnético (500-a) representado na Fig. 5A-B2 e o segundo conjunto magnético (400-b) representado na Fig. 4A-B, em que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (540) usado na primeira etapa de orientação é a mesma que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (440) usado na segunda etapa de orientação.
Definições
[0017] As seguintes definições devem ser usadas para interpretar o significado dos termos discutidos na descrição e recitados nas reivindicações.
[0018] Conforme utilizado no presente documento, o artigo indefinido "um/uma" indica um bem como mais de um e não limita necessariamente seu substantivo referente ao singular.
[0019] Conforme utilizado no presente documento, o termo "cerca de" significa que a quantidade ou valor em questão pode ser o valor específico designado ou algum outro valor em sua vizinhança. Geralmente, o termo "cerca de", que indica um determinado valor, pretende indicar um intervalo dentro de ± 5 % do valor. Como um exemplo, a frase "cerca de 100" denota um intervalo de 100 ± 5, isto é, o intervalo desde 95 até 105. Geralmente, quando é utilizado o termo “cerca de”, pode-se esperar que resultados ou efeitos semelhantes de acordo com a invenção possam ser obtidos dentro de uma faixa de ± 5 % do valor indicado.
[0020] O termo "substancialmente paralelo" refere-se ao desvio não superior a 10° do alinhamento paralelo e o termo "substancialmente perpendicular" refere-se ao desvio não superior a 10° do alinhamento perpendicular.
[0021] Conforme utilizado no presente documento, o termo "e/ou" significa que todos ou apenas um dos elementos do dito grupo pode estar presente. Por exemplo, “A e/ou B" significa "apenas A, ou apenas B, ou tanto A como B". No caso de “apenas A”, o termo também abrange a possibilidade de que B esteja ausente, ou seja, "apenas A, mas não B”.
[0022] O termo "compreendendo", conforme utilizado no presente documento pretende ser não exclusivo e aberto. Consequentemente, por exemplo, uma solução de fonte que compreende um composto A pode incluir outros compostos para além de A. Contudo, o termo "compreendendo" também abrange, como uma forma de realização particular do mesmo, os significados mais restritivos de "consistindo essencialmente em” e "consistindo em", de modo que, por exemplo, "uma solução de fonte compreendendo A, B e opcionalmente C” também pode (essencialmente) consistir em A e B, ou (essencialmente) consistir em A, B e C.
[0023] O termo "composição de revestimento" refere-se a qualquer composição capaz de formar uma camada de efeito ótico (OEL) da presente invenção num substrato sólido e que pode ser aplicada preferentemente, mas não exclusivamente, por um método de impressão. A composição de revestimento compreende pelo menos uma pluralidade de partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas e um aglutinante.
[0024] O termo "camada de efeito ótico (OEL)", conforme utilizado no presente documento, denota uma combinação de duas camadas que compreendem pelo menos uma pluralidade de partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas orientadas magneticamente e um aglutinante, em que a orientação das partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas é fixa ou congelada (fixa/congelada) dentro do aglutinante.
[0025] O termo "eixo magnético" denota uma linha teórica conectando os polos Norte e Sul correspondentes de um íman e se estendendo através dos ditos polos. Este termo não inclui nenhuma direção específica do campo magnético.
[0026] O termo "direção do campo magnético" denota a direção do vetor do campo magnético ao longo de uma linha de campo magnético que aponta do polo Norte no exterior de um íman para o polo Sul (veja-se Handbook of Physics, Springer 2002, páginas 463-464).
[0027] O termo "cura" é usado para denotar um processo em que uma viscosidade aumentada de uma composição de revestimento em reação a um estímulo para converter um material num estado, isto é, um estado endurecido ou sólido, onde as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são fixadas/congeladas nas suas posições e orientações atuais e não podem mais se mover nem girar.
[0028] Onde a presente descrição se refere a formas de realização/recursos "preferidos", combinações dessas formas de realização/recursos “preferidos” também devem ser consideradas como divulgadas, desde que essa combinação de formas de realização/recursos “preferidos” seja tecnicamente significativa.
[0029] Conforme utilizado no presente documento, o termo "pelo menos" se destina a definir um ou mais de um, por exemplo um ou dois ou três.
[0030] O termo "documento de segurança" refere-se a um documento que geralmente é protegido contra falsificação ou fraude por pelo menos um recurso de segurança. Exemplos de documentos de segurança incluem, sem limitação, documentos de valor e bens comerciais valiosos.
[0031] O termo "recurso de segurança" é usado para denotar uma imagem, padrão ou elemento gráfico que pode ser usado para fins de autenticação.
[0032] O termo "corpo em forma de ansa" indica que as partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são fornecidas de modo que a OEL confere ao espectador a impressão visual de um corpo fechado que se recompõe, formando um corpo em forma de ansa fechado em torno de uma área escura central. O "corpo em forma de ansa" pode ter formato redondo, oval, elipsoide, quadrado, triangular, retangular ou qualquer formato poligonal. Exemplos de formas de ansa incluem um anel ou círculo, um retângulo ou quadrado (com ou sem cantos arredondados), um triângulo (com ou sem cantos arredondados), um pentágono (regular ou irregular) (com ou sem cantos arredondados), um hexágono (regular ou irregular) (com ou sem cantos arredondados), um heptágono (regular ou irregular) (com ou sem cantos arredondados), um octógono (regular ou irregular) (com ou sem cantos arredondados), qualquer forma poligonal (com ou sem cantos arredondados), etc. Na presente invenção, a impressão ótica de um corpo em forma de ansa é formada pela orientação das partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas.
[0033] A presente invenção fornece processos para produzir camadas de efeito ótico (OEL) (x20) em substratos (x10) e camadas de efeito ótico (OEL) (x20) obtidas do mesmo, Em que as camadas de efeito ótico (OELs) (x20) assim obtidas fornecem ao espectador a impressão ótica de um corpo em forma de ansa com um tamanho e formato que variam ao inclinar o substrato que compreende as camadas de efeito ótico.
[0034] O campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro e do segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respetivamente, interagir de modo que o campo magnético resultante do conjunto magnético seja capaz de orientar partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas numa composição de revestimento curável por radiação ainda não curada, que é disposta no campo magnético do conjunto magnético para produzir uma impressão ótica da camada de efeito ótico de um corpo em forma de ansa com um tamanho que varia ao inclinar a camada de efeito ótico. A combinação das duas camadas de revestimento (x21, x22) da OEL (x20) assim obtida, cada uma tendo uma impressão ótica de um corpo em forma de ansa diferente (por exemplo, um é um círculo e o outro é um quadrado) tendo um tamanho que varia ao inclinar a camada de efeito ótico num substrato (x10) vantajosamente fornece a impressão ótica final da OEL exibindo um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e forma que varia ao inclinar a camada de efeito ótico. Por um lado, a impressão ótica das OELs assim obtidos é tal que um primeiro corpo em forma de ansa tendo uma primeira forma é percebido como reduzindo seu tamanho ao inclinar o substrato numa primeira direção, enquanto uma segunda forma de ansa tendo uma segunda forma é percebida como aumentando seu tamanho ao inclinar na mesma primeira direção, e vice-versa, ao inclinar o substrato na direção oposta. A perceção do efeito combinado é tal que o primeiro corpo em forma de ansa é percebido como se transformando no segundo corpo em forma de ansa (e vice-versa) ao inclinar o substrato na primeira direção (respetivamente, na direção oposta). A impressão ótica das OELs assim obtidas é tal que, quando o substrato é inclinado numa direção a partir de um ângulo de visão perpendicular, o corpo em forma de ansa tendo uma primeira forma reduzindo seu tamanho para outra segunda forma aumentando seu tamanho ou o corpo em forma de ansa tendo uma primeira forma aumentando seu tamanho para outra segunda forma reduzindo seu tamanho. A Fig 6A-C fornece exemplos de OELs obtidas de acordo com o processo da invenção e exibindo a impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e forma que varia ao inclinar a camada de efeito ótico como descrito acima.
[0035] A camada de efeito ótico (OEL) (x20) descrita no presente documento é formada por pelo menos a primeira camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x21) e a segunda camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x22), em que a segunda camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x22) está pelo menos parcialmente presente no topo da primeira camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x21). A primeira camada de revestimento (x21) tem a forma de um ou mais primeiros padrões e a segunda camada de revestimento (x22) tem a forma de um ou mais segundos padrões. A primeira camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x21) tem a mesma forma que a forma de um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) e a segunda camada de revestimento pelo menos parcialmente curada (x22) tem a mesma forma que a forma de um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22).
[0036] A forma de um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) pode ser a mesma que a forma de um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22) ou pode ser diferente. Os um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) e os um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22) descritos no presente documento podem ser independentemente contínuos ou descontínuos. Preferentemente, a forma de um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) e a forma de um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22) representam independentemente um ou mais indícios, pontos e/ou linhas. Conforme utilizado no presente documento, o termo "indícios" deve significar conceções e padrões, incluindo, sem limitação, símbolos, símbolos alfanuméricos, motivos, cartas, palavras, números, logotipos e desenhos. Quando mais de um primeiro padrão da primeira camada de revestimento (x21) e mais de um segundo padrão da segunda camada de revestimento (x22) estão presentes no substrato (x10) descrito no presente documento, os ditos mais de um primeiro/segundo padrões podem consistir independentemente em linhas, pontos e/ou indícios sendo espaçados uns dos outros por uma área de primeira camada de revestimento livre (x21), uma segunda área de camada de revestimento livre (x22), respetivamente.
[0037] Conforme mostrado na Fig. 1A-B, o tamanho da primeira camada de revestimento (x21) e o tamanho de um ou mais primeiros padrões da dita primeira camada de revestimento (x21) pode ser o mesmo que o tamanho da segunda camada de revestimento (x22) e o tamanho de uma ou mais segundos padrões da dita segunda camada de revestimento (x22) ou podem ser diferentes.
[0038] Conforme mostrado na Fig. 1A-B, a segunda camada de revestimento (x22) está presente no topo da primeira camada de revestimento (x21), em que a dita segunda camada de revestimento (x22)
pode estar cobrindo totalmente a primeira camada de revestimento (x21) (veja-se a Fig. 1A-esquerda) ou pode estar cobrindo parcialmente a primeira camada de revestimento (x21) (veja-se a Fig. 1A - meio e à direita e Fig. 1B).
[0039] Conforme mostrado, por exemplo, na Fig. 1A-B, a presente invenção fornece métodos e processos para produzir a camada de efeito ótico (OEL) (x20) descrita no presente no substrato (x10) descrito no presente documento e as camadas de efeito ótico (OELs) (x20) obtidas a partir dele, em que os ditos métodos e processos compreendem duas etapas independentes (ou seja, etapas a) e d)) de aplicação de uma composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticas não esféricas, a dita composição de revestimento curável por radiação estar num primeiro estado, duas etapas independentes (ou seja, etapas b) e e)) de exposição da composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético dos conjuntos magnéticos (100-a, 100-b) de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento não esféricas magnéticas ou magnetizáveis e duas etapas independentes (isto é, etapas c) e f)) de pelo menos parcialmente curar as composições de revestimento curáveis por radiação para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento não esféricas magnéticas ou magnetizáveis em suas posições e orientações adotadas.
[0040] Os processos descritos no presente documento podem ser realizados em doi passos num aparelho que compreende a) uma unidade de aplicação, de preferência uma unidade de impressão, b) uma unidade de orientação magnética e c) uma unidade de cura, em que a unidade de orientação magnética compreende durante a primeira passagem o primeiro conjunto magnético (x00-a) e compreende durante a segunda passagem o segundo conjunto magnético (x00-b). De forma alternativa, o processo descrito no presente documento pode ser realizado numa única passagem num aparelho que compreende a) uma primeira unidade de aplicação, de preferência uma primeira unidade de impressão, b) uma primeira unidade de orientação magnética compreendendo o primeiro conjunto magnético (x00-a), c) uma primeira unidade de cura, d) uma segunda unidade de aplicação, de preferência, uma segunda unidade de impressão, e) uma segunda unidade de orientação magnética compreendendo o segundo conjunto magnético (x00-b) e f) uma segunda unidade de cura. As unidades de orientação magnética descritas no presente documento podem consistir num cilindro magnético rotativo compreendendo um ou mais primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00- a, x00-b) descritos no presente documento, em que o dito um ou mais primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos no presente documento são montados em ranhuras circunferenciais do cilindro magnético rotativo ou podem consistir numa unidade de impressão plana que compreende um ou mais primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00- a, x00-b) descritos no presente documento, em que o dito um ou mais primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos no presente documento são montados em recessos da unidade de impressão plana. O cilindro magnético rotativo descrito no presente documento deve ser usado em, ou em conjunto com, ou sendo parte de uma unidade de aplicação, como uma unidade de impressão ou revestimento. O cilindro magnético rotativo pode ser parte de uma impressora industrial rotativa, alimentada por folhas ou alimentada por trama, que opera a alta velocidade de impressão de maneira contínua. A unidade de impressão de mesa pode ser parte de uma impressora industrial alimentada por folhas que opera de maneira descontínua.
[0041] O processo descrito no presente documento compreende uma etapa a) e uma etapa d) de aplicação da composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento compreendendo partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticas não esféricas, a dita composição de revestimento curável por radiação a estar num primeiro estado. A etapa a) de aplicar na superfície do substrato (x10) a primeira composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento de modo a formar um ou mais primeiros padrões descritos no presente documento da primeira camada de revestimento (x21) descrito no presente documento e/ou a etapa d) de aplicar na superfície do substrato (x10) a segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento, de modo a formar um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22) descritos no presente documento são preferentemente realizados de forma independente por um processo de impressão, preferentemente selecionado a partir do grupo que consiste em serigrafia, impressão por rotogravura, impressão em flexografia, impressão a jato de tinta e impressão em entalhe (também referida na técnica como impressão em chapa de cobre gravada e impressão em matriz de aço gravada), mais preferentemente selecionadas a partir do grupo que consiste em serigrafia, impressão em rotogravura e impressão em flexografia.
[0042] Subsequentemente a, parcialmente simultaneamente ou simultaneamente com a aplicação da primeira composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento (etapa a)) e a segunda composição de revestimento curável por radiação (etapa d)) descrita no presente documento, respetivamente, na superfície do substrato (x10) descrita no presente documento ou pelo menos parcialmente em um ou mais primeiros padrões pelo menos parcialmente curados, respetivamente, pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas independentemente são orientadas expondo a composição de revestimento curável por radiação, a primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação, respetivamente, para o campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) e para o campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), respetivamente, de modo a alinhar pelo menos parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas ao longo das linhas de campo magnético geradas pelo respetivo conjunto magnético.
[0043] Subsequentemente ou parcialmente em simultâneo com as etapas de orientação/alinhamento de pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas aplicando o campo magnético descrito no presente documento (etapa b) e etapa e)),, a orientação das partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis não esféricas é fixa ou congelada. A primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação devem, portanto, notavelmente ter um primeiro estado, ou seja, um estado líquido ou pastoso, em que as composições de revestimento curáveis por radiação são húmidas ou macia o suficiente, de modo que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas dispersas nas composições de revestimento curáveis por radiação sejam livremente móveis, rotativo e/ou orientável após exposição ao campo magnético e um segundo estado de cura (por exemplo, sólido), em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são fixadas ou congeladas em suas respetivas posições e orientações.
[0044] Consequentemente, os processos para produzir a camada de efeito ótico (OEL) (x20) descrita no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, independentemente, compreende uma etapa c) e uma etapa f) de pelo menos parcialmente curar a primeira composição de revestimento curável por radiação da etapa a) e a segunda composição de revestimento curável por radiação da etapa d) para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas.
A etapa de curar pelo menos parcialmente a primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação pode ser levada a cabo subsequentemente ou parcialmente simultaneamente com a etapa de orientar/alinhar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas, aplicando o campo magnético descrito no presente documento (etapa b) e etapa e)). Preferentemente, a etapa de curar pelo menos parcialmente a primeira composição de revestimento curável por radiação para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais primeiros padrões, pelo menos parcialmente curados (etapa c)) é levada a cabo parcialmente simultaneamente com a etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a) descrito no presente documento (etapa b)). Preferentemente, a etapa de curar pelo menos parcialmente a segunda composição de revestimento curável por radiação para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais segundos padrões, pelo menos parcialmente curados (etapa e)) é realizada parcialmente simultaneamente com a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) descrito no presente documento (etapa e)). Preferentemente, o processo para produzir a camada de efeito ótico (OEL) (x20) descrito no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento compreende a etapa c) sendo levada a cabo parcialmente simultaneamente com a etapa b) e a etapa f) sendo levada a cabo parcialmente simultaneamente com a etapa e). Por "parcialmente simultaneamente", significa que ambas as etapas são parcialmente executadas simultaneamente, isto é, os tempos de execução de cada uma das etapas se sobrepõem parcialmente. No contexto descrito no presente documento, quando a cura é realizada parcialmente simultaneamente com a etapa de orientação b) e a etapa de orientação e), respetivamente, deve-se entender que a cura se torna efetiva após a orientação, de modo que as partículas de pigmento se orientem antes do endurecimento total ou parcial da OEL.
[0045] Os primeiro e segundo estados das primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação são fornecidos usando um certo tipo de composição de revestimento curável por radiação. Por exemplo, os componentes da primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação que não sejam as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas podem assumir a forma de uma composição de revestimento curável por tinta ou radiação, como aquelas que são utilizados em aplicações de segurança, por exemplo, para a impressão de notas. Os primeiro e segundo estados mencionados acima são fornecidos usando um material que mostra um aumento na viscosidade em reação a uma exposição a uma radiação eletromagnética. Isto é, quando o material ligante de fluido é curado ou solidificado, o dito material aglutinante se converte no segundo estado em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são fixadas em suas posições e orientações atuais e não podem mais se mover nem girar dentro do material aglutinante.
[0046] Como é do conhecimento dos peritos na especialidade, ingredientes compreendidos em uma composição de revestimento curável por radiação a ser aplicada sobre uma superfície como um substrato e as propriedades físicas da referida composição de revestimento curável por radiação devem atender aos requisitos do processo usado para transferir a composição de revestimento curável por radiação para a superfície do substrato. Consequentemente, o material aglutinante compreendido nas primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento é tipicamente escolhido entre aqueles conhecidos na técnica e depende do processo de revestimento ou impressão usado para aplicar a primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação e o processo de cura por radiação escolhido.
[0047] Nas camadas de efeito ótico (OELs) (x20) descritas no presente documento, as partículas de pigmento magnética ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento são respetivamente dispersas na primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo um material aglutinante curado que fixa/congela a orientação das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esférico. O material aglutinante curado é pelo menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética de uma gama de comprimentos de onda compreendidos entre 200 nm e 2500 nm. O material aglutinante é assim, pelo menos em seu estado curado ou sólido (também referido como segundo estado neste documento), é pelo menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética de uma gama de comprimentos de onda compreendidos entre 200 nm e 2500 nm, isto é, dentro do intervalo de comprimento de onda que normalmente é referido como o "espetro ótico" e que compreende porções infravermelho, visível e UV do espetro eletromagnético, de modo que as partículas contidas no material aglutinante em seu estado curado ou sólido e sua refletividade dependente da orientação possam ser percebidas através do material aglutinante. Preferentemente, o material aglutinante curado é pelo menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética de uma gama de comprimentos de onda compreendidos entre 200 nm e 800 nm, mais preferentemente compreendido entre 400 nm e 700 nm. No presente documento, o termo "transparente" indica que a transmissão de radiação eletromagnética através de uma camada de 20 µm do material aglutinante presente na OEL (x20) (não incluindo as partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas, mas todos os outros componentes opcionais da OEL, caso esses componentes estejam presentes) seja de pelo menos 50 %, mais preferentemente pelo menos 60 %, ainda mais preferentemente pelo menos 70 %, no(s) comprimento(s) de onda em questão. Isso pode ser determinado, por exemplo, medindo a transmitância de uma peça de teste do material aglutinante curado (não incluindo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas) de acordo com métodos de teste bem estabelecidos, por exemplo DIN 5036-3 (1979-11). Se a OEL (x20) servir como um recurso de segurança secreto, então serão necessários meios tipicamente técnicos para detetar o efeito ótico (completo) gerado pela OEL (x20) sob as respetivas condições de iluminação que compreendem o comprimento de onda não visível selecionado; a dita deteção exigindo que o comprimento de onda da radiação incidente seja selecionado fora da faixa visível, por exemplo, na faixa quase UV. Neste caso, é preferível que a OEL (x20) compreenda partículas de pigmento luminescente que mostrem luminescência em resposta ao comprimento de onda selecionado fora do espectro visível contido na radiação incidente. As porções de infravermelho, visível e UV do espetro eletromagnético correspondem aproximadamente às faixas de comprimento de onda entre 700-2500 nm, 400-700 nm e 200- 400 nm respetivamente.
[0048] Conforme mencionado anteriormente no presente documento, a primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação descritas no presente documento depende do processo de revestimento ou impressão usado para aplicar as ditas composições de revestimento curáveis por radiação e o processo de cura escolhido. Preferentemente, a cura da primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação envolve uma reação química que não é revertida por um simples aumento de temperatura (por exemplo, até 80 °C) que pode ocorrer durante uma utilização típica de um artigo compreendendo a OEL (x20) descrita no presente documento. O termo "cura" ou "curável" refere-se a processos, incluindo a reação química, reticulação ou polimerização de pelo menos um componente na composição de revestimento curável por radiação aplicada de tal maneira que se transforme num material polimérico com uma massa molecular maior do que as substâncias de partida. A cura por radiação leva vantajosamente a um aumento instantâneo na viscosidade da composição de revestimento curável por radiação após exposição à irradiação de cura, evitando assim qualquer movimento adicional das partículas de pigmento e, consequentemente, qualquer perda de informação após a etapa de orientação magnética. Preferentemente, a etapa de cura (etapa c)) é levada a cabo por cura por radiação, incluindo a cura por radiação visível por UV ou por radiação por feixe E, mais preferentemente por cura por radiação de luz UV-Vis.
[0049] Como tal, primeira e segunda composições de revestimento curáveis por radiação adequadas para a presente invenção incluem composições curáveis por radiação que podem ser curadas por radiação de luz visível a UV (a seguir no presente documento denominada curável por radiação de UV-Vis) ou por radiação de feixe E (a seguir no presente documento denominada EB). As composições curáveis por radiação são conhecidas na técnica e podem ser encontradas em livros didáticos padrão, como a série "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints", Volume IV, Formulation, de C. Lowe, G. Webster, S. Kessel e I. McDonald, 1996 de John Wiley & Sons em associação com SITA Technology Limited. De acordo com uma forma de realização particularmente preferida da presente invenção, a primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação descritas no presente documento são composições de revestimento curáveis por radiação UV-Vis.
[0050] Preferentemente, a primeira e a segunda composição de revestimento curável por radiação UV-Vis compreendem independentemente um ou mais compostos selecionados a partir do grupo que consiste em compostos radicalmente curáveis e compostos curáveis cationicamente.
A primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação UV-Vis descritas no presente documento pode ser independentemente sistemas híbridos e compreendem uma mistura de um ou mais compostos curáveis cationicamente e um ou mais compostos radicalmente curáveis.
Os compostos cationicamente curáveis são curados por mecanismos catiónicos, geralmente incluindo a ativação por radiação de um ou mais fotoiniciadores que libertam espécies catiónicas, como ácidos, que por sua vez iniciam a cura de modo a reagir e/ou reticular os monómeros e/ou oligómeros para assim curar a composição de revestimento curável por radiação.
Os compostos radicalmente curáveis são curados por mecanismos de radicais livres, geralmente incluindo a ativação por radiação de um ou mais fotoiniciadores, desse modo gerando radicais que por sua vez iniciam a polimerização de modo a curar a composição de revestimento curável por radiação.
Dependendo dos monómeros, oligómeros ou pré-polímeros usados para preparar o ligante compreendido nas primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação UV-Vis descritas no presente documento, podem ser utilizados diferentes fotoiniciadores.
Exemplos adequados de fotoiniciadores de radicais livres são conhecidos dos peritos na especialidade e incluem, sem limitação, acetofenonas, benzofenonas, benzildimetil cetais, alfa-aminocetonas, alfa-hidroxicetonas, óxidos de fosfina e derivados de óxido de fosfina, bem como misturas de dois ou mais dos mesmos.
Exemplos adequados de fotoiniciadores catiónicos são conhecidos dos peritos na especialidade, como sais orgânicos de iodónio (por exemplo, sais de diaril-iodoinio), oxónio (por exemplo, sais de triariloxónio) e sais de sulfónio (por exemplo, sais de triarilsulfónio), bem como misturas de dois ou mais dos mesmos. Outros exemplos de fotoiniciadores úteis podem ser encontrados em livros didáticos padrão, como "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints", Volume III, "Photoinitiators for Free Radical Cationic and Anionic Polymerization", 2ª edição, de J. V. Crivello & K. Dietliker, editado por G. Bradley e publicado em 1998 de John Wiley & Sons em associação com SITA Technology Limited. Também pode ser vantajoso incluir um sensibilizador em conjunto com um ou mais fotoiniciadores, a fim de obter uma cura eficiente. Exemplos típicos de fotosensibilizadores adequados incluem, sem limitação, isopropil-tioxantona (ITX), 1-cloro-2-propoxi- tioxantona (CPTX), 2-cloro-tioxantona (CTX) e 2,4-dietil-tioxantona (DETX) e misturas de dois ou mais dos mesmos. O um ou mais fotoiniciadores compreendidos nas composições de revestimento curáveis por radiação UV-Vis estão preferencialmente presentes numa quantidade total desde cerca de 0,1 % em peso até cerca de 20 % em peso, mais preferentemente de cerca de 1 % em peso a cerca de 15 % em peso, sendo a percentagem de peso baseada no peso total das composições de revestimento curáveis por radiação UV-Vis.
[0051] A primeira e a segunda composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento pode ainda compreender independentemente uma ou mais substâncias marcadoras ou taggants e/ou um ou mais materiais legíveis por máquina selecionados a partir do grupo que consiste em materiais magnéticos (diferentes das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas descritas no presente documento), materiais luminescentes, materiais eletricamente condutores e materiais absorvedores de infravermelho. Conforme utilizado no presente documento, o termo "material legível por máquina" refere-se a um material que exibe pelo menos uma propriedade distintiva que não é percetível a olho nu e que pode ser compreendida numa camada de modo a conferir uma maneira de autenticar a dita camada ou artigo que compreende a dita camada pela utilização de um equipamento específico para a sua autenticação.
[0052] A primeira e a segunda composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento pode ainda compreender independentemente um ou mais componentes corantes selecionados a partir do grupo que consiste em partículas de pigmento orgânico, partículas de pigmentos inorgânicos e corantes orgânicos e/ou um ou mais aditivos. Estes últimos incluem, sem limitação, compostos e materiais utilizados para o ajuste físico, parâmetros reológicos e químicos da composição de revestimento curável por radiação, como a viscosidade (por exemplo, solventes, espessantes e surfactantes), a consistência (por exemplo, agentes anti-sedimentação, enchimentos e plastificantes), as propriedades de formação de espuma (por exemplo, agentes antiespuma), as propriedades lubrificantes (ceras, óleos), estabilidade UV (fotoestabilizadores), as propriedades de adesão, as propriedades antiestáticas, a estabilidade de armazenamento (inibidores de polimerização) etc. Os aditivos descritos no presente documento podem estar presentes na composição de revestimento curável por radiação em quantidades e em formas conhecidas na técnica, incluindo os chamados nanomateriais em que pelo menos uma das dimensões do aditivo está na faixa de 1 a 1000 nm.
[0053] O(s) ligante(s), o(s) fotoiniciador(es), a(s) substância(s) marcadora(s), o(s) taggant(s), o(s) material(is) legível(is) por máquina, o(s) componente(s) de coloração e aditivo(s) da primeira e da segunda composições de revestimento curáveis por radiação descritas no presente documento podem ser independentemente iguais ou podem ser diferentes.
[0054] A primeira e a segunda composições de revestimento curáveis por radiação descritas no presente documento compreendem independentemente as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento.
Preferentemente, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso, mais preferentemente de cerca de 4 % em peso a cerca de 30 % em peso, sendo a percentagem em peso baseada no peso total da primeira composição de revestimento curável por radiação que compreende o material aglutinante, as partículas de pigmento não esféricas magnético ou magnetizável e outros componentes opcionais da primeira composição de revestimento curável por radiação, respetivamente. Preferentemente, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso, mais preferentemente de cerca de 4 % em peso a cerca de 30 % em peso, sendo a percentagem em peso baseada no peso total da segunda composição de revestimento curável por radiação que compreende o material aglutinante, as partículas de pigmento não esféricas magnético ou magnetizável e outros componentes opcionais da segunda composição de revestimento curável por radiação, respetivamente.
[0055] De acordo com uma forma de realização da presente invenção, a primeira composição de revestimento curável por radiação e a segunda composição de revestimento curável por radiação descritas no presente documento compreendem uma quantidade diferente das partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticas não esféricas descritas no presente documento, em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão preferentemente presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso, mais preferentemente de cerca de 4 % em peso a cerca de 30 % em peso na primeira composição de revestimento curável por radiação e em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão preferentemente presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso, mais preferentemente de cerca de 4 % em peso a cerca de 30 % em peso na segunda composição de revestimento curável por radiação. De acordo com outra forma de realização da presente invenção, a primeira composição de revestimento curável por radiação e a segunda primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação descritas no presente documento compreendem cerca da mesma quantidade das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento nas primeiras composições de revestimento curáveis por radiação, preferentemente numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso, mais preferentemente de cerca de 4 % em peso a cerca de 30 % em peso.
[0056] As partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento são definidas como tendo, devido à sua forma não esférica, refletividade não isotrópica em relação a uma radiação eletromagnética incidente para a qual o material aglutinante endurecido é pelo menos parcialmente transparente. Conforme utilizado no presente documento, o termo "refletividade não isotrópica" indica que a proporção de radiação incidente de um primeiro ângulo que é refletida por uma partícula numa determinada direção (de visualização) (um segundo ângulo) é uma função da orientação das partículas, isto é, que uma alteração da orientação da partícula em relação ao primeiro ângulo pode levar a uma magnitude diferente da reflexão na direção de visualização. Preferentemente, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento têm uma refletividade não isotrópica em relação à radiação eletromagnética incidente em algumas partes ou na faixa completa do comprimento de onda desde cerca de 200 até cerca de 2500 nm, mais preferentemente desde cerca de 400 até cerca de 700 nm, de modo que uma mudança na orientação da partícula resulte em uma mudança de reflexão dessa partícula em uma determinada direção. Conforme conhecido pelo perito na especialidade, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis descritas no presente documento são diferentes dos pigmentos convencionais, as ditas partículas de pigmento convencionais exibindo a mesma cor para todos os ângulos de visão, enquanto que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis descritas no presente documento exibem refletividade não isotrópica, como descrito acima.
[0057] As partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são de preferência prolato ou oblato em forma de elipsoide, partículas em forma de plaquetas ou em agulha ou uma mistura de duas ou mais delas e mais preferencialmente partículas em forma de plaquetas.
[0058] Exemplos adequados de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento incluem, sem limitação, partículas de pigmento compreendendo um metal magnético selecionado a partir do grupo que consiste em cobalto (Co), Ferro (Fe), gadolínio (Gd) e níquel (Ni); ligas magnéticas de ferro, manganês, cobalto, níquel e misturas de dois ou mais dos mesmos; óxidos magnéticos de crómio, manganês, cobalto, ferro, níquel e misturas de dois ou mais dos mesmos; e misturas de dois ou mais dos mesmos. O termo "magnético" em referência aos metais, ligas e óxidos são direcionados a metais ferromagnéticos ou ferrimagnéticos, ligas e óxidos. Óxidos magnéticos de crómio, manganês, cobalto, ferro, níquel ou uma mistura de dois ou mais dos mesmos podem ser óxidos puros ou mistos. Exemplos de óxidos magnéticos incluem, sem limitação, óxidos de ferro como hematita (Fe2O3), magnetita (Fe3O4), dióxido de crómio (CrO2), ferritas magnéticas (MFe2O4), espinélios magnéticos (MR2O4), hexaferritas magnéticas (MFe12O19), ortoferritas magnéticas (RFeO3), granadas magnéticas M3R2(AO4)3, em que M significa um metal de duas valências, R significa metal com três valências e A representa metal com quatro valências.
[0059] Exemplos de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento incluem,
sem limitação, partículas de pigmento compreendendo uma camada magnética M feita a partir de um ou mais de um metal magnético, como cobalto (Co), Ferro (Fe), gadolínio (Gd) ou níquel (Ni); e uma liga magnética de ferro, cobalto ou níquel, em que as ditas partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas podem ser estruturas de múltiplas camadas que compreendem uma ou mais camadas adicionais.
Preferentemente, as uma ou mais camadas adicionais são as camadas A, feitas independentemente de um ou mais materiais selecionados a partir do grupo que consiste em fluoretos de metal, como fluoreto de magnésio (MgF2), óxido de silício (SiO), dióxido de silício (SiO2), óxido de titânio (TiO2), sulfureto de zinco (ZnS) e óxido de alumínio (Al2O3), mais preferentemente dióxido de silício (SiO2); ou camadas B, fabricadas independentemente a partir de um ou mais materiais selecionados a partir do grupo que consiste em metais e ligas metálicas, preferentemente selecionado a partir do grupo que consiste em metais refletivos e ligas refletivas e mais preferentemente selecionado a partir do grupo que consiste em alumínio (Al), crómio (Cr) e níquel (Ni) e ainda mais preferentemente alumínio (Al); ou uma combinação de uma ou mais camadas A, como as descritas acima e uma ou mais camadas B, como as descritas acima.
Exemplos típicos de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta que são estruturas multicamadas descritas acima incluem, sem limitação, estruturas multicamadas A/M, estruturas multicamadas A/M/A, estruturas multicamadas A/M/B, estrutura multicamada A/B/M/A, estruturas multicamadas A/B/M/B, estruturas multicamadas A/B/M/B/A, estrutura multicamada B/M, estruturas multicamadas B/M/B, B estruturas multicamadas B/A/M/A, B estruturas multicamadas B/A/M/B, estruturas multicamadas B/A/M/B/A/, em que as camadas A, as camadas magnéticas M e as camadas B são escolhidas dentre as descritas acima.
[0060] Pelo menos parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento pode ser constituída por partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas e/ou partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas sem propriedades oticamente variáveis.
Preferentemente, pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento é constituída por partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas.
Além da segurança aberta fornecida pela propriedade de mudança de cores de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas, que permite detetar facilmente, reconhecer e/ou discriminar um artigo ou documento de segurança portando uma tinta, composição de revestimento curável por radiação, revestimento ou camada compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente não esféricas descritas no presente documento a partir de suas possíveis falsificações, usando os sentidos humanos não auxiliados, as propriedades óticas das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variável em forma de plaqueta também podem ser usadas como uma ferramenta legível por máquina para o reconhecimento da OEL.
Consequentemente, as propriedades óticas das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas podem ser usadas simultaneamente como um recurso de segurança secreto ou semissecreto num processo de autenticação em que as propriedades óticas (por exemplo, espetrais) das partículas de pigmento são analisadas.
A utilização de partículas de pigmento magnética ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas em composições de revestimento curáveis por radiação para produzir a OEL (x20) aumenta a importância da dita OEL como um recurso de segurança em aplicações de documentos de segurança, porque esses materiais (isto é, partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis oticamente não esféricas) são reservados à indústria de impressão de documentos de segurança e não estão disponíveis comercialmente ao público.
[0061] Além disso, e devido às suas características magnéticas, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento são legíveis por máquina e, portanto, as composições de revestimento curáveis por radiação compreendendo essas partículas de pigmento podem ser detetadas, por exemplo, com detetores magnéticos específicos. As composições de revestimento curáveis por radiação compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento podem, portanto, ser usadas como um elemento de segurança secreto ou semissecreto (ferramenta de autenticação) para documentos de segurança.
[0062] Conforme mencionado acima, preferentemente pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas é constituída por partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas. Estes podem mais preferentemente ser selecionados do grupo que consiste em partículas de pigmento de interferência de película fina magnética não esférica, partículas de pigmento de cristal líquido colestérico magnético não esféricas, partículas de pigmento revestidas por interferência não esféricas compreendendo um material magnético e misturas de dois ou mais dos mesmos.
[0063] As partículas de pigmento de interferência de película fina magnética são conhecidas dos especialistas na técnica e são divulgadas por exemplo nos documentos US 4.838.648; WO 2002/073250 A2; EP 0 686 675 B1; WO 2003/000801 A2; US 6.838.166; WO 2007/131833 A1; EP 2 402 401 A1 e nos documentos citados nestes documentos. Preferentemente, as partículas de pigmento de interferência de película fina magnético compreendem partículas de pigmento com uma estrutura multicamada Fabry-Perot de cinco camadas e/ou partículas de pigmento tendo uma estrutura multicamada Fabry-Perot de seis camadas e/ou partículas de pigmento tendo uma estrutura multicamada Fabry-Perot de sete camadas.
[0064] As estruturas multicamadas Fabry-Perot de cinco camadas preferidas consistem em estruturas multicamadas de absorvedor/dielétrico/refletor/dielétrico/absorvedor em que o refletor e/ou o absorvedor também é uma camada magnética, preferentemente o refletor e/ou o absorvedor é uma camada magnética compreendendo níquel, ferro e/ou cobalto e/ou uma liga magnética compreendendo níquel, ferro e/ou cobalto e/ou um óxido magnético compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co).
[0065] As estruturas multicamadas Fabry-Perot de seis camadas preferidas consistem em estruturas multicamadas de absorvedor/dielétrico/refletor/magnético/dielétrico/absorvedor.
[0066] As estruturas multicamadas Fabry Perot de sete camadas preferidas consistem em estruturas multicamadas de absorvedor/dielétrico/refletor/magnético/refletor/dielétrico/absorvedor, como divulgado no documento US 4.838.648.
[0067] Preferentemente, as camadas refletor descritas no presente documento são fabricadas independentemente a partir de um ou mais materiais selecionados a partir do grupo que consiste em metais e ligas metálicas, preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em metais refletivos e ligas metálicas refletivas, mais preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em alumínio (Al), prata (Ag), cobre (Cu), ouro (Au), platina (Pt), estanho (Sn), titânio (Ti), paládio (Pd), ródio (Rh), nióbio (Nb), crómio (Cr), níquel (Ni) e ligas dos mesmos, ainda mais preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em alumínio (Al), crómio (Cr), níquel (Ni) e ligas dos mesmos, e ainda mais preferentemente alumínio (Al). Preferentemente, as camadas dielétricas são feitas independentemente de um ou mais materiais selecionados a partir do grupo que consiste em fluoretos de metal, como fluoreto de magnésio (MgF2), fluoreto de alumínio (AlF3), fluoreto de cério (CeF3), fluoreto de lantânio (LaF3), fluoretos de alumínio e sódio (por exemplo, Na3AlF6)), fluoreto de neodímio (NdF3), fluoreto de samário (SmF3), fluoreto de bário (BaF2), fluoreto de cálcio (CaF2), fluoreto de lítio (LiF) e óxidos metálicos, como óxido de silício (SiO), dióxido de silício (SiO2), óxido de titânio (TiO2), óxido de alumínio (Al2O3), mais preferencialmente selecionado a partir do grupo que consiste em fluoreto de magnésio (MgF2) e dióxido de silício (SiO2) e ainda mais preferencialmente fluoreto de magnésio (MgF2). Preferentemente, as camadas absorvedoras são feitas de forma independente a partir de um ou mais materiais selecionados a partir do grupo que consiste em alumínio (Al), prata (Ag), cobre (Cu), paládio (Pd), platina (Pt), titânio (Ti), vanádio (V), ferro (Fe), estanho (Sn), tungsténio (W), molibdénio (Mo), ródio (Rh), nióbio (Nb), crómio (Cr), níquel (Ni), óxidos de metal dos mesmos, sulfuretos de metal dos mesmos, carbonetos de metal dos mesmos e ligas de metal dos mesmos, mais preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em crómio (Cr), níquel (Ni), óxidos de metal dos mesmos e ligas de metal dos mesmos e ainda mais preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em crómio (Cr), níquel (Ni) e ligas de metal dos mesmos.
Preferentemente, a camada magnética compreende níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co); e/ou uma liga magnética compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co); e/ou um óxido magnético compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co). Quando partículas de pigmento de interferência de filme fino magnético compreendendo uma estrutura de Fabry-Perot de sete camadas são preferidas, é particularmente preferido que as partículas de pigmento de interferência de película fina magnético compreendam uma estrutura multicamada de absorvedor/dielétrico/refletor/magnético/refletor/magnético/refletor/dielétrico/
absorvente de sete camadas consistindo em uma estrutura multicamada de Cr/MgF2/Al/M/Al/MgF2/Cr, em que a camada magnética M compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co); e/ou uma liga magnética compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co); e/ou um óxido magnético compreendendo níquel (Ni), ferro (Fe) e/ou cobalto (Co).
[0068] As partículas de pigmento de interferência de película fina magnético descritas no presente documento podem ser partículas de pigmento multicamada sendo consideradas seguras para a saúde humana e para o meio ambiente e baseando-se, por exemplo, em estruturas multicamadas Fabry-Perot de cinco camadas, estruturas multicamadas Fabry-Perot de seis camadas e estruturas multicamadas Fabry-Perot de sete camadas, em que as ditas partículas de pigmento incluem uma ou mais camadas magnéticas compreendendo uma liga magnética com uma composição substancialmente isenta de níquel, incluindo de cerca de 40 % em peso a cerca de 90 % em peso de ferro, de cerca de 10 % em peso a cerca de 50 % em peso de crómio e de cerca de 0 % em peso a cerca de 30 % em peso de alumínio. Exemplos típicos de partículas de pigmento multicamada sendo considerados seguros para a saúde humana e o meio ambiente podem ser encontrados no documento EP 2 402 401 A1, que é pela presente incorporado como referência na sua totalidade.
[0069] As partículas de pigmento de interferência de película fina magnética descritas no presente documento são tipicamente fabricadas por uma técnica de deposição convencional para as diferentes camadas necessárias numa trama. Após a deposição do número desejado de camadas, por exemplo. por deposição física de vapor (PVD), deposição de vapor químico (DCV) ou deposição eletrolítica, a pilha de camadas é removida da trama, dissolvendo uma camada de libertação num solvente adequado ou removendo o material da trama. O material obtido é então decomposto em partículas de pigmento em forma de plaquetas que precisam ser processadas posteriormente por trituração, moagem (como por exemplo processos de moagem a jato) ou qualquer método adequado para obter partículas de pigmento do tamanho necessário. O produto resultante consiste em partículas de pigmento planas em forma de plaquetas com bordas quebradas, formas irregulares e diferentes proporções. Podem ser encontradas informações adicionais sobre a preparação de partículas de pigmento de interferência de película fina magnético em forma de plaquetas por exemplo nos documentos EP 1 710 756 A1 e EP 1 666 546 A1 que são pela presente incorporados como referência.
[0070] As partículas de pigmento de cristal líquido colestérico magnético adequadas que exibem características oticamente variáveis incluem, sem limitação, partículas de pigmento de cristal líquido colestérico magnético em monocamada e partículas de pigmento de cristal líquido colestérico magnético em várias camadas. Tais partículas de pigmento são divulgadas, por exemplo, nos documentos WO 2006/063926 A1, US
6.582.781 e US 6.531.221. O documento WO 2006/063926 A1 divulga monocamadas e partículas de pigmentos obtidas com altas propriedades de brilho e desvio de cores com propriedades particulares adicionais, tais como magnetizabilidade. As monocamadas e partículas de pigmento divulgadas, que são obtidos através da trituração das ditas monocamadas, incluem uma mistura de cristal líquido colestérico reticulado tridimensionalmente e nanopartículas magnéticas. Os documentos US
6.582.781 e US 6.410.130 divulgam partículas de pigmento colestérico de multicamadas que compreendem a sequência A1/B/A2, em que A1 e A2 podem ser idênticos ou diferentes e cada um compreende pelo menos uma camada colestérica, e B é uma camada intermédia que absorve toda ou parte da luz transmitida pelas camadas A1 e A2 e confere propriedades magnéticas à dita camada intermediária. O documento US 6.531.221 divulga partículas de pigmento colestérico em forma de plaquetas que compreendem a sequência A/B e opcionalmente C, em que A e C são camadas absorventes compreendendo partículas de pigmento que conferem propriedades magnéticas, e B é uma camada colestérica.
[0071] Os pigmentos revestidos por interferência adequados compreendendo um ou mais materiais magnéticos incluem, sem limitação, estruturas consistindo em um substrato selecionado a partir do grupo que consiste em um núcleo revestido com uma ou mais camadas, em que pelo menos um dos núcleos ou uma ou mais camadas têm propriedades magnéticas. Por exemplo, pigmentos revestidos por interferência adequados compreendem um núcleo feito de um material magnético, como os descritos acima, o dito núcleo sendo revestido com uma ou mais camadas feitas de um ou mais óxidos metálicos, ou eles têm uma estrutura que consiste em um núcleo feito de micas sintéticas ou naturais, silicatos em camadas (por exemplo, talco, caulino e sericita), vidros (por exemplo, borossilicatos), dióxidos de silício (SiO2), óxidos de alumínio (Al2O3), óxido de titânio (TiO2), grafites e misturas de dois ou mais dos mesmos. Adicionalmente, uma ou mais camadas adicionais, como camadas de coloração, podem estar presentes.
[0072] As partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento podem ser tratadas superficialmente para protegê-las contra qualquer deterioração que possa ocorrer na composição de revestimento curável por radiação e/ou para facilitar sua incorporação na composição de revestimento curável por radiação; tipicamente podem ser utilizados materiais inibidores de corrosão e/ou agentes humectantes.
[0073] De acordo com uma forma de realização da presente invenção, a primeira composição de revestimento curável por radiação e a segunda primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação descritas no presente documento compreendem diferentes partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas descritas no presente documento em termos de tamanho e/ou propriedades de cor incluindo, por exemplo, propriedades oticamente variáveis. De acordo com outra forma de realização da presente invenção, a primeira composição de revestimento curável por radiação e a segunda primeira e segunda composição de revestimento curável por radiação descritas no presente documento compreendem as mesmas partículas de pigmento magnetizáveis ou magnéticas não esféricas descritas no presente documento em termos de tamanho e/ou propriedades de cor incluindo, por exemplo, propriedades oticamente variáveis. De acordo com uma forma de realização da presente invenção, a primeira composição de revestimento curável por radiação e a segunda composição de revestimento curável por radiação descritas no presente documento são as mesmas.
[0074] De acordo com uma forma de realização, e desde que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas sejam partículas de pigmento em forma de plaquetas, o processo para produzir a camada de efeito ótico descrita no presente documento pode ainda compreender uma ou duas etapas de expor a composição de revestimento curável por radiação descrita no presente documento a um campo magnético dinâmico de um dispositivo gerador de campo magnético, de modo a orientar biaxialmente pelo menos uma parte de as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta. De acordo com uma forma de realização, o processo compreende ainda uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético dinâmico de um dispositivo gerador de campo magnético de modo a orientar biaxialmente pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta, a dita etapa a ser levada a cabo após a etapa a) e antes da etapa b) e/ou o processo compreende ainda uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético dinâmico de um dispositivo gerador de campo magnético de modo orientar biaxialmente pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta, sendo a dita etapa levada a cabo após a etapa d) e antes da etapa e).
[0075] Processos que compreendem tais etapas de expor uma composição de revestimento a um campo magnético dinâmico de um primeiro dispositivo gerador de campo magnético, de modo a orientar biaxialmente pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta antes de uma etapa de ainda expor a composição de revestimento a um segundo dispositivo gerador de campo magnético, são divulgados no documento WO 2015/086257 A1. Posteriormente à exposição da composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético dinâmico do primeiro dispositivo gerador de campo magnético descrito no presente documento e enquanto a composição de revestimento curável por radiação ainda está húmida ou macia o suficiente para que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas nele pode ser ainda mais movido e girado, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta são ainda reorientadas pela utilização do campo magnético do primeiro/segundo conjunto magnético (x00-a, x00-b) descrito no presente documento.
[0076] Realizar uma orientação biaxial significa que partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas são feitas para se orientar de tal maneira que seus dois eixos principais sejam restringidos. Isto é, cada partícula de pigmento magnética ou magnetizável em forma de plaqueta pode ser considerada como tendo um eixo principal no plano da partícula de pigmento e um eixo menor ortogonal no plano da partícula de pigmento. Os eixos principais e secundários das partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas são orientados de acordo com o campo magnético dinâmico. Efetivamente, isso resulta em partículas de pigmento magnéticas vizinhas em forma de plaquetas que estão próximas umas das outras no espaço para serem essencialmente paralelas umas às outras. Com a finalidade de executar uma orientação biaxial, as partículas de pigmento magnéticas em forma de plaquetas devem ser submetidas a um campo magnético externo fortemente dependente do tempo. Colocado de outra forma, a orientação biaxial alinha os planos das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas, de modo que os planos das ditas partículas de pigmento sejam orientados para serem essencialmente paralelos em relação aos planos das partículas (em todas as direções) de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas vizinhas. Numa forma de realização, o eixo principal e o eixo menor perpendicular ao eixo principal descrito acima dos planos das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas são orientados pelo campo magnético dinâmico, de modo que as partículas de pigmento vizinhas (em todas as direções) tenham suas maiores e menores eixos alinhados um com o outro.
[0077] De acordo com uma forma de realização, a etapa de realizar uma orientação biaxial das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas leva a uma orientação magnética em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas têm seus dois eixos principais substancialmente paralelos à superfície do substrato. Para esse alinhamento, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas são planarizadas dentro da composição de revestimento curável por radiação no substrato e são orientadas com o eixo X e o eixo Y (mostrados na Figura 1 do documento WO 2015/086257 A1) paralelos à superfície do substrato.
[0078] De acordo com outra forma de realização, a etapa de transportar uma orientação biaxial das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas leva a uma orientação magnética em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas têm um primeiro eixo dentro do plano XY substancialmente paralelo à superfície do substrato e um sendo o segundo eixo perpendicular ao dito primeiro eixo a um ângulo de elevação substancialmente diferente de zero da superfície do substrato.
[0079] De acordo com outra forma de realização, a etapa de portar uma orientação biaxial das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas leva a uma orientação magnética em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas têm seu plano X-Y paralelo a uma superfície esferoide imaginária.
[0080] Dispositivos geradores de campo magnético particularmente preferidos para orientação biaxial das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas são divulgados no documento EP 2 157 141 A1. O dispositivo gerador de campo magnético divulgado no documento EP 2 157 141 A1 fornece um campo magnético dinâmico que muda de direção, forçando as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta a oscilar rapidamente até os dois eixos principais, eixo X e eixo Y, tornando-se paralelo à superfície do substrato, isto é, as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas giram até chegarem à formação estável em forma de folha com seus eixos X e Y paralelos à superfície do substrato e são planarizados nas ditas duas dimensões.
[0081] Outros dispositivos geradores de campo magnético particularmente preferidos para orientação biaxial das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas compreendem matrizes de Halbach de íman permanente linear, isto é, conjuntos que compreendem uma pluralidade de ímanes com diferentes direções de magnetização. A descrição detalhada dos ímanes permanentes de Halbach foi dada por Z.Q. Zhu et D. Howe (Halbach permanent magnet machines and applications: a review, IEE. Proc. Electric Power Appl., 2001, 148, p. 299-308). O campo magnético produzido por esse arranjo de
Halbach tem as propriedades de estar concentrado em um lado e enfraquecer quase a zero no outro lado. O pedido copendente EP
14195159.0 divulga dispositivos adequados para partículas de pigmentos magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas de orientação biaxial, em que os ditos dispositivos compreendem um conjunto de cilindro Halbach. Outros dispositivos geradores de campo magnético particularmente preferidos para orientar biaxialmente as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta são ímanes giratórios, os ditos ímanes compreendendo ímanes giratórios em forma de disco ou conjuntos de ímanes que são essencialmente magnetizados ao longo de seu diâmetro. ímanes giratórios ou conjuntos de ímanes adequados são descritos no documento US 2007/0172261 A1, os ditos ímanes giratórios ou conjuntos de ímanes geram campos magnéticos variáveis no tempo radialmente simétricos, permitindo a orientação dupla de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas de uma composição de revestimento ainda não endurecida. Esses ímanes ou conjuntos de ímanes são acionados por um eixo (ou eixo) conectado a um motor externo. O documento CN 102529326 B divulga exemplos de dispositivos geradores de campo magnético compreendendo ímanes giratórios que podem ser adequados para partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas de orientação biaxial. Numa forma de realização preferida, dispositivos geradores de campo magnético adequados para partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaquetas de orientação biaxial são ímanes giratórios em forma de disco sem eixo ou conjuntos de ímanes restringidos num alojamento feito de materiais não magnéticos, de preferência não condutores, e são acionados por uma ou mais bobinas de fio magnético enroladas ao redor do alojamento. Exemplos de tais ímanes giratórios em forma de disco sem eixo ou conjuntos de ímanes são divulgados nos documentos WO 2015/082344 A1 e WO 2016/026896 A1.
[0082] O substrato (x10) descrito no presente documento é preferentemente selecionado a partir do grupo que consiste em papéis ou outros materiais fibrosos, tais como celulose, materiais contendo papel, vidros, metais, cerâmicas, plásticos e polímeros, plásticos ou polímeros metalizados, materiais compósitos e misturas ou combinações dos mesmos.
Papel típico, materiais semelhantes a papel ou outros materiais fibrosos são feitos de uma variedade de fibras, incluindo, sem limitação, a abaca, algodão, linho, pasta de madeira e misturas dos mesmos.
Como é bem conhecido para os peritos na especialidade, as misturas de algodão e algodão/linho são preferidas para as notas, enquanto a polpa de madeira é comumente usada em documentos de segurança que não são notas.
Exemplos típicos de plásticos e polímeros incluem poliolefinas, como polietileno (PE) e polipropileno (PP), poliamidas, poliésteres como poli(tereftalato de etileno) (PET), poli(tereftalato de 1,4-butileno) (PBT), poli(2,6-naftoato de etileno) (PEN) e cloretos de polivinilo (PVC). Fibras de olefina spunbond, como as vendidas sob a marca comercial Tyvek®, também podem ser usadas como substrato (x10). Exemplos típicos de plásticos ou polímeros metalizados incluem os materiais plásticos ou poliméricos descritos acima com um metal disposto continuamente ou descontinuamente em sua superfície.
Exemplos típicos de metais incluem, sem limitação, alumínio (Al), crómio (Cr), cobre (Cu), ouro (Au), Ferro (Fe), níquel (Ni), prata (Ag), combinações dos mesmos ou ligas de dois ou mais dos metais acima mencionados.
A metalização dos materiais plásticos ou poliméricos descritos acima pode ser realizada por um processo de eletrodeposição, um processo de revestimento a alto vácuo ou por um processo de pulverização.
Exemplos típicos de materiais compósitos incluem, sem limitação, estruturas multicamadas ou laminados de papel e pelo menos um material plástico ou polímero, como os descritos acima, bem como fibras plásticas e/ou poliméricas incorporadas em um material semelhante a papel ou fibroso, como os descritos acima.
Obviamente, o substrato (x10) pode compreender outros aditivos conhecidos do perito na especialidade, tais como agentes de dimensionamento, branqueadores, auxiliares de processamento, agentes de reforço ou de fortalecimento húmido, etc. O substrato (x10) descrito no presente documento pode ser fornecido sob a forma de uma trama (por exemplo, uma folha contínua dos materiais descritos acima) ou sob a forma de folhas. Caso a OEL (x20) produzida de acordo com a presente invenção esteja num documento de segurança e com o objetivo de aumentar ainda mais o nível de segurança e a resistência à falsificação e reprodução ilegal do dito documento de segurança, o substrato (x10) pode compreender sinais impressos, revestidos ou marcados a laser ou perfurados a laser, marcas d'água, fios de segurança, fibras, plaquetas, compostos luminescentes, janelas, lâminas, decalques e combinações de dois ou mais dos mesmos. Com o mesmo objetivo de aumentar ainda mais o nível de segurança e a resistência à falsificação e reprodução ilegal de documentos de segurança, o substrato (x10) pode compreender uma ou mais substâncias marcadoras ou taggants e/ou substâncias legíveis por máquina (por exemplo, substâncias luminescentes, substâncias absorventes de UV/visível/IR, substâncias magnéticas e combinações dos mesmos).
[0083] Também são descritos no presente documento o primeiro e o segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir as OELs (x20) descritas no presente documento nos substratos (x10) descritos no presente documento, as ditas OELs (x20) compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas a ser orientadas na primeira composição de revestimento curável por radiação e as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas a ser orientadas na segunda composição de revestimento curável por radiação, como descrito no presente documento.
[0084] Para cada um dos primeiro e segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), o campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x40) interagem de modo que o campo magnético resultante do primeiro e do segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respetivamente, é independentemente capaz de orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas nas primeiras e segundas composições de revestimento curáveis por radiação ainda não curadas, que estão dispostas no campo magnético do primeiro/segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), respetivamente, para produzir uma impressão ótica de um ou mais corpos em forma de ansa tendo um tamanho que varia ao inclinar a camada de efeito ótico (x10).
[0085] Conjuntos magnéticos adequados (x00-a, x00-b) são divulgados nos documentos WO 2017/064052 A1, WO 20170/80698 A1 e WO 2017/148789 A1 que são incorporados no presente documento por referência em sua totalidade.
[0086] As Fig. 2-5 ilustram exemplos de conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) adequados para produzir as camadas de efeito ótico (OELs) (x20) descritas no presente documento quando usadas em duas etapas de orientação independentes (etapas b) e e)), em que os ditos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) compreendem o dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) descritos no presente documento.
[0087] Os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos no presente documento compreendem o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descritos no presente documento, o dito dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa. Os exemplos típicos de combinações de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa incluem, sem limitação, uma combinação de dois ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa circular, três ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa triangular ou uma combinação de quatro ímãs dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa quadrado ou retangular.
[0088] De acordo com algumas formas de realização, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descritos no presente documento compreendem o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descritos no presente documento, o dito dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo ainda a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento. A matriz de suporte (x34) descrita no presente documento mantém juntas todas as partes compreendidas no dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento, isto é, dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), o íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) quando presentes, e uma ou mais peças polares (x33) quando presentes. Em particular, a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento mantém o íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) dentro da ansa definida por, e em relação espaçada com, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa único (x31) ou dentro da ansa definida por, e em relação espaçada com, os dois ou mais ímanes dipolo no arranjo em forma de ansa. O dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) pode ser disposto simetricamente dentro da matriz de suporte (x34) ou pode ser disposto não simetricamente dentro da matriz de suporte (x34).
[0089] A matriz de suporte (x34) descrita no presente documento compreende uma ou mais indentações ou ranhuras para receber o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento, o único íman dipolo (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) descritos no presente documento quando presentes e uma ou mais peças polares (x33) quando presentes.
[0090] A matriz de suporte (x34) do dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento é feita de um ou mais materiais não magnéticos. Os materiais não magnéticos são preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em materiais de baixa condução, materiais não condutores e misturas dos mesmos, como, por exemplo, plásticos e polímeros de engenharia, alumínio, ligas de alumínio, titânio, ligas de titânio e aços austeníticos (isto é, aços não magnéticos). Os plásticos e polímeros de engenharia incluem, sem limitação, poliarilhercetonas (PAEK) e seus derivados polieteretercetonas (PEEK), polietercetonacetonas (PEKK), polieteretercetonacetonas (PEEKK) e polietercetonaetercetonacetonas (PEKEKK); poliacetais, poliamidas, poliésteres, poliéteres, copoliéterésteres, poliimidas, polieterimidas, polietileno de alta densidade (HDPE), polietileno de ultra-alta massa molecular (UHMWPE), tereftalato de polibutileno (PBT), polipropileno, copolímero de acrilonitrilo butadieno estireno (ABS), polietilenos fluorados e perfluorados, poliestirenos, policarbonatos, polifenilenossulfeto (PPS) e polímeros de cristal líquido. Os materiais preferidos são PEEK (polieteretercetona), POM (polioximetileno), PTFE (politetrafluoretileno), Nylon® (poliamida) e PPS.
[0091] Os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) descrito no presente documento compreende o dispositivo gerador de campo magnético (x40) descrito no presente documento, o dito dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) descritos no presente documento. Quando o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é uma combinação de dois ou mais ímanes em barra dipolo (x41), os ditos dois ou mais ímanes em barra dipolo (x41) podem ser separados por uma ou mais peças espaçadoras (x42) feitas de um material não - magnético ou pode ser compreendido numa matriz de suporte feita de um material não magnético. Os materiais não magnéticos são preferentemente selecionados a partir dos materiais fornecidos para a matriz de suporte (x34).
[0092] Durante a primeira etapa de orientação (etapa b)) e a segunda etapa de orientação e)), a distância (h) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (x30) ou a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (x40), (ou seja, a parte que está mais próxima da superfície do substrato (x10)), e a superfície do substrato (x10) voltada para o dito dispositivo gerador de campo magnético (x30) ou o dito dispositivo gerador de campo magnético (x40) está independentemente de preferência entre cerca de 0,1 e cerca de 10 mm e mais preferentemente entre cerca de 0,2 e cerca de 5 mm.
[0093] Durante a primeira etapa de orientação (etapa b)) e a segunda etapa de orientação e)), a distância (d) entre o dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode estar independentemente compreendida na faixa compreendida entre cerca de 0 e cerca de 10 mm, preferentemente entre cerca de 0 e cerca de 3 mm. Primeira forma de realização de conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
[0094] De acordo com uma primeira forma de realização, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir ss OELs (x20) descritss no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento compreende: i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o íman dipolo em forma de ansa único tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolares dispostos num arranjo em forma de ansa e tendo um eixo magnético resultante substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), como descrito no presente documento, em que o dito dispositivo gerador de campo magnético (x30) pode compreender ainda uma matriz de suporte (x34), como as descritas no presente documento e pode ainda compreender uma ou mais peças polares (x33), como as descritas no presente documento, e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético resultante substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), conforme descrito no presente documento. Quando o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo de barra (x41) tendo um eixo magnético resultante substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), os ditos dois ou mais ímanes dipolo (x41) em barra podem ser dispostos numa configuração simétrica ou numa configuração assimétrica. Preferentemente, todos os dois ou mais ímanes dipolo de barra (x41) têm a mesma direção magnética, ou seja, todos eles têm o polo norte voltado para a mesma direção.
[0095] O dispositivo gerador de campo magnético (x30) pode ser colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40) ou, alternativamente, o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode ser colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30). A distância (d) entre o dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode estar compreendida na faixa compreendida entre cerca de 0 e cerca de 10 mm, preferentemente entre cerca de 0 e cerca de 3 mm.
[0096] De acordo com uma forma de realização mostrada nas Fig. 2A-B e Fig. 5A-B, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir as OELs (x20) descritas no presente documento nos substratos (x10) descritos no presente documento compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento e compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o único íman dipolo em forma de ansa, em particular, em forma de anel descrito no presente documento e tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) conforme descrito no presente documento, e i-3) as uma ou mais peças polares (x33), em particular as uma ou mais peças polares em forma de ansa, descritos no presente documento, em que as ditas ums ou mais peças polares em forma de ansa, em particular, em forma de anel, são dispostas simetricamente dentro do circuito do dispositivo gerador de campo magnético em forma de circuito (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) ser a combinação de dois ou mais ímanes de dipolo em barra (x41) descritos no presente documento, cada um dos dois ou mais ímanes de dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, em que os dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) podem ser separados por um ou mais espaçadores (x42) descritos no presente documento, e em que o dispositivo gerador de campo magnético (x30) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40).
[0097] As Fig. 2A-B e Fig. 5A-B ilustram exemplos de conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) adequados para a primeira etapa de orientação (etapa b)) ou para a segunda etapa de orientação (etapa e)) descritas no presente documento, os ditos conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) compreendendo um dispositivo gerador de campo magnético (230/530) e um dispositivo gerador de campo magnético (240/540).
[0098] Os conjuntos magnéticos (200-a, 200-b/500-a, 500-b) das Fig. 2A e 5A compreendem um dispositivo gerador de campo magnético (240/540) sendo uma combinação de dois ou mais ímanes de barra dipolo (241/641) descritos no presente documento, o dito dispositivo gerador de campo magnético (240/540) sendo disposto abaixo do dispositivo gerador de campo magnético (230/630), em que cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (241/541) tem um eixo magnético substancialmente paralelo ao substrato (210/510) superfície e seu polo norte voltado para a mesma direção.
[0099] O dispositivo gerador de campo magnético (240/540) é uma combinação de dois ou mais, sete ímanes dipolo em barra na Fig. 2A e 5A, ímanes dipolo em barra (241/541) e uma ou mais, seis na Fig. 2A e 5A, peças espaçadoras (242/542), feitas de um material não magnético, como os descritos no presente documento para a matriz de suporte (x34). Conforme mostrado nas Fig. 2A e 5A, o arranjo dos dois ou mais ímanes de dipolo em barra (241/541) e as peças espaçadoras (242/542) pode ser não simétrico.
[00100] O dispositivo gerador de campo magnético sendo um íman dipolo de barra (241) pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (B1), uma largura (B2) e uma espessura (B3) mostrado na Fig. 2A. Cada uma das peças espaçadoras (242) pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (B4), uma largura (B5) e uma espessura (B6). O dispositivo gerador de campo magnético sendo um íman dipolo de barra (541) pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (L1), uma largura (L2a) e uma espessura (L3) mostrado na Fig. 5A. Cada uma das peças espaçadoras (542) pode ser um paralelepípedo com um comprimento, uma largura (L2b) e uma espessura (L3).
[00101] O dispositivo gerador de campo magnético (230) compreende a matriz de suporte (234) que pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (A6), uma largura (A7) e uma espessura (A8) mostrado na Fig. 2A. O dispositivo gerador de campo magnético (530) compreende uma matriz de suporte (534) que pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (L4), uma largura (L5) e uma espessura (L6)
mostrado na Fig. 5A.
[00102] O dispositivo gerador de campo magnético (230/530) da Fig. 2A e 5A compreende a matriz de suporte (234/534), o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa sendo um íman dipolo em forma de anel (231/531) e a uma ou mais peças polares em forma de ansa (233/533), em particular uma peça polar em forma de anel, como mostrado na Fig. 2A e 5A, como aquelas descritas no presente documento. O dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa sendo um imã dipolo em forma de anel (231) tem um diâmetro externo (A1), um diâmetro interno (A2) e uma espessura (A5). O dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa sendo um imã dipolo em forma de anel (531) tem um diâmetro externo (L7), um diâmetro interno (L8) e uma espessura (L9). O eixo magnético do íman dipolo em forma de anel (231/531) é substancialmente perpendicular ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (240/540), isto é, substancialmente perpendicular à superfície do substrato (210/510) com o Sul poste voltado para o substrato (210/510).
[00103] A uma ou mais, em particular uma, peças polares em forma de ansa (233) sendo uma peça polar em forma de anel (233) tem um diâmetro externo (A3), um diâmetro interno (A4) e uma espessura (A5). A uma ou mais, em particular uma, peças polares em forma de ansa (533) sendo uma peça polar em forma de anel (533) tem um diâmetro externo (L10), um diâmetro interno (L11) e uma espessura (L9).
[00104] O dispositivo gerador de campo magnético (230/530) e o dispositivo gerador de campo magnético (240/540) estão de preferência em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície inferior da matriz de suporte (234/534) e a superfície superior do íman dipolo em barra (240/540) é de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 2A e 5A para a clareza do desenho). A distância entre a superfície superior da matriz de suporte (234/534) e a superfície do substrato (210/510) voltada para a dita matriz de suporte (234/534) é ilustrada pela distância (h). Preferentemente, a distância (h) está entre cerca de 0,1 e cerca de 10 mm, e mais preferentemente entre cerca de 0,2 e cerca de 6 mm. Segunda forma de realização de conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
[00105] De acordo com uma segunda forma de realização, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir ss OELs (x20) descritss no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) que compreende i- 1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o íman dipolo em forma de ansa único tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, cada um dos dois ou mais ímanes dipolo tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético conforme descrito no presente documento, i-3) o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção do campo magnético conforme descrito no presente documento e/ou uma ou mais peças polares (x33) descritas no presente documento, e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético como descrito no presente documento.
[00106] Preferentemente, as uma ou mais peças polares (x33) descritas no presente documento são peças polares em forma de ansa (x33). Preferentemente, as uma ou mais peças polares (x33), de preferência as uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), estão dispostas dentro do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa. As uma ou mais peças polares (x33), de preferência as uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), podem ser dispostas simetricamente dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) (conforme mostrado na Fig. 2A e 6A) ou pode ser disposto de forma não simétrica dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31). Uma peça polar denota uma estrutura composta de um material magnético macio. Os materiais magnéticos macios têm baixa coercividade e alta saturação. Materiais de alta saturação e baixa coercividade adequados têm uma coercividade inferior a 1000 A m-1, para permitir uma magnetização e desmagnetização rápidas, e sua saturação é preferentemente de pelo menos 0,1 Tesla, mais preferentemente de pelo menos 1,0 Tesla e ainda mais preferentemente de pelo menos 2 Tesla. Os materiais de alta saturação e baixa coercividade descritos no presente documento incluem, sem limitação, ferro magnético macio (de ferro recozido e ferro carbonilo), níquel, cobalto, ferritas macias como ferrita de manganésio-zinco ou ferrita de níquel-zinco, ligas de níquel-ferro (como materiais do tipo permalloy), ligas de cobalto-ferro, ferro silício e ligas de metal amorfo como Metglas® (liga de ferro-boro), preferentemente ferro puro e ferro silício (aço elétrico), bem como ligas de cobalto-ferro e níquel-ferro (materiais do tipo permalloy). A peça polar serve para direcionar o campo magnético produzido por um íman.
[00107] De acordo com uma forma de realização, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento e o íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) descritos no presente documento. O íman dipolo único ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) são dispostos dentro do íman dipolo em forma de ansa (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa. O íman dipolo único (x32) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) podem ser dispostos simetricamente dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) ou podem ser dispostos não simetricamente dentro da ansa do íman dipolo em forma ansa (x31).
[00108] De acordo com outra forma de realização, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento e uma ou mais peças polares (x33), de preferência uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), descritas no presente documento. As uma ou mais peças polares (x33), de preferência uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), são preferentemente dispostas de forma independente dentro do íman dipolo em forma de ansa (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa.
[00109] De acordo com outra forma de realização, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento, o íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) descritos no presente documento e uma ou mais peças polares (x33), de preferência uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), descritas no presente documento. O íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32), bem como as uma ou mais peças polares (x33), de preferência as uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), descritos no presente documento são dispostos independentemente dentro o íman dipolo em forma de ansa (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa. O íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) e um ou mais uma ou mais peças polares (x33), de preferência uma ou mais peças polares em forma de ansa (x33), descritos no presente documento, pode ser disposto independentemente simetricamente ou não simetricamente dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31).
[00110] O dispositivo gerador de campo magnético (x30) pode ser colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40) ou, alternativamente, o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode ser colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x30). Preferentemente, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40).
[00111] A distância (d) entre o dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode estar compreendida na faixa compreendida entre cerca de 0 e cerca de 10 mm, preferentemente entre cerca de 0 e cerca de 3 mm. Terceira forma de realização de conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b):
[00112] De acordo com uma terceira forma de realização, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir as OELs (x20) aqui descritos nos substratos (x10) descritos no presente documento compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) que compreende i- 1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial como descrito no presente documento, e i-3) o íman dipolo único (x32)
tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou de os dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) estão apontando para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) ou em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa(x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético descrita no presente documento.
[00113] De acordo com uma forma de realização, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) compreendem o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento, o dispositivo gerador de campo magnético (x40) descrito no presente documento e as mais uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento,
preferentemente feita dos materiais descritos no presente documento para uma ou mais peças polares (x33). As uma ou mais peças polares (x50) podem ser peças polares em forma de ansa ou peças polares em forma sólida (ou seja, peças polares que não compreendem uma área central sem o material das ditas peças polares), preferentemente peças polares de forma sólida e mais preferentemente peças polares em forma de disco.
[00114] De acordo com uma forma de realização, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) é um íman em forma de ansa único tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma direção radial, ou seja, tendo seu eixo magnético direcionado da área central da ansa do íman em forma de ansa para a periferia quando visto de cima (ou seja, do lado do substrato (x10)) ou em outras palavras, tendo o seu polo norte ou polo sul apontando radialmente em direção à área central da ansa do íman dipolo em forma de ansa. De acordo com uma forma de realização preferida, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) é uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa conforme descrito no presente, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, ou seja, cada íman dipolo tendo seu eixo magnético direcionado da área central da ansa do íman em forma de ansa para a periferia quando visto de cima (ou seja, do lado do substrato (x10)) ou em outras palavras, tendo o seu polo norte ou polo sul apontando radialmente em direção à área central da ansa do íman dipolo em forma de ansa.
[00115] Preferentemente, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento compreende o íman dipolo único (x32), em que o dito íman dipolo único tem um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tem seu polo norte apontando para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou tendo seu polo Sul apontando para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) ou compreende os dois ou mais ímanes dipolo (x32), em que os dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) têm um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e em que o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) conforme descrito no presente documento.
[00116] De acordo com uma forma de realização, o dispositivo gerador de campo magnético (x30) descrito no presente documento compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento e o íman dipolo único (x32) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) descritos no presente documento. O íman dipolo único ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) são dispostos dentro do íman dipolo em forma de ansa (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa. O íman dipolo único
(x32) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) podem ser dispostos simetricamente dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) ou podem ser dispostos não simetricamente dentro da ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma ansa (x31).
[00117] O gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) podem ser dispostos um em cima do outro. Preferentemente, o gerador de campo magnético (x40) é disposto no topo do gerador de campo magnético (x30). Quando uma ou mais uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento são compreendidas nos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b), o gerador de campo magnético (x30) é preferentemente disposto no topo de uma ou mais peças polares (x50) (veja-se, por exemplo, a Fig. 4). A distância (e) entre a superfície inferior do gerador de campo magnético (x30) e a superfície superior de uma ou mais peças polares (x50) pode estar compreendida no intervalo compreendido entre cerca de 0 e cerca de 5 mm, preferentemente entre cerca de 0 e cerca de 1 mm.
[00118] A matriz de suporte (x34) pode conter o íman dipolo único (x32) ou os dois ou mais ímanes dipolo (x32) dentro da ansa definida por, e espaçada em relação com, o íman dipolo em forma de ansa único ou dentro da ansa definido por, e espaçada em relação com, os dois ou mais ímanes dipolo no arranjo em forma de ansa do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31).
[00119] A distância (d) entre o dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode estar compreendida na faixa compreendida entre cerca de 0 e cerca de 10 mm, preferentemente entre cerca de 0 e cerca de 3 mm.
[00120] De acordo com uma forma de realização mostrada na Fig. 3A-B, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir as OELs (x20) descritas no presente documento, os substratos (x10) descritos no presente documento compreendem i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo a combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, tal como descrito no presente documento; e i-3) dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), conforme descrito no presente documento, e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), conforme descrito no presente documento, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é preferentemente disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30).
[00121] A Fig. 3A-B ilustra um exemplo de um conjunto magnético (300-a, 300-b) adequado para a primeira etapa de orientação (etapa b)) ou a segunda etapa de orientação (etapa e)) descritas no presente documento, o dito conjunto magnético (300-a, 300-b)
compreendendo um dispositivo gerador de campo magnético (330) e um dispositivo gerador de campo magnético (340).
[00122] O conjunto magnético (300-a, 300-b) da Fig. 3A compreende um dispositivo gerador de campo magnético (340) sendo o íman dipolo de barra única, o dito dispositivo gerador de campo magnético (340) sendo disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (330). O dispositivo gerador de campo magnético (340) sendo um íman dipolo de barra pode ser um paralelepípedo com um comprimento (B1), uma largura (B2) e uma espessura (B3), como mostrado na Fig. 3A. O eixo magnético Norte-Sul do íman dipolo de barra (340) é substancialmente paralelo à superfície do substrato (310).
[00123] O dispositivo gerador de campo magnético (330) da Fig. 3A compreende a matriz de suporte (334) que pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (A4), uma largura (A5) e uma espessura (A6) mostrado na Fig. 3A.
[00124] O dispositivo gerador de campo magnético (330) da Fig. 3A compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (331) sendo uma combinação de quatro ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de quadrado e uma combinação de dois ou mais, em particular oito, ímanes dipolo (332).
[00125] Cada um dos quatro ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (331) sendo um dispositivo magnético de forma de quadrado pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (A1), uma largura (A2) e uma espessura (A3) conforme mostrado na Fig. 3A. Cada um dos ditos quatro ímanes dipolo tem um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (310) e cada um tem seu polo norte apontando radialmente em direção à área central da ansa do arranjo em forma de quadrado (331) e seu polo sul apontando em direção o exterior da matriz de suporte (334).
[00126] Cada um dos dois ou mais, em particular oito, ímanes dipolo (332) da combinação tem um diâmetro (A7) e uma espessura (A8) e tem um eixo magnético substancialmente perpendicular ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (340), isto é, substancialmente perpendicular à superfície do substrato (310) com o polo Sul voltado para o substrato (310).
[00127] O dispositivo gerador de campo magnético (330) e o dispositivo gerador de campo magnético (340) sendo um íman dipolo em barra única estão de preferência em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (330) e a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (340) é de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 3A para a clareza do desenho). A distância entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (340) e a superfície do substrato (310) voltada para o dito dispositivo gerador de campo magnético (340) é ilustrada pela distância (h). Preferentemente, a distância (h) está entre cerca de 0,1 e cerca de 10 mm, e mais preferentemente entre cerca de 0,2 e cerca de 5 mm.
[00128] De acordo com outra forma de realização mostrada na Fig 4A-B, os conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) para produzir as OELs (x20) descritas no presente documento nos substratos (x10) descritos no presente documento compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo uma combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial descrita no presente documento conforme descrito no presente documento; os dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), conforme descrito no presente documento, e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) descrita no presente documento e iii) as uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento, em que a geração de campo magnético (x40) é preferentemente disposta no topo do gerador de campo magnético (x30) e em que ogerador de campo magnético (x30) está disposto no topo de uma ou mais peças polares (x50).
[00129] A Fig. 4A-B ilustra um exemplo de um conjunto magnético (400-a, 400-b) adequado para a primeira etapa de orientação (etapa b)) ou a segunda etapa de orientação (etapa e)) descritas no presente documento, o dito conjunto magnético (400-a, 400-b) compreendendo um dispositivo gerador de campo magnético (430), um dispositivo gerador de campo magnético (440) e uma ou mais peças polares (450).
[00130] O conjunto magnético (400-a, 400-b) da Fig. 4A compreende um dispositivo gerador de campo magnético (440) sendo o íman dipolo de barra única, o dito dispositivo gerador de campo magnético
(440) sendo disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (430). O dispositivo gerador de campo magnético (440) sendo um íman dipolo de barra pode ser um paralelepípedo com um comprimento (B1), uma largura (B2) e uma espessura (B3), como mostrado na Fig. 4A. O eixo magnético Norte-Sul do íman dipolo de barra (440) é substancialmente paralelo à superfície do substrato (410).
[00131] O dispositivo gerador de campo magnético (430) da Fig. 4A compreende a matriz de suporte (434) que pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (A4), uma largura (A5) e uma espessura (A6) mostrado na Fig. 4A.
[00132] O dispositivo gerador de campo magnético (430) da Fig. 4A compreende o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (431) sendo uma combinação de quatro ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de quadrado e uma combinação de dois ou mais, em particular dezanove, ímanes dipolo (432).
[00133] Cada um dos quatro ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (431) sendo um dispositivo magnético de forma de quadrado pode ser um paralelepípedo tendo um comprimento (A1), uma largura (A2) e uma espessura (A3) conforme mostrado na Fig. 4A. Cada um dos ditos quatro ímanes dipolo tem um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (410) e cada um tem seu polo norte apontando radialmente em direção à área central da ansa do arranjo em forma de quadrado (431) e seu polo sul apontando em direção o exterior da matriz de suporte (434).
[00134] Cada um dos dois ou mais, em particular dezanove, ímanes dipolo (432) da combinação tem um comprimento (A8) e um diâmetro (A7) e tem um eixo magnético substancialmente perpendicular ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (440), isto é, substancialmente perpendicular à superfície do substrato (410) com o polo Sul voltado para o substrato (410).
[00135] O conjunto magnético (400-a, 400-b) da Fig. 4A compreende uma ou mais peças polares (450), em particular uma peça polar em forma de disco (450), tendo um diâmetro (C1) e uma espessura (C2), em que o dispositivo gerador de campo magnético (430) está disposto no topo de uma ou mais peças polares (450).
[00136] O dispositivo gerador de campo magnético (430) e o dispositivo gerador de campo magnético (440) sendo o único íman dipolo de barra estão de preferência em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (430) e a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (440) é de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 4A para a clareza do desenho). A distância entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (440) e a superfície do substrato (410) voltada para o dito dispositivo gerador de campo magnético (440) é ilustrada pela distância (h). Preferentemente, a distância (h) está entre cerca de 0,1 e cerca de 10 mm, e mais preferentemente entre cerca de 0,2 e cerca de 5 mm.
[00137] O dispositivo gerador de campo magnético (430) e as uma ou mais peças polares (450), em particular uma peça polar em forma de disco (450), estão de preferência em contacto direto, isto é, a distância (e) entre a superfície inferior da matriz de suporte (434) do dispositivo gerador de campo magnético (430) e a superfície superior da peça polar em forma de disco (450) é de cerca de 0 mm (não mostrado fiel a escala na Fig. 4A para a clareza do desenho).
[00138] Os dispositivos gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e os dois ou mais ímanes dipolo (x31) dispostos num arranjo em forma de ansa e compreendidos nos dispositivos geradores de campo magnético (x30) são de preferência feitos de forma independente de materiais de alta coercividade (também referidos como materiais magnéticos fortes). Materiais de alta coercividade adequados são materiais com um valor máximo de produto de energia (BH)max de pelo menos 20kJ/m3, preferentemente pelo menos 50 kJ/m3, mais preferentemente pelo menos 100 kJ/m3, ainda mais preferentemente pelo menos 200 kJ/m3. Eles são preferentemente feitos de um ou mais materiais magnéticos sinterizados ou ligados por polímero selecionados a partir do grupo que consiste em Alnicos, como por exemplo Alnico 5 (R1-1-1), Alnico 5 DG (R1- 1-2), Alnico 5-7 (R1-1-3), Alnico 6 (R1-1-4), Alnico 8 (R1-1-5), Alnico 8 HC (R1-1-7) e Alnico 9 (R1-1-6); hexaferritas de fórmula MFe12019, (por exemplo, hexaferrita de estrôncio (SrO*6Fe203) ou hexaferritas de bário (BaO*6Fe203)), ferritas duras da fórmula MFe204 (por exemplo, como ferrita de cobalto (CoFe204) ou magnetita (Fe3O4)), em que M é um ião de metal bivalente), cerâmica 8 (SI-1-5); materiais magnéticos de terras raras selecionados a partir do grupo que compreende RECo5 (com RE = Sm ou Pr), RE2TM17 (com RE = Sm, TM = Fe, Cu, Co, Zr, Hf), RE2TM14B (com RE = Nd, Pr, Dy, TM = Fe, Co); ligas anisotrópicas de Fe Cr Co; materiais selecionados a partir do grupo de PtCo, MnAlC, RE Cobalto 5/16, RE Cobalto 14. Preferentemente, os materiais de alta coercividade das barras magnéticas são selecionados a partir dos grupos que consistem em materiais magnéticos de terras raras e, mais preferentemente, do grupo que consiste em Nd2Fe14B e SmCo5. Particularmente preferidos são materiais compostos magnéticos permanentes facilmente viáveis que compreendem um enchimento magnético permanente, como pó de estrôncio-hexaferrito (SrFe12O19) ou neodímio-ferro-boro (Nd2Fe14B), numa matriz do tipo plástico ou borracha.
[00139] Os ímanes dipolo únicos (x32) e os dois ou mais ímanes dipolo (x32) do dispositivo gerador de campo magnético (x30) descritos no presente documento são de preferência feitos de forma independente de materiais magnéticos fortes, como aqueles descritos acima para os ímanes em forma de ansa e dois ou mais ímanes dipolo do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31).
[00140] Os ímanes dipolo em barra do dispositivo gerador de campo magnético (x40) são preferentemente feitos de materiais magnéticos fortes, tais como aqueles descritos acima para os materiais dos ímanes em forma de ansa e os dois ou mais ímanes dipolo do campo magnético em forma de ansa dispositivo gerador (x31).
[00141] Os materiais do dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), os materiais dos ímanes dipolo (x32), os materiais de uma ou mais peças polares (x33), quando presentes, os materiais do dispositivo gerador de campo magnético (x40), os materiais dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), os materiais de uma ou mais peças polares (x50) quando presentes, e as distâncias (d) e (h) e (e) são selecionados de modo que o campo magnético resultante da interação do campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x30) e o campo magnético produzido pelo dispositivo gerador de campo magnético (x40), ou seja, o campo magnético resultante dos aparelhos descritos no presente documento, é adequado para produzir as orientações magnéticas necessárias, isto é, tanto o padrão de orientação magnética das partículas nas primeiras composições de revestimento curáveis por radiação quanto o padrão de orientação magnética das partículas nas segundas composições de revestimento curáveis por radiação, para produzir uma impressão ótica de um ou mais corpos em forma de ansa tendo um tamanho que varia ao inclinar a camada de efeito ótico (x10).
[00142] O primeiro conjunto magnético (x00-a) e/ou o segundo conjunto magnético (x00-b) para a produção da OEL (x20) descrita no presente documento podem compreender ainda uma placa magnética gravada, como as divulgadas, por exemplo, nos documentos WO 2005/002866 A1 e WO 2008/046702 A1. A placa magnética gravada está localizada entre o dispositivo gerador de campo magnético (x30) ou o dispositivo gerador de campo magnético (x40) e a superfície do substrato (x10), de modo a modificar localmente o campo magnético do conjunto magnético (x00-a, x00-b). Essa placa gravada pode ser feita de ferro (garfos de ferro). De forma alternativa, uma tal placa gravada pode ser feita de um material plástico, como os descritos no presente documento, nos quais as partículas magnéticas são dispersas (como por exemplo, Plastoferrita).
[00143] Conforme descrito no presente documento, o processo para produzir a camada de efeito ótico (OEL) (x20) descrito no presente documento e fornecer a impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e uma forma que varia ao inclinar a camada de efeito ótico, compreende duas etapas de orientação magnética independentes (etapa b) e etapa e)) de modo a produzir no substrato (x10) descrito no presente documento um ou mais primeiros padrões feitos da primeira camada de revestimento (x21) descrita no presente documento e um ou mais segundos padrões feitos dos padrões feitos da segunda camada de revestimento (x22) descrita no presente documento, em que a segunda camada de revestimento (x22) está disposta pelo menos parcialmente no topo da primeira camada de revestimento (x21). Conforme mencionado no presente documento, cada uma das duas etapas de orientação magnética (etapa b) e etapa e)) vantajosamente usa dois conjuntos magnéticos diferentes (x00-a e x00-b), em que cada um dos ditos conjuntos magnéticos (x00-a e x00-b) permite a produção de camadas de efeito ótico exibindo um corpo em forma de ansa tendo um tamanho que varia ao inclinar as ditas camadas de efeito ótico e a forma do dito corpo em forma de ansa obtido deste modo é diferente. A impressão ótica de um ou mais corpos em forma de ansa tendo um tamanho e uma forma que varia ao inclinar a dita camada de efeito ótico é obtida usando os padrões de orientação magnética específicos combinados obtidos durante as etapas b) e e) e fixados/congelados durante a etapa c) e f)).
[00144] Os dois ímanes dos dispositivos geradores de campo magnético (x40), um sendo usado durante a primeira etapa de orientação magnética (b)) no primeiro conjunto magnético (x00-a) e o outro sendo usado durante a segunda etapa de orientação magnética (e )) no segundo conjunto magnético (x00-b) são obrigados a ter uma direção magnética oposta, isto é, a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro conjunto magnético (x00-a) é oposta à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do segundo conjunto magnético (x00-b) dentro do quadro de referência do substrato (x10).
[00145] O processo para produzir a OEL (x20) descrita no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende a etapa b) de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a) descrito no presente documento e compreende a etapa e) de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) descrito no presente documento, em que os ditos primeiro e segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) são diferentes e em que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro conjunto magnético (x00-a) é oposta à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do segundo conjunto magnético (x00-b) dentro do quadro de referência do substrato (x10), em que as etapas c) (pelo menos cura parcial da primeira composição de revestimento curável por radiação) e d) (aplicação da segunda composição de revestimento curável por radiação) são levadas a cabo entre as ditas etapas b) e e). De acordo com uma forma de realização, o processo para produzir a OEL (x20) descrito no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento e ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento, em que os ditos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) são diferentes; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento e a i) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento e a ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento.
[00146] De acordo com outra forma de realização, o processo para produzir a OEL (x20) descrito no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento e ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento e a i) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento, em que os ditos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) são diferentes; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento e a ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento.
[00147] De acordo com outra forma de realização, o processo para produzir a OEL (x20) descrito no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento e ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento e a i) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na segunda forma de realização descrita no presente documento; ou compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00-a) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento e a ii) uma etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento, em que os ditos conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) são diferentes.
[00148] De acordo com uma forma de realização preferida, o processo para produzir a OEL (x20) descrita no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00 A) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na primeira forma de realização descrita no presente documento, isto é, um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o íman dipolo em forma de ansa único tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, cada um dos dois ou mais ímanes dipolo tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético conforme descrito no presente documento, opcionalmente com i-3) uma ou mais peças polares (x33) descritas no presente documento e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético como descrito no presente documento, e ii) uma etapa de exposição da segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento, isto é, um segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos no arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial como descrito no presente documento, e i-3) o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento, e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético, em que o dito dispositivo gerador de campo magnético (x40) pode compreender ainda uma ou mais peças polares (x50), como aquelas descritas no presente documento.
[00149] Preferentemente, a etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a) é levada a cabo com o primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento, de preferência o íman dipolo em forma de ansa única tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) descrito no presente documento e i-3) as uma ou mais peças polares (x33), de preferência uma ou mais peças polares em forma de ansa, em que as ditas uma ou mais peças polares (x33) são independentemente dispostas dentro do íman dipolo em forma de ansa único (x31) ou dentro da combinação de ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa.
Mais preferentemente e por exemplo como mostrado nas Fig. 2A-B e Fig. 5A-B, a etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a) é levada a cabo com o primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) como aqueles descritos no presente documento e compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo o único íman dipolo em forma de ansa, em particular, em forma de anel descrito no presente documento e tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) conforme descrito no presente documento, e i-3) as uma ou mais peças polares (x33), em particular as uma ou mais peças polares em forma de ansa descritas no presente documento, em que as ditas ums ou mais peças polares (X33) em forma de ansa, em particular, em forma de anel, são dispostas simetricamente dentro do circuito do dispositivo gerador de campo magnético em forma de circuito (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) descrito no presente documento ser a combinação de dois ou mais ímanes de dipolo em barra (x41) descritos no presente documento, cada um dos dois ou mais ímanes de dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, em que os dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) podem ser separados por um ou mais espaçadores (x42) descritos no presente documento e em que o dispositivo gerador de campo magnético (x30) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40).
[00150] Preferentemente, a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) é levada a cabo com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) conforme descrito no presente documento, em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético conforme descrito no presente documento, iii) e, opcionalmente, uma ou mais peças polares (x50), de preferência uma ou mais peças polares em forma de disco (x50). Mais preferentemente e por exemplo como mostrado na Fig. 3A-B ou 4A-B, a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) é levada a cabo com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo a combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, conforme descrito no presente documento e i-3) dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), conforme descrito no presente documento, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é preferentemente disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30), ou com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo a combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, conforme descrito no presente documento e i-3) os dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) como aqueles descritos no presente documento e iii) as uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento, preferentemente a uma ou mais peças polares em forma de disco (x50) descritas no presente documento, em que a geração de campo magnético (x40) é preferentemente disposta no topo do gerador de campo magnético (x30) e em que ogerador de campo magnético (x30) está disposto no topo de uma ou mais peças polares (x50).
[00151] De acordo com outra forma de realização, o processo para produzir a OEL (x20) descrita no presente documento no substrato (x10) descrito no presente documento, compreende i) uma etapa de expor a primeira composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do primeiro conjunto magnético (x00-a), em que o dito primeiro conjunto magnético (x00 A) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento, isto é, um primeiro conjunto magnético (x00-a) e ii) uma etapa de exposição da segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é selecionado a partir dos conjuntos descritos na terceira forma de realização descrita no presente documento, ou seja, um primeiro e um segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) compreendendo independentemente i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento sendo um único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, tal como descrito no presente documento, i-3) um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético, em que os primeiro e segundo conjuntos magnéticos (x00-a, x00-b) são diferentes.
[00152] Preferentemente e por exemplo como mostrado na Fig. 3A-B, a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) é levada a cabo com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo a combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, conforme descrito no presente documento e i-3) dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), conforme descrito no presente documento, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é preferentemente disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30).
[00153] Preferentemente, a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) é levada a cabo com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) descrito no presente documento sendo um único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial e i-3) um íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou o íman dipolo único (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo o íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou a combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra
(x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético e iii) uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento, preferentemente a uma ou mais peças polares em forma de disco (x50) descritas no presente documento.
Mais preferentemente e por exemplo como mostrado na Fig. 4A-B, a etapa de expor a segunda composição de revestimento curável por radiação ao campo magnético do segundo conjunto magnético (x00-b) é levada a cabo com o segundo conjunto magnético (x00-b) compreendendo i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo i-1) a matriz de suporte (x34) descrita no presente documento, i-2) o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo a combinação de dois ou mais, em particular quatro, ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, em particular uem forma de quadrado, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, conforme descrito no presente documento e i-3) dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos dois ou mais ímanes dipolo formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo Sul dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para o periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) descrito no presente documento sendo o íman dipolo de barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) como aqueles descritos no presente documento e iii) as uma ou mais peças polares (x50) descritas no presente documento, preferentemente uma ou mais peças polares em forma de disco, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) é preferentemente disposto no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30).
[00154] A OEL (x20) descrita no presente documento pode ser fornecida diretamente num substrato (x10) no qual permanecerá permanentemente (como para aplicações de notas). De forma alternativa, a OEL (x20) também pode ser fornecida num substrato temporário (x10) para fins de produção, a partir da qual a OEL (x20) é removida posteriormente. Isso pode, por exemplo, facilitar a produção da OEL (x20), particularmente enquanto o material ligante ainda está em seu estado fluido. Posteriormente, depois de curar pelo menos parcialmente a composição de revestimento para a produção da OEL (x20), o substrato temporário (x10) pode ser removido da OEL.
[00155] De forma alternativa, uma camada adesiva pode estar presente na OEL (x20) ou pode estar presente no substrato (x10) que compreende a OEL (x20), a dita camada adesiva estando no lado do substrato oposto ao lado onde a OEL (x20) é fornecida ou no mesmo lado que a OEL (x20) e na parte superior da OEL (x20). Portanto, uma camada adesiva pode ser aplicada à OEL (x20) ou ao substrato (x10). Esse artigo pode ser anexado a todos os tipos de documentos ou outros artigos ou itens sem impressão ou outros processos que envolvam máquinas e um grande esforço. De forma alternativa, o substrato (x10) descrito no presente documento compreendendo a OEL (x20) descrita no presente documento pode estar na forma de uma folha de transferência, que pode ser aplicada a um documento ou a um artigo numa etapa de transferência separada. Para esta finalidade, o substrato é fornecido com um revestimento de libertação,
em que as OEL (x20) são produzidas como descrito no presente documento. Uma ou mais camadas adesivas podem ser aplicadas sobre as OEL (x20) assim produzidas.
[00156] Também são descritos no presente documento substratos (x10) compreendendo mais de uma, isto é, duas, três, quatro, etc. camadas de efeito ótico (OEL) (x20) obtidas pelo processo descrito no presente documento.
[00157] Também são descritos no presente documento artigos, em particular documentos de segurança, elementos ou objetos decorativos, compreendendo a camada de efeito ótico (OEL) (x20) produzida de acordo com a presente invenção. Os artigos, em particular documentos de segurança, elementos ou objetos decorativos, pode compreender mais de uma (por exemplo, duas, três, etc.) OEL (x20) produzidas de acordo com a presente invenção.
[00158] Conforme mencionado anteriormente no presente documento, a camada de efeito ótico (OEL) (x20) produzida de acordo com a presente invenção pode ser usada para fins decorativos, bem como para proteger e autenticar um documento de segurança. Exemplos típicos de elementos ou objetos decorativos incluem, sem limitação, artigos de luxo, embalagens de cosméticos, peças automotivas, aparelhos eletrônicos/elétricos, lacas para móveis e unhas.
[00159] Os documentos de segurança incluem, sem limitação, documentos de valor e bens comerciais valiosos. Exemplos típicos de documentos de valor incluem, sem limitação, notas, escrituras, bilhetes, cheques, vouchers, selos e etiquetas fiscais, acordos e semelhantes, documentos de identidade, como passaportes, cartões de identidade, vistos, cartas de condução, cartões bancários, cartões de crédito, cartões de transações, cartões ou documentos de acesso, bilhetes de entrada, bilhetes ou títulos de transporte público e semelhantes, preferentemente notas, documentos de identidade, documentos que conferem direito, cartas de condução e cartões de crédito. O termo "bem comercial de valor" refere-se a materiais de embalagem, em particular para artigos cosméticos, artigos nutracêuticos, artigos farmacêuticos, álcoois, artigos de tabaco, bebidas ou alimentos, artigos elétricos/eletrônicos, tecidos ou joias, ou seja, artigos que devem ser protegidos contra falsificação e/ou reprodução ilegal, com a finalidade de garantir o conteúdo da embalagem, como por exemplo drogas genuínas. Exemplos desses materiais de embalagem incluem, sem limitação, etiquetas, como etiquetas de marca de autenticação, etiquetas e selos de evidência de violação. Salienta-se que os substratos divulgados, documentos de valor e bens comerciais de valor são dados exclusivamente para fins exemplificativos, sem restringir o âmbito da invenção.
[00160] De forma alternativa, a OEL (x20) descrita no presente documento pode ser produzida num substrato auxiliar (x10), como, por exemplo, um fio de segurança, faixa de segurança, uma folha, um decalque, uma janela ou um rótulo e, consequentemente, transferidos para um documento de segurança numa etapa separada.
[00161] Os conjuntos magnéticos representados na Fig. 2-4 foram usados em etapas de orientação magnética independentes de partículas de pigmento magnéticas oticamente variáveis não esféricas numa camada impressa da tinta de serigrafia curável por UV descrita no Quadro 1 de modo a produzir as camadas de efeito ótico (OELs) (x20) mostradas na Fig. 6A-C e preparadas de acordo com a invenção. Conjuntos magnéticos representados nas Fig. 4 e 5 foram usados para orientar partículas de pigmento magnéticas oticamente variáveis não esféricas numa camada impressa da tinta de serigrafia curável por UV descrita no Quadro 1 de modo a produzir uma camada de efeito ótico (OEL) (720) comparativa mostrada na Fig. 7. Processo geral para a preparação do Exemplo E1-E3 e Exemplo Comparativo C1
[00162] A tinta de serigrafia curável por UV descrita no Quadro 1 foi aplicada independentemente (etapa a)) sobre um substrato de papel comercial preto (x10) (um papel padrão fiduciário BNP 90 g/m2, da Papierfabrik Louisenthal, 50 x 50 mm), a dita aplicação sendo levada a cabo por serigrafia à mão usando uma tela T90 de modo a formar um primeiro padrão único de uma primeira camada de revestimento (x21) (16 mm x 16 mm) com uma espessura de cerca de 20 µm.
O substrato de papel (x10) carregando o padrão único aplicado da primeira camada de revestimento (x21) foi disposto de forma independente num primeiro conjunto magnético (x00-a) (Fig. 2 e 5) (etapa b)). O padrão de orientação magnética assim obtido das partículas de pigmento oticamente variáveis não esféricas foi, parcialmente simultaneamente à etapa de orientação, pelo menos parcialmente curado por cura UV (etapa c)) a camada impressa compreendendo as partículas de pigmento usando uma lâmpada LED UV da Phoseon (Tipo FireFlex 50 x 75 mm, 395 nm, 8 W/cm2). A mesma tinta de serigrafia curável por UV (Quadro 1) foi aplicada independentemente (etapa d)) à mão sobre o primeiro padrão único da primeira camada de revestimento (x21) usando a serigrafia T90 de modo a formar um segundo padrão feito de uma segunda camada de revestimento (x22) (16 mm x 16 mm para E1-E2 (Fig. 6A-B) e C1 (Fig. 7); 10 mm x 10 mm para E3 (Fig 6C)) tendo uma espessura de cerca de 20 µm.
O substrato de papel (x10) carregando o primeiro padrão feito da primeira camada de revestimento endurecido (x21) e o segundo padrão ainda não endurecido feito da camada de revestimento (x22) foi disposto independentemente num segundo conjunto magnético (x00-b) (Fig 3-4) diferente do primeiro conjunto magnético (x00-a) (etapa e)). O padrão de orientação magnética assim obtido das partículas de pigmento oticamente variáveis não esféricas foi independentemente, parcialmente simultaneamente à segunda etapa de orientação, pelo menos parcialmente curada (etapa f)) por cura UV da camada impressa que compreende as partículas de pigmento usando uma lâmpada UV-LED da Phoseon (Tipo FireFlex 50 x 75 mm, 395 nm, 8 W/cm2). Quadro 1. Tinta de serigrafia curável por UV: Oligómero de epoxiacrilato 36% Monómero de triacrilato de trimetilolpropano 13,5% Monómero de diacrilato de tripropilenoglicol 20% GenoradTM 16 (Rahn) 1% Aerosil® 200 (Evonik) 1% Speedcure TPO-L (Lambson) 2% IRGACURE® 500 (BASF) 6% Genocure EPD (Rahn) 2% Tego® Foamex N (Evonik) 2% Partículas de pigmento magnéticas oticamente variáveis, 16,5% não esféricas (7 camadas)(*) (*) partículas de pigmento magnéticas oticamente variáveis de ouro para verde com uma forma de flocos de diâmetro d50 cerca de 9 µm e espessura cerca de 1 µm, obtidas de Viavi Solutions, Santa Rosa, CA. Descrição do primeiro e do segundo conjuntos magnéticos (x00- a, x100-b) (Fig. 2-5) Conjunto magnético (200-a, 200-b) (Fig. 2A-2B)
[00163] O conjunto magnético (200-a, 200-b) (Fig. 2A-2B) compreendia um dispositivo gerador de campo magnético (230) sendo disposto entre um dispositivo gerador de campo magnético (240) e um substrato (210) carregando a composição de revestimento (221, 221 + 222) compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas como ilustrado esquematicamente na Fig. 2A.
[00164] O dispositivo gerador de campo magnético (230) compreendia um íman dipolo em forma de anel (231), uma peça polar em forma de anel (233) e uma matriz de suporte em forma de quadrado (234) para manter o íman dipolo em forma de anel (231 ) e a peça polar em forma de anel (233) na posição.
[00165] O ímã dipolo em forma de anel (231) tinha um diâmetro externo (A1) de cerca de 26,1 mm, um diâmetro interno (A2) de cerca de 18,3 mm e uma espessura (A5) de cerca de 2 mm. O íman dipolo em forma de anel (231) tinha um eixo magnético substancialmente perpendicular ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (240) e substancialmente perpendicular à superfície do substrato (210), com o seu polo sul a apontar para o substrato (210). O íman dipolo em forma de anel (231) foi feito de NdFeB N40.
[00166] A peça polar em forma de anel (233) tinha um diâmetro externo (A3) de cerca de 14 mm, um diâmetro interno (A4) de cerca de 10 mm e uma espessura (A5) de cerca de 2 mm. A peça polar em forma de anel (233) foi alinhada centralmente com o dispositivo gerador de campo magnético em forma de anel (231). A peça polar em forma de anel (233) era feita de aço S235.
[00167] A matriz de suporte (234) tinha um comprimento (A6) e uma largura (A7) de cerca de 29,9 mm e uma espessura (A8) de cerca de 3 mm. A matriz de suporte (234) foi feita de POM. Conforme mostrado na Fig. 2B2, a superfície inferior da matriz de suporte (234) compreendia duas indentações circulares tendo uma profundidade (A5) de cerca de 2 mm para receber o íman dipolo em forma de anel (231) e a peça polar em forma de anel (233).
[00168] O dispositivo gerador de campo magnético (240) compreendia sete barras de ímanes dipolo (241) e seis peças espaçadoras (242). Os ímanes dipolo de sete barras (241) e as seis peças espaçadoras (242) foram dispostos de forma alternada não simétrica, como mostrado na Fig. 2A, isto é, duas barras de ímanes dipolo (241) estavam em contacto direto e adjacentes a uma peça espaçadora (242), os outros cinco ímanes de barra sendo alternados com uma peça espaçadora (242). A sexta peça espaçadora (242) foi usada para garantir o posicionamento correto do dispositivo gerador de campo magnético (240) abaixo do dispositivo gerador de campo magnético (230). Os sete ímanes dipolares de barras (241) tinham, cada um, um comprimento (B1) de cerca de 29,9 mm, uma largura (B2) de cerca de 3 mm e uma espessura (B3) de cerca de 6 mm. Cada uma das seis peças espaçadoras (242) tinha um comprimento (B4) de cerca de 20 mm, uma largura (B5) de cerca de 1,5 mm e uma espessura (B6) de cerca de 6 mm. O eixo magnético de cada um dos ímanes de dipolo de sete barras (241) era substancialmente paralelo à superfície do substrato (210) e apontando todos na mesma direção. Os sete ímanes dipolo de barras (241) foram feitos de NdFeB N42. As seis peças espaçadoras (242) foram feitas de POM.
[00169] O dispositivo gerador de campo magnético (230) e o dispositivo gerador de campo magnético (240) estavam em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (230) e a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (240) foi de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 2A para a clareza do desenho). O dispositivo gerador de campo magnético (230) e o dispositivo gerador de campo magnético (240) foram alinhados centralmente um em relação ao outro, ou seja, a secção intermediária do comprimento (A6) e da largura (A7) do dispositivo gerador de campo magnético (230) foi alinhada com a secção intermediária do comprimento (B1) e da largura (B7) do dispositivo gerador de campo magnético (240). A distância (h) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (230) (isto é, a superfície superior da matriz de suporte (234) e a superfície do substrato (210) voltada para o dispositivo gerador de campo magnético (230) foi de cerca de 3,5 mm. Conjunto magnético (300-a, 300-b) (Fig. 3A-3B)
[00170] O conjunto gerador de campo magnético (300-a, 300-b) (Fig. 3A-3B) compreendia um dispositivo gerador de campo magnético (340) sendo disposto entre um dispositivo gerador de campo magnético
(330) e um substrato (310) carregando a composição de revestimento (321, 321 + 322) compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas como ilustrado esquematicamente na Fig. 3A.
[00171] O dispositivo gerador de campo magnético (330) compreendia quatro ímanes dipolo de barra (331) dispostos num arranjo em forma de quadrado, oito ímanes dipolo (332) e uma matriz de suporte (334). Os oito ímanes dipolo (332) foram dispostos nos cantos de um primeiro quadrado e de um segundo quadrado, respetivamente, em que o primeiro quadrado foi aninhado no segundo quadrado e foi posicionado centralmente dentro do arranjo em forma de quadrado das quatro barras de ímanes dipolo (331), como ilustrado esquematicamente nas Fig. 3A e 3B.
[00172] Conforme mostrado na Fig. 3A e 3B, cada um dos quatro ímanes dipolo de barra (331) dispostos no arranjo em forma de quadrado tinha um comprimento (A1) de cerca de 25 mm, uma largura (A2) de cerca de 2 mm e uma espessura (A3) de cerca de 5 mm. Os quatro ímanes dipolo de barra (331) dispostos no arranjo em forma de quadrado foram colocados de tal forma na matriz de suporte (334) que seu eixo magnético era substancialmente paralelo ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (340) e substancialmente paralelo à superfície do substrato (310), o seu polo norte apontando radialmente para a área central da ansa do arranjo em forma de quadrado, e seu polo sul apontando para o exterior da matriz de suporte (334), isto é, apontando para o ambiente. O centro do quadrado formado pelos quatro ímanes dipolo de barra (331) dispostos no arranjo em forma de quadrado coincidiu com o centro da matriz de suporte (334). Cada um dos quatro ímanes dipolo de barra (331) dispostos no arranjo em forma de quadrado era feito de NdFeB N48.
[00173] Cada um dos oito ímanes dipolares (332) tinha um diâmetro (A7) de cerca de 2 mm e uma espessura (A8) de cerca de 4 mm. Quatro dos ditos oito ímanes dipolo (332) foram dispostos em quatro indentações localizadas nas diagonais em torno do centro da matriz de suporte (334), de modo a formar o primeiro quadrado. Os outros quatro dos oito ímanes dipolo (332) foram dispostos em quatro indentações localizadas nas diagonais da matriz de suporte (334) de modo a formar o segundo quadrado, conforme ilustrado na Fig. 3B1. O eixo magnético de cada um dos oito ímanes dipolo (332) era substancialmente perpendicular à superfície do substrato (310) e ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (340) com seu polo sul apontando para o dispositivo gerador de campo magnético (340). Cada um dos oito ímanes dipol (332) foi feito de NdFeB N45.
[00174] A matriz de suporte (334) tinha um comprimento (A4) e uma largura (A5) de cerca de 30 mm e uma espessura (A6) de cerca de 6 mm. A matriz de suporte (334) foi feita de POM. Conforme mostrado na Fig. 3B1-2, a superfície superior da matriz de suporte (334) compreendia trinta e seis indentações, dispostas em seis linhas, cada uma compreendendo seis indentações, tendo uma profundidade (A8) de cerca de 4 mm e um diâmetro (A7) de cerca de 2 mm, oito das trinta e seis indentações sendo usadas para receber os oito ímanes dipolo (332) e uma indentação tendo uma profundidade (A3) de cerca de 5 mm e uma largura (A2) de cerca de 2 mm para receber os quatro ímanes dipolo de barra ( 331) dispostos no arranjo em forma de quadrado. A distância (A9) entre os centros de duas indentações dispostas em duas linhas vizinhas era de cerca de 3 mm. A distância (A10) entre os centros de duas indentações vizinhas dispostas nas diagonais da matriz de suporte (334) era de cerca de 4,2 mm.
[00175] O dispositivo gerador de campo magnético (340) era um íman dipolo de barra tendo um comprimento (B1) e uma largura (B2) de cerca de 29,9 mm e uma espessura (B3) de cerca de 2 mm. O eixo magnético do íman dipolo de barra (340) era paralelo à superfície do substrato (310). O íman dipolo de barra (340) foi feito de NdFeB N30UH.
[00176] O dispositivo gerador de campo magnético (340) e o dispositivo gerador de campo magnético (330) estavam em contacto direto,
isto é, a distância (d) entre a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (340) e a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (330) foi de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 3A para a clareza do desenho). O dispositivo gerador de campo magnético (340) e o dispositivo gerador de campo magnético (330) foram centralizados um em relação ao outro, ou seja, a secção intermediária do comprimento (B1) e da largura (B2) do dispositivo gerador de campo magnético (340) foi alinhada com a secção intermediária do comprimento (A4) e da largura (A5) do dispositivo gerador de campo magnético (330). A distância (h) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (340) e a superfície do substrato (310) voltada para o dispositivo gerador de campo magnético (340) era de cerca de 1,5 mm. Conjunto magnético (400-a, 400-b) (Fig. 4A-4B)
[00177] O conjunto gerador de campo magnético (400-a, 400-b) (Fig. 4A-4B) compreendia um dispositivo gerador de campo magnético (440) sendo disposto entre um dispositivo gerador de campo magnético (430) e um substrato (410) carregando a composição de revestimento (421, 421 + 422) compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas como ilustrado esquematicamente na Fig. 4A. O conjunto gerador de campo magnético (400-a, 400-b) compreendia ainda uma peça polar em forma de disco (450).
[00178] O dispositivo gerador de campo magnético (430) compreendia quatro ímanes dipolo de barra (431) dispostos num arranjo em forma de quadrado, dezanove ímanes dipolo (432), dezoito ímanes dipolo (432) sendo dispostos de modo a formar um "V" de espessura de duas fileiras e o décimo nono íman dipolo (432) sendo localizado na ponta do "V" e uma matriz de suporte (434), conforme ilustrado esquematicamente nas Fig. 4A e 4B1.
[00179] Conforme mostrado na Fig. 4A e 4B, cada um dos quatro ímanes dipolo de barra (431) dispostos no arranjo em forma de quadrado tinha um comprimento (A1) de cerca de 25 mm, uma largura (A2) de cerca de 2 mm e uma espessura (A3) de cerca de 5 mm. Os quatro ímanes dipolo de barra (431) dispostos no arranjo em forma de quadrado foram colocados de tal forma na matriz de suporte (434) que seu eixo magnético era substancialmente paralelo ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (440) e substancialmente paralelo à superfície do substrato (410), seu pplo norte apontando radialmente para a área central da ansa do dito arranjo em forma de quadrado, e seu polo sul apontando para o exterior da matriz de suporte (434), isto é, apontando para o ambiente. O centro do quadrado formado pelos quatro ímanes dipolo de barra (431) dispostos no arranjo numa forma de quadrado coincidiu com o centro da matriz de suporte (434). Cada um dos quatro ímanes dipolo de barra (431) dispostos num arranjo em forma de quadrado era feito de NdFeB N48.
[00180] Cada um dos dezanove ímanes dipolo (432) dispostos de modo a formar um "V" de espessura de duas fileiras e o décimo nono íman dipolo (432) sendo localizado na ponta do "V", tinha um diâmetro (A7) de cerca de 2 mm e uma espessura (A8) de cerca de 1 mm. O eixo magnético de cada um dos dezanove ímanes dipolo (432) era substancialmente perpendicular à superfície do substrato (410) e ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (440) com seu polo sul voltado para o dispositivo gerador de campo magnético (440). Cada um dos décimos nonos ímanes dipolo (432) foram feitos de NdFeB N48.
[00181] A matriz de suporte (434) tinha um comprimento (A4) e uma largura (A5) de cerca de 30 mm e uma espessura (A6) de cerca de 6 mm. A matriz de suporte (434) foi feita de POM. Conforme mostrado na Fig. 4B1-2, a superfície da matriz de suporte (434) compreendia setenta e sete indentações, dispostas em cinco linhas cada uma compreendendo nove indentações alternando com quatro linhas uma compreendendo oito indentações, tendo uma profundidade (A8) de cerca de 1 mm e um diâmetro (A7) de cerca de 2 mm, dezanove dos setenta e sete indentações sendo usados para receber os dezanove ímanes dipolo (432), e uma indentação tendo uma profundidade (A3) de cerca de 5 mm e uma largura (A2) de cerca de 2 mm para receber o dispositivo gerador de campo magnético de forma de quadrado (431). A distância (A9) entre os centros de duas indentações dispostas em duas linhas vizinhas ao longo do comprimento (A4) foi de cerca de 4 mm. A distância (A10) entre os centros de duas indentações dispostas numa linha paralela à largura (A5) era de cerca de 2,5 mm. A distância (A11) entre o centro da primeira indentação numa linha de nove indentações e o centro da primeira indentação numa linha de oito indentações da matriz de suporte (434) foi de cerca de 1,5 mm. As distâncias (A12) e (A13) entre o centro da primeira linha de nove indentações e a barra dipolo mais próxima (431) eram de cerca de 1,5 mm.
[00182] O dispositivo gerador de campo magnético (440) era um íman dipolo de barra tendo um comprimento (B1) e uma largura (B2) de cerca de 29,9 mm e uma espessura (B3) de cerca de 2 mm. O eixo magnético do íman dipolo de barra (440) era paralelo à superfície do substrato (410). O íman dipolo de barra (440) foi feito de NdFeB N30UH.
[00183] A peça polar em forma de disco (450) tinha um diâmetro (C1) de cerca de 30 mm e uma espessura (C2) de cerca de 2 mm. A peça polar em forma de disco (450) era feita de aço S235.
[00184] O dispositivo gerador de campo magnético (440) e o dispositivo gerador de campo magnético (430) estavam em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (440) e a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (430) foi de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 4A para a clareza do desenho). A peça polar em forma de disco (450) foi colocada abaixo do dispositivo gerador de campo magnético (430), de modo que a distância (e) entre a superfície inferior da matriz de suporte (434) do dispositivo gerador de campo magnético (430) e a superfície superior da peça polar em forma de disco era de cerca de 0 mm (não mostrada em escala na Fig. 4A para a clareza do desenho). O dispositivo gerador de campo magnético (440), o dispositivo gerador de campo magnético (430) e a peça polar em forma de disco (450) foram centralizados um em relação ao outro, isto é, a secção média do comprimento (B1) e da largura (B2) do dispositivo gerador de campo magnético (440) foi alinhada com a secção média do comprimento (A4) e da largura (A5) do dispositivo gerador de campo magnético (430) e com o diâmetro (C1) da peça polar em forma de disco (450). A distância (h) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (440) e a superfície do substrato (410) voltada para o dispositivo gerador de campo magnético (440) era de cerca de 1,5 mm. Conjunto magnético (500-a, 500-b) (Fig. 5A-B)
[00185] O conjunto magnético (500) (Fig. 5A-B2) compreendia um dispositivo gerador de campo magnético (530) sendo disposto entre um dispositivo gerador de campo magnético (540) e um substrato (510) carregando a composição de revestimento (521, 521+522) compreendendo as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas como ilustrado esquematicamente na Fig. 5A.
[00186] O conjunto magnético (530) era o mesmo que o Exemplo 6 divulgado no documento WO 2017/080698 A1 e compreendia um íman dipolo em forma de anel (531), uma peça polar em forma de ansa (533) e uma matriz de suporte (534).
[00187] O ímã dipolo em forma de anel (531) tinha um diâmetro externo (L7) de cerca de 26 mm, um diâmetro interno (L8) de cerca de 16,5 mm e uma espessura (L9) de cerca de 2 mm. O íman dipolo em forma de anel (531) tinha um eixo magnético substancialmente perpendicular ao eixo magnético do dispositivo gerador de campo magnético (540) e substancialmente perpendicular à superfície do substrato (510), com o polo sul voltado para o substrato (520). O íman dipolo em forma de anel (531) foi feito de NdFeB N40.
[00188] O íman dipolo em forma de anel (533) tinha um diâmetro externo (L10) de cerca de 14 mm, um diâmetro interno (L11) de cerca de 10 mm e uma espessura (L9) de cerca de 2 mm. A peça polar em forma de ansa (533) foi alinhada centralmente com o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (531). A peça polar em forma de ansa (533) era feita de ferro.
[00189] A matriz de suporte (534) tinha um comprimento (L4) de 30 mm, uma largura (L5) de cerca de 30 mm e uma espessura (L6) de cerca de 3 mm. A matriz de suporte (534) foi feita de POM. Conforme mostrado na Fig. 5B2, a superfície inferior da matriz de suporte (534) compreendia duas indentações circulares com uma profundidade (L9) de cerca de 2 mm para receber o íman dipolo em forma de anel (531) e a peça polar em forma de ansa (533).
[00190] O dispositivo gerador de campo magnético em forma de anel (531), a peça polar em forma de ansa (533) e a matriz de suporte (534) foram centralmente alinhados ao longo do comprimento (L4) e da largura (L5) de (534).
[00191] O dispositivo gerador de campo magnético (540) compreendia sete ímanes dipolo de barra (541) e seis peças espaçadoras (542). Os ímanes dipolo de sete barras (541) e as seis peças espaçadoras (542) foram dispostos de forma alternada não simétrica, como mostrado na Fig. 5A, isto é, duas barras de ímanes dipolo (541) estavam em contacto direto e adjacentes a uma peça espaçadora (542), os outros cinco ímanes de barra sendo alternados com uma peça espaçadora (542). A sexta peça espaçadora (542) foi usada para garantir o posicionamento correto do dispositivo gerador de campo magnético (540) abaixo do conjunto magnético (530). Os sete ímanes dipolares de barras (541) tinham, cada um, um comprimento (L1) de cerca de 30 mm, uma largura (L2a) de cerca de 3 mm e uma espessura (L3) de cerca de 6 mm. Cada uma das seis peças espaçadoras (542) tinha um comprimento de cerca de 20 mm, uma largura (L2b) de cerca de 1,5 mm e uma espessura (L3) de cerca de 6 mm. O eixo magnético de cada um dos ímanes dipolo de sete barras (541) era substancialmente paralelo à superfície do substrato (510). Os sete ímanes dipolo de barras (541) foram feitos de NdFeB N42. As seis peças espaçadoras (542) foram feitas de POM. O dispositivo gerador de campo magnético (540) era o mesmo que o dispositivo gerador de campo magnético (240) (Fig. 2A), exceto que sua direção magnética é oposta à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (540).
[00192] O dispositivo gerador de campo magnético (530) e o dispositivo gerador de campo magnético (540) estavam em contacto direto, isto é, a distância (d) entre a superfície inferior do dispositivo gerador de campo magnético (530) e a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (540) foi de cerca de 0 mm (não mostrado em escala real na Fig. 5A para a clareza do desenho). A distância (h) entre a superfície superior do dispositivo gerador de campo magnético (530) (isto é, a superfície superior da matriz de suporte (534) e a superfície do substrato (510) voltada para o dispositivo gerador de campo magnético (530) foi de cerca de 3,5 mm. Exemplo E1 (Fig. 6A): processo usando o conjunto magnético representado na Fig 2A-B como o primeiro conjunto magnético (200-a) e o conjunto magnético representado na Fig 3A-B como o segundo conjunto magnético (300-b)
[00193] O exemplo E1 foi preparado de acordo com o processo geral descrito acima usando o conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) para a primeira etapa de orientações (etapa b)) e o conjunto magnético (300-b) (Fig. 3A-B) para a segunda etapa de orientações (etapa e)). O substrato (610) foi disposto no conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) usado para a primeira etapa de orientação e o conjunto magnético (300-b) (Fig. 3A-B) usado para a segunda etapa de orientações de modo que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (240) do conjunto magnético (200-a) e a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (340) do conjunto magnético (300-b) eram opostas uma em relação à outra com referência ao substrato (610).
[00194] A OEL resultante (620) é mostrada na Fig. 6A em diferentes ângulos de visão inclinando o substrato (610) entre +20° e -60°. A OEL resultante (620) fornece a impressão visual de um círculo reduzindo seu tamanho e sendo transformado num quadrado aumentando seu tamanho e vice-versa ao inclinar o substrato (610), ou em outras palavras, um círculo sendo transformado ao encolher num crescente quadrado e vice-versa após inclinar o substrato (610). Exemplo E2 (Fig. 6B): processo usando o conjunto magnético representado na Fig 2A-B como o primeiro conjunto magnético (200-a) e o conjunto magnético representado na Fig 4A-B como o segundo conjunto magnético (400-b)
[00195] O exemplo E2 foi preparado de acordo com o processo geral descrito acima usando o conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) para a primeira etapa de orientações (etapa b)) e o conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) para a segunda etapa de orientações (etapa e)). O substrato (610) foi disposto no conjunto magnético (200-a) (Fig. 2A-B) usado para a primeira etapa de orientação e o conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) usado para as segundas orientações etapa de modo que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (240) do conjunto magnético (200-a) e a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (440) do segundo conjunto magnético (400-b) eram opostas uma em relação à outra com referência ao substrato (610).
[00196] A OEL resultante (620) é mostrada na Fig. 6B em diferentes ângulos de visão inclinando o substrato (610) entre +20° e -60°. A OEL resultante (620) fornece a impressão visual de um círculo reduzindo seu tamanho e sendo transformado num triângulo aumentando seu tamanho e vice-versa após a inclinação do substrato (610), em que tanto o círculo quanto o triângulo mudam de tamanho ao titular o substrato (610), ou em outras palavras, um círculo sendo transformado ao encolher num triângulo crescente e vice-versa a inclinação do substrato (610). Exemplo E3 (Fig. 6C): processo usando o conjunto magnético representado na Fig 2A-B como o primeiro conjunto magnético (200-a) e o conjunto magnético representado na Fig 4A-B como o segundo conjunto magnético (400-b)
[00197] O exemplo E3 foi preparado como o exemplo E2, exceto que o segundo padrão único feito da segunda camada de revestimento (622) (10 mm x 10 mm) era menor do que o primeiro padrão único de uma primeira camada de revestimento (621) (16 mm x 16 mm).
[00198] A OEL resultante (620) é mostrada na Fig. 6C em diferentes ângulos de visão inclinando o substrato (610) entre +20° e -60°. A OEL resultante (620) fornece a impressão visual de um círculo reduzindo seu tamanho e sendo transformado num triângulo aumentando seu tamanho e vice-versa após a inclinação do substrato (610), em que tanto o círculo quanto o triângulo mudam de tamanho ao titular o substrato (610), ou em outras palavras, um círculo sendo transformado ao encolher num triângulo crescente e vice-versa a inclinação do substrato (610). Exemplo Comparativo C1 (Fig. 7)
[00199] O Exemplo Comparativo C1 foi preparado de acordo com o processo geral descrito acima usando um conjunto magnético (500-a) (Fig. 5A-B) e o conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) para a segunda etapa de orientações (etapa e)). O substrato (710) foi disposto no conjunto magnético (500-a) (Fig. 5A-B) usado para a primeira etapa de orientação e o conjunto magnético (400-b) (Fig. 4A-B) usado para a segunda etapa de orientações de modo que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (540) do primeiro conjunto magnético (500-a) e a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (440) do segundo conjunto magnético (400-b) foram os mesmos em relação ao substrato (710).
[00200] A OEL comparativa resultante (720) é mostrada na Fig. 7 em diferentes ângulos de visão inclinando o substrato (710) entre +20° e - 60°. A OEL resultante (720) fornece a impressão visual de um círculo com um triângulo inscrito, em que tanto o círculo quanto o triângulo aumentam seu tamanho (ou, alternativamente, diminuem seu tamanho) após a inclinação do substrato (710), isto é, não uma OEL fornecendo uma impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e uma forma que variam ao inclinar camada de efeito ótico.
Claims (15)
1. Um processo para produzir uma camada de efeito ótico (OEL) (x20) num substrato (x10), o dito processo compreendendo as etapas de: a) aplicar sobre uma superfície de substrato (x10) uma primeira composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um ou mais primeiros padrões de uma primeira camada de revestimento (x21), a dita primeira composição de revestimento curável por radiação estando num primeiro estado, b) expor a primeira composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um íman dipolo único em forma de ansa tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa e tendo um eixo magnético resultante substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético resultante substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10); ou a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo uma matriz de suporte (x34), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de ansa tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, cada um dos dois ou mais ímanes dipolo tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) ou dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético e/ou uma ou mais peças polares (x33), e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético; ou a um campo magnético de um primeiro conjunto magnético (x00-a) compreendendo i) um dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo uma matriz de suporte (x34), um dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman em forma de ansa ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), ou um único íman dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), ou dois ou mais ímanes dipolo (x32), cada um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10), em que o polo norte do dito íman dipolo único (x32) ou o polo norte de pelo menos um dos dito dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31)
está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul do dito íman dipolo único (x32) ou o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul do íman em forma de ansa único ou dos dois ou mais ímanes dipolo formando o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), e ii) um dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) ou uma combinação de dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo para a superfície do substrato (x10) e tendo a mesma direção do campo magnético, de modo a orientar pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas, e c) curar pelo menos parcialmente a primeira composição de revestimento curável por radiação da etapa b) para um segundo estado, de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas nas suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais primeiros padrões pelo menos parcialmente curados, d) aplicar pelo menos parcialmente nos um ou mais primeiros padrões pelo menos parcialmente curados da etapa c) uma segunda composição de revestimento curável por radiação compreendendo partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas de modo a formar um ou mais segundos padrões de uma segunda camada de revestimento (x22), a dita segunda composição de revestimento curável por radiação estando num primeiro estado, e) expor a segunda composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético de um segundo conjunto magnético (x00-b), o dito segundo conjunto magnético (x00-b) sendo selecionado a partir do primeiro conjunto magnético (x00-a) da etapa b), em que o dito segundo conjunto magnético (x00-b) é diferente do primeiro conjunto magnético (x00-a) utilizado na etapa b) e em que a direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do dito conjunto magnético (x00-b) é oposta à direção magnética do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do primeiro conjunto magnético (x00-a) dentro do quadro de referência do substrato (x10), e f) curar pelo menos parcialmente a segunda composição de revestimento curável por radiação da etapa e) para um segundo estado de modo a fixar as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas em suas posições e orientações adotadas e de modo a formar um ou mais segundos padrões pelo menos parcialmente curados, em que a camada de efeito ótico fornece uma impressão ótica de um corpo em forma de ansa tendo um tamanho e uma forma, que varia ao inclinar a camada de efeito ótico.
2. O processo de acordo com a reivindicação 1, em que o primeiro conjunto magnético (x00-a) e/ou o segundo conjunto magnético (x00-b) compreende independentemente i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo uma matriz de suporte (x34), o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de anel tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e uma ou mais peças polares (x33), e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético; ou ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo a matriz de suporte (x34), o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo uma combinação de quatro ou mais ímanes dipolo (x31) dispostos num arranjo em forma de ansa, preferentemente um arranjo em forma de quadrado, cada um dos quatro ou mais ímanes dipolo (x31) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial e dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10), em que o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos quatro ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo sul dos quatro ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31); e iii) opcionalmente, uma ou mais peças polares (x50).
3. O processo de acordo com a reivindicação 2, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x30) do primeiro conjunto magnético (x00-a) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do dito primeiro conjunto magnético (x00-a) e em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) do segundo conjunto magnético (x00-b) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30) do dito segundo conjunto magnético (x00-b).
4. O processo de acordo com a reivindicação 1 ou 2, em que o primeiro conjunto magnético (x00-a) compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo a matriz de suporte (x34), o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo um único íman dipolo em forma de anel tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e uma ou mais peças polares (x33), e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41), cada um dos dois ou mais ímanes dipolo em barra (x41) tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético e em que o segundo conjunto magnético (x00-b) compreende i) o dispositivo gerador de campo magnético (x30) compreendendo a matriz de suporte (x34), o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) sendo uma combinação de quatro ou mais ímanes dipolo dispostos num arranjo em forma de ansa, preferentemente um arranjo em forma de quadrado, cada um dos quatro ou mais ímanes dipolo tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) tendo uma magnetização radial, dois ou mais ímanes dipolo (x32) tendo um eixo magnético substancialmente perpendicular à superfície do substrato (x10) e tendo uma mesma direção de campo magnético, em que o polo norte de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10) quando o polo norte dos quatro ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31), ou em que o polo Sul de pelo menos um dos ditos dois ou mais ímanes dipolo (x32) está a apontar para a superfície do substrato (x10)
quando o polo sul dos quatro ou mais ímanes dipolo que formam o dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) está a apontar para a periferia do dito dispositivo gerador de campo magnético em forma de ansa (x31) e ii) o dispositivo gerador de campo magnético (x40) sendo um íman dipolo em barra única tendo um eixo magnético substancialmente paralelo à superfície do substrato (x10) e iii) opcionalmente, uma ou mais peças polares (x50).
5. O processo de acordo com a reivindicação 4, em que o dispositivo gerador de campo magnético (x30) do primeiro conjunto magnético (x00-a) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x40) do dito primeiro conjunto magnético (x00-a) e em que o dispositivo gerador de campo magnético (x40) do segundo conjunto magnético (x00-b) é colocado no topo do dispositivo gerador de campo magnético (x30) do dito segundo conjunto magnético (x00-b).
6. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que a etapa a) e/ou a etapa d) é levada a cabo por um processo de impressão, de preferência por um processo de impressão selecionado a partir do grupo que consiste em serigrafia, impressão em rotogravura e impressão em flexografia.
7. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que pelo menos uma parte da pluralidade de partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas é constituída por partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis oticamente variáveis não esféricas, preferentemente selecionados a partir do grupo que consiste em pigmentos de interferência de película fina magnética, pigmentos magnéticos de cristal líquido colestérico e misturas dos mesmos.
8. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são as mesmas na primeira composição de revestimento curável por radiação e na segunda composição de revestimento curável por radiação ou em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são diferentes em termos de tamanho e/ou propriedades de cor na primeira composição de revestimento curável por radiação e na segunda composição de revestimento curável por radiação.
9. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso na primeira composição de revestimento curável por radiação e as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão presentes numa quantidade desde cerca de 2 % em peso até cerca de 40 % em peso na segunda composição de revestimento curável por radiação.
10. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que as partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis não esféricas estão presentes aproximadamente na mesma quantidade na primeira composição de revestimento curável por radiação e na segunda composição de revestimento curável por radiação.
11. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que c) é levada a cabo parcialmente em simultâneo com a etapa b) e/ou a etapa f) é levada a cabo parcialmente em simultâneo com a etapa e).
12. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que as partículas magnéticas ou magnetizáveis não esféricas são partículas de pigmento em forma de plaquetas e em que o dito processo compreende ainda uma etapa de expor a composição de revestimento curável por radiação a um campo magnético dinâmico de um dispositivo gerador de campo magnético, de modo a orientar biaxialmente pelo menos uma parte das partículas de pigmento magnéticas ou magnetizáveis em forma de plaqueta, sendo a dita etapa realizada após a etapa a) e antes da etapa b) e/ou a dita etapa sendo realizada após a etapa d) e antes da etapa e).
13. O processo de acordo com qualquer reivindicação anterior, em que a forma de um ou mais primeiros padrões da primeira camada de revestimento (x21) e a forma dos um ou mais segundos padrões da segunda camada de revestimento (x22) representam independentemente um ou mais indícios, pontos e/ou linhas.
14. Uma camada de efeito ótico (OEL) (x20) produzida pelo processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13.
15. Um documento de segurança ou um objeto ou elemento decorativo que compreende uma ou mais camadas de efeito ótico (OELs) (x20) de acordo com a reivindicação 14.
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