BR112019013386A2

BR112019013386A2 - método para otimização de camada a camada de uma película fina

Info

Publication number: BR112019013386A2
Application number: BR112019013386A
Authority: BR
Inventors: Thornhill David
Original assignee: Essilor Int
Priority date: 2017-01-05
Filing date: 2018-01-04
Publication date: 2019-12-17
Also published as: WO2018127543A1; US20200024728A1; EP3346023A1; CN110168133A

Abstract

é aqui fornecido um método de revestimento de um substrato. o método inclui o fornecimento de pelo menos um substrato de teste, b) uma espessura (t) física programada para pelo menos uma camada do revestimento multicamada, e c) um arquivo de desenho compreendendo uma espessura física alvo e um desempenho espectral alvo para a, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada; a deposição da, pelo menos uma, camada no substrato de teste para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica; a medição de um desempenho espectral da camada aplicada; e a comparação da espessura (t) física programada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (¿t). igualmente, são revelados um sistema e um artigo óptico produzido pelo método aqui descrito.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para MÉTODO PARA OTIMIZAÇÃO DE CAMADA A CAMADA DE UMA PELÍCULA FINA.

CAMPO RELACIONADO [001] A presente invenção refere-se a películas finas melhoradas e métodos de formação das referidas películas finas. As películas finas melhoradas incluem as fornecidas como matérias-primas em uma pluralidade de camadas e aplicadas em uma superfície de um substrato. Os métodos melhorados incluem um meio para controlar propriedades desejadas da película fina como o desempenho espectral de uma película fina.

ANTECEDENTES [002] Uma prática comum na técnica é a preparação de revestimentos para substratos como películas finas. Muitos substratos podem ser revestidos em uma ou inúmeras de suas superfícies. Por exemplo, um artigo óptico, como um substrato oftálmico, pode ser revestido em uma ou ambas de suas maiores superfícies opostas. Os revestimentos podem incluir um único revestimento ou uma pluralidade de revestimentos, muitos, a maioria ou a totalidade dos quais concedem ao substrato acabado melhoramentos nas propriedades de superfície, ópticas e/ou mecânicas. Um desses revestimentos para um substrato é um revestimento antirrefletivo (AR - Anti-Reflective). Os revestimentos AR são películas finas aplicadas para reduzir a refletividade. O revestimento AR, quando concluído, inclui tipicamente mais de uma, e até quatro ou seis ou mais camadas finas únicas que formam uma chamada pilha. Algumas das camadas da pilha podem ser de materiais diferentes, e algumas das camadas da pilha podem ter índices de refracção diferentes. Quando aplicadas em muitos substratos, como por exemplo substratos de polímero, a única ou a pluralidade de camadas pode ser disposta por cima de um revestimento de superfície, muitas

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2/42 vezes referido como revestimento duro, um que já tenha sido aplicado no substrato.

[003] Inúmeros processos e métodos foram desenvolvidos para aplicar o revestimento AR (de uma ou mais camadas) no substrato. O substrato, que pode incluir um artigo oftálmico, pode ser um substrato acabado ou semiacabado (p. ex., revestido, parcialmente revestido ou não revestido). O substrato pode ser de qualquer tipo. O substrato pode ser transmissive ou não transmissive de luz. Para artigos oftálmicos, o substrato é um material transparente, como por exemplo um material de vidro, pedra preciosa ou um composite (p. ex., polímero). Os revestimentos são depois aplicados na superfície de substrato exposta, garantindo que a ordem desejada da película fina final ou pilha inclui uma camada sobre o, ou mais próxima do, substrato e depois para fora do mesmo. Uma ou mais camadas podem ser aplicadas tanto em uma superfície posterior como frontal de um substrato. Para um artigo oftálmico, como por exemplo uma lente, a superfície posterior é geralmente a superfície côncava e, quando aplicada em uma lente para o olho de um portador, será a superfície do substrato mais próxima do olho de um portador. A superfície frontal para um artigo oftálmico, como por exemplo uma lente, é geralmente a superfície convexa e, quando aplicada em uma lente para o olho de um portador, será a superfície do substrato mais afastada do olho do portador.

[004] Um processo convencional para aplicação de um revestimento AR (como um ou mais materiais em uma ou mais camadas) envolve a aplicação de modo sequencial de camadas únicas de matérias-primas em um substrato em uma câmara de vácuo, como ainda aqui descrito. Um operador pode aplicar uma ou mais camadas sequencialmente, como necessário, para construir uma pilha desejada. O processo depois envolve ainda o acesso e a evaporação de modo sequencial de pelo menos uma porção das matérias-primas. As maté

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3/42 rias-primas típicas podem incluir, mas não se limitam a, por exemplo, S1O2, MgF2, AI2O3, T1O2, ZrO2, ITO, Ta2Ü5 e materiais similares, ou mesclas dessas matérias-primas que são fabricadas por um fornecedor. O processo de evaporação pode ser feito, mas sem limitação, usando um feixe de elétrons energético, deposição por pulverização ou evaporação por efeito de Joule, para aquecer uma das matériasprimas até uma temperatura suficiente, de modo que pelo menos uma porção da matéria-prima seja evaporada, e 0 material evaporado é depois depositado na superfície do substrato de lente.

[005] O processo aqui descrito pode ser usado para outros tipos de películas ópticas multicamada, ou seja, películas que fornecem propriedades de transmissão e/ou reflexão desejáveis pelo menos parcialmente por uma disposição de camadas de diferentes índices de refração. É conhecida a fabricação dessas películas ópticas multicamada depositando uma sequência de materiais inorgânicos em camadas opticamente finas (microcamadas) em um substrato em uma câmara de vácuo. Películas ópticas multicamada inorgânicas são descritas, por exemplo, em Η. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 2Ed., Macmilian Publishing Co. (1986) e em A. Thelan, Design of Optical Interference Filters, McGraw-Hill, Inc. (1989).

[006] Existem diversas desvantagens com 0 processo descrito acima. O mesmo requer uma aptidão significativa do operador e é propenso a ajustamento por tentativa e erro por parte do operador de camadas que são depositadas em um substrato de lente com base em curvas de desempenho espetral teórico de todo um revestimento multicamada. Um operador pode ter de fazer muitas tentativas para determinar que camada(s) depositada(s) necessita(m) de ser ajustada(s) in situ (ou seja, em tempo real) para cumprir os requisitos de desempenho espectral de todo 0 revestimento multicamada, garantindo assim que 0 revestimento multicamada terá um desempenho como espe

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4/42 rado, o que é tanto moroso como ineficaz. Isso é além de um operador ter por vezes de gerir cuidadosamente outros parâmetros do revestimento multicamada, por exemplo, a quantidade de matéria-prima aplicada no substrato, bem como a taxa de deposição. Devido a essas limitações, o operador pode ter de repetir ou corrigir a aplicação de várias camadas no substrato para alcançar o resultado desejado para o revestimento multicamada final. Esse processo é difícil de controlar e pode ter um efeito prejudicial na qualidade do produto e na eficiência e precisão de fabricação. Qualquer uma dessas questões pode aumentar o tempo de operador em um processo já longo, e introduzir igualmente falta de fiabilidade e inconsistência e comprometer a qualidade de cada camada e/ou do revestimento final.

[007] Ainda é necessário melhorar a eficiência do processo de revestimento AR e do próprio revestimento AR.

SUMÁRIO [008] O aqui descrito supera os problemas descritos acima.

[009] Em uma ou mais modalidades, é fornecido um método de revestimento de um substrato, incluindo um substrato oftálmico. O método inclui o revestimento de pelo menos um substrato com um revestimento multicamada, o método compreendendo: o fornecimento a) de pelo menos um substrato de teste, b) uma espessura (T - Thickness) física programada para pelo menos uma camada do revestimento multicamada, e c) um arquivo de desenho compreendendo uma espessura física alvo e um desempenho espectral alvo para a, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada; a deposição da, pelo menos uma, camada no substrato de teste para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica; a medição de um desempenho espectral da camada aplicada; e a comparação da espessura (T) física programada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).

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5/42 [0010] É igualmente aqui descrito um sistema para o revestimento de pelo menos um substrato com um revestimento multicamada, o sistema compreendendo: uma camada de vácuo compreendendo uma espessura (T) física programada; um arquivo de desenho compreendendo um desempenho espectral alvo para pelo menos uma camada do revestimento multicamada; e pelo menos um aparelho para a deposição de pelo menos uma camada do revestimento multicamada no substrato. O sistema pode ser usado para a aplicação de um revestimento AR em um substrato, como por exemplo um substrato oftálmico, um artigo óptico, um material de lente e/ou um artigo de lente.

[0011] É igualmente aqui apresentado um artigo óptico. O artigo óptico é produzido pelos métodos aqui descritos. Os métodos e sistemas aqui descritos reduzem etapas de processo, erro de operador, interação de operador, e requerem uma quantidade mínima de resolução de problemas e aptidão por parte de um operador. O método e os sistemas aqui descritos podem ser usados para fornecer um revestimento desejado, como por exemplo um revestimento AR, ou qualquer tipo de película fina multicamada que muda as propriedades ópticas, uma vez que são aplicadas camadas diferentes em um substrato adequado. Os métodos e sistemas aqui descritos reduzem igualmente a complexidade associada à fabricação de produtos AR.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS [0012] As vantagens, a natureza e as várias particularidades adicionais como aqui descrito surgirão mais na íntegra após a consideração das modalidades ilustrativas descritas em detalhe em seguida em conjunto com os desenhos anexos. Nos desenhos, os números de referência iguais denotam componentes similares em todas as vistas.

[0013] A FIG. 1 ilustra um fluxograma das etapas em um processo de deposição camada a camada em pelo menos um substrato, como aqui descrito;

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6/42 [0014] a FIG. 2 ilustra um sistema de deposição a vácuo exemplificative para a deposição de pelo menos uma camada em pelo menos um substrato;

[0015] a FIG. 3 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de uma primeira e única camada de uma pilha AR em cada substrato;

[0016] a FIG. 4 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de duas camadas de matérias-primas em cada substrato;

[0017] a FIG. 5 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de três camadas de matérias-primas em cada substrato;

[0018] a FIG. 6 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de quatro camadas de matérias-primas em cada substrato;

[0019] a FIG. 7 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de cinco camadas de matérias-primas em cada substrato;

[0020] a FIG. 8 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de seis camadas de matérias-primas em cada substrato; e [0021] a FIG. 9 ilustra o desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de reflexão contra vários comprimentos de onda) de dois substratos após a deposição de sete camadas de matérias-primas em

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7/42 cada substrato.

DESCRIÇÃO DETALHADA [0022] As palavras ou os termos aqui usados têm o seu significado claro e comum no campo dessa revelação, exceto até à medida explícita e claramente definida nessa revelação ou a menos que o contexto específico exija um significado diferente.

[0023] Se existir qualquer conflito nos usos de uma palavra ou um termo nessa revelação e em uma ou mais patentes ou outros documentos que possam ser incorporados a título de referência, devem ser adotadas as definições que são consistentes com esse relatório descritivo.

[0024] O artigo indefinido um significa um(a) ou mais de um(a) do componente, da parte ou da etapa que o artigo introduz.

[0025] Sempre que é revelada uma gama numérica de graus ou medições com um limite inferior e um limite superior, é igualmente pretendido revelar especificamente qualquer número e qualquer gama dentro da gama. Por exemplo, cada gama de valores (na forma de a a b, ou de cerca de a a cerca de b ou de cerca de a a b, de aproximadamente a a b e quaisquer expressões similares, onde a e b representam valores numéricos de graus ou medições) tem de ser entendida como apresentando todos os números e todas as gamas abrangidos dentro da gama mais ampla de valores, e incluindo os próprios valores a e b.

[0026] Termos como primeiro, segundo, terceiro, etc. podem ser atribuídos arbitrariamente e se destinam meramente a diferenciar entre dois ou mais componentes, partes ou etapas que são de outro modo similares ou correspondentes em termos de natureza, estrutura, função ou ação. Por exemplo, as palavras primeiro e segundo não servem nenhum outro propósito e não fazem parte do nome ou da descrição do nome ou termos descritivos seguintes. O mero uso do

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8/42 termo primeiro não exige que possa existir qualquer segundo componente, parte ou etapa similar ou correspondente. Similarmente, o mero uso da palavra segundo não exige que possa existir qualquer primeiro ou terceiro componente, parte ou etapa similar ou correspondente. Ademais, tem de ser entendido que o mero uso do termo primeiro não exige que o elemento ou a etapa seja precisamente o primeiro em qualquer sequência, mas meramente que corresponde pelo menos a um dos elementos ou das etapas. Similarmente, o mero uso dos termos primeiro e segundo não exige necessariamente qualquer sequência. Conformemente, o mero uso desses termos não exclui elementos ou etapas intermediários entre os primeiros e segundos elementos ou etapas, etc.

[0027] Como aqui usado, uma pilha antirrefletora ou pilha AR significa uma pilha multicamada formando um revestimento antirreflexão que é depositado em um substrato de artigo óptico. Como aqui usado, a camada mais interior da pilha antirrefletora significa a camada da pilha multicamada que se encontra mais próxima do substrato, e inversamente a camada mais exterior da pilha antirrefletora significa a camada da pilha multicamada que se encontra mais afastada do substrato. Em outras palavras, uma pilha forma uma camada aplicada global compreendendo pelo menos uma camada aplicada e opcionalmente uma ou mais camadas (n) adicionadas depositadas na referida uma camada aplicada, onde n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1.

[0028] Como usado nesse pedido, quando um artigo óptico compreende um ou mais revestimentos em sua superfície, a expressão depositando pelo menos uma camada ou um revestimento em pelo menos um substrato significa que uma camada ou um revestimento é depositado na superfície exposta do revestimento externo do substrato (ou seja, o revestimento que se encontra mais distante do substrato).

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Como aqui usado, um revestimento ou uma camada que é referido como se encontrando sobre um substrato ou que foi depositado em um substrato é definido como sendo um revestimento ou uma camada (i) que se situa por cima do substrato, (ii) que não se encontra necessariamente em contato com o substrato, ou seja, um ou mais revestimentos intermediários podem se situar entre o substrato e o revestimento de interesse, e (iii) que necessariamente não cobre totalmente o substrato, embora seja possível uma cobertura completa.

[0029] Como aqui descrito, a camada exterior ou camada superior em uma pluralidade de camadas em um substrato corresponde à camada ou às camadas expostas ou à(s) camada(s) mais próxima(s) da interface camada(s)-ar. Ademais, a camada exterior ou a camada superior em um conjunto como aqui descrito corresponde a uma camada mais exterior, ou à(s) camada(s) exposta(s) ou à(s) camada(s) mais próxima(s) da interface camada(s)-ar quando posicionada(s) no conjunto ou em um receptáculo, como por exemplo um cadinho.

[0030] Como aqui descrito, o termo dielétrico significa qualquer material que possa ser um mau condutor de corrente elétrica; geralmente esses materiais são eletricamente isolantes. O termo é como seria entendido no campo relevante. Geralmente, um material dielétrico como aqui descrito pode ser selecionado desde um óxido de metal, um nitreto de metal, um oxinitreto de metal, um dielétrico polimérico ou uma cerâmica. Os exemplos representativos incluem, mas não se limitam a, SiO, S1O2, MgF2, ZrF4, AIF3, CaFs, CeFs, GdFs, LaFs, LiF, NasAhFu, NasAIFe, TiO, T1O2, PrTiOs, LaTiOs, ZrO2, Ta2Os, Y2O3, Ce2Os, La20s, Gd20s, Dy2O5, Nd20s, HfO2, SC2O3, Pr20s, AI2O3, SÍ3N4, NdFs e YF3. O material dielétrico pode igualmente compreender um dielétrico polimérico à base de silício ou um organossilicato.

[0031] Arquivo de desenho significa um arquivo incluindo um dado que descreve uma película fina ou camada de um tipo de material

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10/42 particular a ser depositado em, pelo menos, um substrato para formar uma camada aplicada, bem como uma ordem particular de materiais a serem depositados. O arquivo de desenho pode compreender uma espessura física alvo (em nm) e/ou perfil de desempenho espectral para a, pelo menos uma, camada aplicada. Em um aspecto, o arquivo de desenho pode ser criado usando um programa de software de desenho comercialmente disponível de terceiros, como por exemplo TFCalc, Essential Macleod, OptiLayer, FilmStar, etc.). Essas ferramentas permitem a um usuário construir uma pilha AR usando unidades de espessura física das camadas ou espessura óptica. As informações no arquivo de desenho podem ser usadas para resolver problemas do desempenho espectral da pilha de películas finas, bem como o próprio processo de deposição camada a camada. O arquivo de desenho mostra os dados cumulativos do perfil espectral ou desempenho de cada camada, começando com uma primeira camada de uma pilha, depois o efeito de uma segunda camada, uma terceira camada, e assim sucessivamente, até toda a pilha ser representada. Em outras palavras, o arquivo de desenho armazena a evolução cumulativa do desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada e cada camada (n) adicionada formando a pilha. Isso é equivalente ao desempenho espectral alvo da camada aplicada global.

[0032] Espessura física de uma película fina significa a espessura de uma película fina e é tipicamente medida em nanometres (nm).

[0033] Espessura óptica é aqui definida como significando o logaritmo natural da relação de potência radiante incidente para transmitida através de um material, e a profundidade óptica espectral ou espessura óptica espectral corresponde ao logaritmo natural da relação de potência radiante espectral incidente para transmitida através de um material. Espessura óptica O é igualmente definida como: O = RI x t (1), onde O corresponde à espessura óptica, RI corresponde ao ín

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11/42 dice de refração de uma seção de uma película fina óptica e t corresponde à espessura física efetiva da seção de material óptico. Uma vez que o índice de refração é superior ao dos materiais ópticos normais, uma seção de material comum tipicamente tem uma espessura óptica que é superior à sua espessura física correspondente. A espessura óptica de cada camada aqui descrita pode ser igual a λ/4 em um comprimento de onda entre 280 e 780 nm. Espessura de película fina significa espessura de película fina óptica.

[0034] Espessura física programada significa um valor programado predeterminado (ou seja, número de unidades) para uma espessura física de uma película fina a ser depositada em pelo menos um substrato em uma câmara de deposição de vácuo. A espessura física programada é um número de unidades predeterminadas, com base em parâmetros de material, suficiente para produzir uma espessura física ou espessura óptica desejada de uma camada ou película fina. Espessura física programada pretende significar um valor de espessura física que foi programado em uma câmara de deposição de vácuo.

[0035] Fator de reflexão médio, indicado como Rm, é como definido na Norma ISO 13666:1998 e medido de acordo com a Norma ISO 8980-4, ou seja, se trata da média de reflexão espectral (não ponderada) em todo o espectro visível entre 400 e 700 nm. Rm é usualmente medido para um ângulo de incidência inferior a 17^Q, tipicamente de 15^Q, mas pode ser avaliado para qualquer ângulo de incidência.

[0036] Fator de reflexão de luz médio (igualmente definido como o fator de reflexão de luz visual ou fator de reflexão de luz luminosa), indicado como Rv, é como definido na Norma ISO 13666:1998 e medido de acordo com a Norma ISO 8980-4, ou seja, se trata da média de reflexão espectral ponderada em todo o espectro visível entre 380 e 780 nm. Rv é usualmente medido para um ângulo de incidência inferior a 17^Q, tipicamente de 15^Q, mas pode ser avaliado para qualquer

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12/42 ângulo de incidência.

[0037] A invenção aqui descrita permite a um usuário solucionar mais eficientemente que camada(s) em uma pilha de película fina pode(m) estar potencialmente perturbando um desempenho espectral global de um revestimento multicamada inteiro em, pelo menos, um substrato, como por exemplo uma lente oftálmica. Outros objetivos, particularidades e vantagens da presente invenção se tornarão evidentes desde a seguinte descrição detalhada. Todavia, deve ser entendido que a descrição detalhada e os exemplos específicos, embora indiquem modalidades específicas da invenção, são fornecidos como ilustração, uma vez que várias mudanças e modificações dentro do escopo aqui descrito se tornarão evidentes para os peritos na técnica desde essa descrição detalhada.

[0038] É aqui descrito um método de revestimento de, pelo menos, um substrato com um revestimento multicamada. O método inclui o fornecimento 1) de pelo menos um substrato de teste; 2) uma espessura (T) programada para, pelo menos, uma camada do revestimento multicamada; 3) um arquivo de desenho compreendendo uma espessura física alvo e um desempenho espectral alvo para a, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada; e 4) pelo menos uma matéria-prima para deposição em pelo menos uma porção do, pelo menos um, substrato.

[0039] Em relação à FIG. 1, o método compreende ainda 110 a deposição da, pelo menos uma, camada de pelo menos uma matériaprima em pelo menos uma porção do substrato de teste para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica; 120 a medição do desempenho espectral da camada aplicada; e 130 a comparação da espessura (T) física programada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ). Mais precisamente, o método compreende a comparação do desempenho espec

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13/42 trai alvo com o desempenho espectral da camada aplicada, comparando assim a espessura física programada da, pelo menos uma, camada aplicada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim o conjunto de dados (ΔΤ). O método compreende igualmente o cálculo, usando o referido conjunto de dados (ΔΤ), de uma espessura (Τ’) física programada ajustada suficiente para alcançar a espessura física alvo para a, pelo menos uma, camada aplicada do referido substrato, antes de avançar para a deposição de uma camada seguinte. O método pode então incluir 160 a deposição de uma camada (n) em uma porção do, pelo menos um, substrato para formar uma primeira camada aplicada, em que n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1. Em outras palavras, o método pode incluir a deposição de uma camada (n) em uma porção do, pelo menos um, substrato previamente revestido com a referida, pelo menos uma, camada para formar uma camada aplicada global, em que n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1. O, pelo menos um, substrato pode então ser 170 removido do sistema 29 aqui descrito, e o método pode então compreender ainda 180 a medição do desempenho espectral da camada aplicada do, pelo menos um, substrato e 190 a comparação do desempenho espectral da camada aplicada com o desempenho espectral alvo da camada aplicada da, pelo menos uma, camada de um arquivo de desenho. O, pelo menos um, substrato pode depois ser removido do sistema aqui descrito, e o método pode depois compreender ainda 180 a medição do desempenho espectral da camada aplicada global do, pelo menos um, substrato e 190 a comparação do desempenho espectral da camada aplicada global com o desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada e cada camada adicionada de um arquivo de desenho. Em seguida, o 200 desempenho espectral da, pelo menos uma, camada aplicada da lente é analisado para determinar se está em conformidade com o desempenho espectral al

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14/42 vo. Se o desempenho espectral da, pelo menos uma, camada aplicada da lente não estiver em conformidade com, ou não corresponder ao, desempenho espectral alvo, então 200 a espessura física programada da última camada aplicada pode ser ajustada. Em outras palavras, o 200 desempenho espectral da camada aplicada global da lente é analisado para determinar se está em conformidade com o desempenho espectral alvo. Se o desempenho espectral da camada aplicada global da lente não estiver em conformidade com, ou não corresponder ao, desempenho espectral alvo, então 200 a espessura física programada da última camada aplicada pode ser ajustada. O método calcula, usando o referido conjunto de dados (ΔΤ), uma espessura (Τ’) física programada ajustada da última camada aplicada suficiente para alcançar a espessura física alvo para a última camada aplicada do referido substrato, antes de avançar para a deposição de uma camada seguinte. Se o desempenho espectral da, pelo menos uma, camada aplicada da lente não estiver em conformidade com, ou não corresponder ao, desempenho espectral alvo, e for a última camada aplicada na lente, então o processo de deposição está concluído. Se a última camada da pilha AR não tiver sido aplicada, então a lente pode ser 150 carregada na máquina de espectrofotômetro e as etapas de processo 160 a 190 podem ser repetidas. Na prática, o método compreende a medição do desempenho espectral da camada aplicada ou camada aplicada global usando um espectrofotômetro.

[0040] A única ou mais matérias-primas aqui descritas pode(m) ser usada(s) individualmente ou pode(m) compreender pelo menos uma camada de uma pilha multicamada que tenha pelo menos uma superfície exterior ou exposta. Os métodos e sistemas descritos incluem a remoção de matéria(s)-prima(s) (a totalidade ou uma porção da(s) mesma(s)) de uma camada como uma primeira camada para formar uma primeira camada aplicada ou película fina no substrato, seguida

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15/42 por uma segunda camada para formar uma segunda camada aplicada ou película fina no substrato. Esse processo pode ser continuado até ser alcançada uma espessura de revestimento final desejada ou até uma primeira pilha ser entregue da maneira desejada. As matériasprimas aqui descritas podem se situar em uma única câmara de vácuo dentro de bolsas separadas, ou em conjuntos de pulverização separados, ou em um objeto multiface que mantém diferentes pilhas (alvos) em suas diferentes faces.

[0041] Se for usada uma pilha, cada pilha pode ter, pelo menos, duas camadas independentes, em que cada camada compreende pelo menos uma matéria-prima e pelo menos uma camada exterior. Cada uma das, pelo menos duas, camadas independentes se destina à deposição de modo sequencial em pelo menos um substrato. Cada uma das, pelo menos duas, camadas independentes compreende pelo menos uma matéria-prima. A, pelo menos uma, matéria-prima pode ser um material dielétrico, como por exemplo, mas não se limitando a, S1O2, MgF2, AI2O3, T1O2, ZrO2, ITO, SnÜ2 e Ta2Ü5 ou misturas dos mesmos. Cada camada depositada pode ter a mesma espessura ou espessuras diferentes. A espessura de cada película fina, quando depositada no substrato, é definida por uma espessura inicial da camada formada no conjunto ou unidade pré-fabricado. A espessura de cada camada no conjunto é de modo que, quando removida (p. ex., evaporada, aquecida, pulverizada, etc.), 0 revestimento multicamada final cumpra os critérios de desenho predeterminados, como definido em um arquivo de desenho. Em uma ou mais modalidades, a pilha de camadas de matéria-prima se destina à deposição das referidas matérias-primas em um artigo óptico, como por exemplo uma lente oftálmica. Cada camada de matéria-prima quando depositada forma uma película fina no substrato. Uma pluralidade de películas finas forma um revestimento.

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16/42 [0042] O substrato no qual o revestimento aqui descrito é depositado pode ser qualquer substrato capaz de receber os materiais aqui descritos. Em algumas modalidades, o substrato pode ser transparente. Em algumas modalidades, o substrato pode ser um artigo óptico. O substrato pode ser uma lente, como por exemplo uma lente oftálmica ou um vidro de lente. O termo lente como aqui usado geralmente significa uma lente de vidro orgânica ou inorgânica, preferencialmente uma lente orgânica, compreendendo um substrato de lente que pode ser inicialmente revestido ou parcialmente revestido com um ou mais revestimentos de várias naturezas.

[0043] O substrato óptico pode ser um substrato de vidro orgânico compreendendo, por exemplo, um material termoplástico ou termoendurecível. Os materiais termoplásticos que podem ser adequadamente usados para os substratos incluem (co)polímeros (met)acrílicos, especialmente metil-poli(metacrilato) (PMMA), (co)polímeros tio(met)acrílicos, polivinilbutiral (PVB), policarbonatos (PC), poliuretanos (PU), poli(tiouretanos), (co)polímeros de poliol-alilcarbonato, copolímeros termoplásticos de etileno e acetato de vinila, poliésteres, como por exemplo polietileno tereftalato (PET) ou polibutileno tereftalato (PBT), poliepissulfetos, poliepóxidos, copolímeros de policarbonatos e poliésteres, copolímeros de cicloolefinas, como por exemplo copolímeros de etileno e norborneno ou etileno e ciclopentadieno e combinações dos mesmos.

[0044] Como aqui usado, um (co)polímero significa um copolímero ou um polímero. Um (met)acrilato é um acrilato ou um metacrilato. Outros substratos exemplificativos de acordo com o invenção incluem, por exemplo, substratos obtidos polimerizando alquil(met)acrilatos, especialmente alquil(met)acrilatos C1-C4, como por exemplo metil(met)acrilatos, como por exemplo di(met)acrilatos de bisfenol polietoxilado, derivados de alila, como por exemplo alicarbonatos de poliol

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17/42 alifáticos ou aromáticos, lineares ou ramificados, tio(met)acrilatos, epissulfetos e misturas precursoras de politióis e poliisocianatos (para obter politiouretanos).

[0045] Como aqui usado, um policarbonato (PC) significa tanto os homopolicarbonatos e os copolicarbonatos como os copolicarbonatos em bloco. Os exemplos adequados de carbonato de poliol-alila (copolímeros incluem (co)polímeros de bis(alil carbonato) de etilenoglicol, de bis 2-metil carbonato de dietilenoglicol, de bis(alil carbonato) de dietilenoglicol, de bis(2-cloro alil carbonato) de etilenoglicol, de bis(2etil alil carbonato) de propoilenoglicol, de bis(alil carbonato) de 1,3butenodiol, de bis(2-bromo alil carbonato) de 1,4-butenodiol, de bis(alil carbonato) de dipropilenoglicol, de bis(2-etil alil carbonato) de trimetilenoglicol, de bis(alil carbonato) de pentametilenoglicol, de bis(alil carbonato) bisfenol-A de isopropileno.

[0046] Os substratos particularmente recomendados são os substratos obtidos por (co)polimerização de bis-alil carbonato de dietilenoglicol, comercializados, por exemplo, com o nome CR-39® de PPG Industries (lentes Essilor ORMA®). Os substratos particularmente recomendados incluem igualmente os substratos obtidos polimerizando monômeros tio(met)acrílicos, como por exemplo os descritos no pedido de patente de França FR 2734827. Os substratos podem ser obtidos polimerizando misturas dos monômeros aqui mencionados acima, ou podem igualmente compreender misturas desses polímeros e (co)polímeros. Os substratos exemplificativos são os feitos de um material reticulado (material termoendurecível); especialmente substratos alílicos, tipo (met)acrilato, tipo tio(met)acrilato ou de poli(tio)uretano.

[0047] Cada película fina ou camada pode ser aplicada em uma ou mais faces primárias de um substrato, incluindo um lado frontal (superfície convexa), um lado traseiro (superfície côncava), margens e qualquer combinação dos mesmos. Como igualmente aqui usado, a face

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18/42 posterior (tipicamente côncava) do substrato significa a face que, no artigo final, se situa mais próxima do olho do usuário. A face frontal (tipicamente convexa) do substrato significa a face que, no artigo final, se encontra mais distante do olho do usuário.

[0048] A pilha AR da presente invenção pode incluir qualquer camada ou pilha de camadas que melhore as propriedades antirrefletivas do artigo óptico acabado em pelo menos uma porção do espectro visível, aumentando assim a transmissão de luz e reduzindo a refletância de superfície. As camadas dielétricas do revestimento antirrefletor multicamada são depositadas na superfície óptica pela ordem inversa em que deviam estar presentes no artigo óptico acabado. O número total de camadas depositadas no substrato para formar um revestimento antirrefletivo (AR) multicamada pode ser tipicamente de 2 a 9 camadas.

[0049] A etapa de deposição de pelo menos uma camada no, pelo menos um, substrato compreende ainda a deposição da, pelo menos uma, camada ou um revestimento para formar o revestimento antirrefletivo multicamada, em que a, pelo menos uma, camada consiste em materiais alternados de alto índice (Al) e baixo índice (BI), ou seja, um material Al tendo um alto índice de refração (RI - Refractive Index) ou um material BI com um baixo índice de refração. Em uma modalidade, o revestimento multicamada compreende pelo menos duas camadas com um baixo índice de refração e pelo menos duas camadas com um alto índice de refração.

[0050] Uma camada do revestimento antirrefletivo é referida como sendo uma camada com um alto índice de refração quando seu índice de refração é igual ou superior a 1,6, preferencialmente igual ou superior a 1,7, ainda mais preferencialmente igual ou superior a 1,8 e o mais preferencialmente igual ou superior a 1,9 e inferior a 2,1. Uma camada de revestimento antirrefletivo é referida como sendo uma caPetição 870190059901, de 27/06/2019, pág. 24/66

19/42 mada de baixo índice de retração quando seu índice de retração é inferior a 1,55, preferencialmente igual ou inferior a 1,48 e mais preferencialmente igual ou inferior a 1,47. Salvo especificação em contrário, os índices de retração referidos no presente pedido são expressados a 25 ^QC, na pressão atmosférica e em um comprimento de onda de 550 nm.

[0051] As camadas de alto índice podem compreender um ou mais óxidos de metal, como por exemplo, sem limitação, ZrO2, T1O2, AI2O3, Ta2Os, SÍ3N4, NÓ2O5, Pr20s, PrTiOs, La2Os, Nb20s, Y2O3, Ce2Os, Dy2O5, HfO2, SC2O3 e misturas dos mesmos. As camadas de baixo índice podem compreender, sem limitação, S1O2, MgF2, ZrF4, AIF3, NasAhFu, NasAlFe, e misturas dos mesmos.

[0052] Cada camada do revestimento multicamada AR é definida como tendo uma espessura igual ou superior a 1 nm. Cada camada da pilha AR pode ter a mesma espessura ou uma espessura diferente. Geralmente, as camadas Al e as camadas BI, para além das camadas mais interiores e mais exteriores de uma pilha AR, podem ter uma espessura física variando respectivamente entre 10 e 160 nm (Al) e 10 e 120 nm (BI). A espessura total do revestimento multicamada pode ser de cerca de 500 nm a cerca de 1,5 pm. Os valores de espessura físicos efetivamente obtidos podem ser diferentes dos valores de espessura física programada. Um revestimento superior é depois aplicado. O revestimento superior pode ser hidrofóbico ou hidrofílico. O revestimento superior pode ser um revestimento antissujidade baseado em DSX que possa ser depositado no, pelo menos um, substrato após a deposição das camadas de material óptico de alto índice e baixo índice. O revestimento multicamada ou camada resultante pode ter, por exemplo, uma espessura programada de 14 nm.

[0053] Em relação à FIG. 2, é aqui descrito um sistema 29 para a deposição da, pelo menos uma, camada no, pelo menos um, substra

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20/42 to. A superfície de substrato antes do revestimento pode compreender uma superfície não revestida, não acabada, semiacabada ou acabada. Os métodos exemplificativos para revestimento do substrato incluem, mas não se limitam a, evaporação com ou sem assistência por feixe de íons, pulverização por feixe de íons, deposição por pulverização (p. ex., pulverização catódica, RF, reativa, por feixe de íons, fluxo de gás ou magnétrons), deposição química de fase de vapor assistida por plasma e revestimento por rotação. O sistema 29 é programado para alcançar as etapas do método da invenção. O sistema 29 compreende uma câmara de vácuo compreendendo uma espessura (T) física programada; um arquivo de desenho compreendendo um desempenho espectral alvo para pelo menos uma camada do revestimento multicamada; e pelo menos um aparelho para deposição da, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada no substrato, em que o aparelho é configurado para depositar a, pelo menos uma, camada no substrato para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica; e pelo menos um aparelho de monitoração óptica.

[0054] O revestimento, quando formado no, pelo menos um, substrato pode ser um revestimento de película fina, um revestimento antirreflexão (AR) (ou seja, revestimento AR Crizal®), um revestimento de reflexão (espelho), um revestimento de separador de feixes, um revestimento de filtro (p. ex., revestimentos de filtro passa-banda, filtro dicroico, filtro de densidade neutra, filtro de passagem longa e filtro de passagem curta) (coletivamente revestimentos).

[0055] Os substratos podem ser revestidos individualmente ou múltiplos substratos podem ser simultaneamente revestidos. Para alcançar uma espessura substancialmente igual de uma camada fina depositada em um ou mais substratos, como por exemplo uma lente óptica, os substratos são posicionados em uma câmara, e um ou mais, e muitas vezes vários, ou todos os seguintes podem ser usados em

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21/42 conjunto: rodando o(s) substrato(s) em torno de um eixo central e usando uma máscara de uniformidade posicionada entre uma fonte de energia e o(s) substrato(s). A colocação da fonte de energia em relação ao(s) substrato(s), a montagem do(s) substrato(s) em um apoio para manter o(s) substrato(s) no devido lugar, e como e onde a pilha pré-fabricada (ou pilhas, com ou sem um receptáculo) é posicionada em relação à fonte de energia podem igualmente ser modificadas para garantir a uniformidade do revestimento.

[0056] O sistema 29 compreende uma câmara de vácuo 31 tendo uma região superior 19 e uma região inferior 27 e um orifício de vácuo 15. Qualquer sistema de câmara de vácuo adequado conhecido dos peritos na técnica pode ser adequado para uso. As máquinas representativas incluem o sistema de revestimento Satisloh® MC 380 (registrado com Satisloh AG, Suiça), sistema evaporador Balzers BAK600, máquina Leybold 1104 equipada com uma pistola de elétrons ESV14 (8 kV) ou sistema de revestimento Satis 1200 DLX.

[0057] O sistema 29 inclui uma espessura (T) física programada e um desempenho espectral alvo para pelo menos uma camada do revestimento multicamada; um arquivo de desenho compreendendo um desempenho espectral alvo para pelo menos uma camada do revestimento multicamada; pelo menos um aparelho para deposição de pelo menos uma camada do revestimento multicamada no substrato, em que o aparelho é configurado para depositar a, pelo menos uma, camada no substrato para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica; e pelo menos um aparelho de monitoração óptica. O aparelho de monitoração aqui revelado pode incluir meios para monitorar e controlar automática ou manualmente a taxa de deposição, a espessura de uma ou mais películas finas quando depositadas e o desempenho espectral de cada camada. O aparelho de monitoração óptica pode controlar a espessura de cada camada aplicada. Em alterna

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22/42 tiva, em vez de um dispositivo de monitoração óptica, o sistema 29 pode compreender um monitor de cristal de quartzo, aqui descrito, que é igualmente capaz de monitorar a espessura de uma camada aplicada. O sistema 29 pode igualmente incluir um meio para monitorar a conformidade do desempenho espectral de pelo menos uma camada do revestimento multicamada com o desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada. O meio para monitorar essa conformidade pode ser um programa de software.

[0058] O sistema 29 inclui uma fonte de energia 25 posicionada de modo operacional dentro da câmara 31. Para depositar a, pelo menos uma, camada no substrato, uma quantidade suficiente de energia contínua ou não contínua é automática ou manualmente entregue a pelo menos uma porção de uma fonte de matéria-prima fornecida de uma camada exposta depositada em uma superfície desejada do substrato. O método aqui descrito forma o revestimento multicamada no, pelo menos um, substrato. O, pelo menos um, substrato pode ser um substrato de lente oftálmica.

[0059] Um vácuo pode ser criado na câmara 31 usando, pelo menos, uma bomba de vácuo (não mostrada), que é acoplada de modo operacional na câmara 31. A fonte de energia 25 pode ser um emissor, como por exemplo uma fonte de feixes de elétrons (p. ex., pistola de feixes de elétrons, e pode se destinar a emissão termiônica, ou com um arco catódico, como exemplos, com ou sem uma assistência por feixe de íons). Em uma ou mais modalidades, a fonte de energia 25 é uma fonte de pulverização por magnétrons. Uma pilha AR pode ser disposta entre um receptáculo 13 e um substrato 17. Em algumas modalidades, um obturador 23 pode ser disposto para cobrir seletivamente pelo menos uma porção da fonte 25 e/ou da pilha AR. O obturador 23 pode ser móvel, operável em uma posição fechada ou uma posição aberta.

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23/42 [0060] Em algumas modalidades, a fonte 25 se encontra posicionada na região inferior 27 da câmara 31. A fonte 25 pode ainda compreender um ou mais componentes que sejam configurados e/ou dispostos para fornecer um abastecimento de elétrons para evaporação da única ou mais das matérias-primas contidas em cada uma das duas ou mais camadas contidas na pilha AR.

[0061] Para aplicações que incluam uma fonte de feixe de elétrons, um nível de potência da fonte de feixes de elétrons será regido pela temperatura de evaporação de matéria-prima. Os abastecimentos de potência para uma fonte de feixes de elétrons podem variar de cerca de 4 kV a cerca de 6 kV, ou de 5 kV a cerca de 8 kV, o que é adequado para a maioria dos materiais dielétricos, ou podem fornecer uma potência até 10 kV ou mais, o que pode ser necessário ou útil com taxas muito altas de deposição, ou com o uso de materiais adicionais, como por exemplo, materiais termicamente condutivos (p. ex., em uma grande câmara). Um controlador e um conjunto de varredura de feixes (não mostrados) podem igualmente ser incluídos, o que pode ajudar com uma distribuição consistente das camadas. Um feixe de elétrons como uma fonte 25 é útil em muitas modalidades, uma vez que muitas matérias-primas (p. ex., dielétricas) aqui descritas, incluindo matérias-primas comumente usadas para revestimentos infravermelhos visíveis e próximos, não podem ser depositadas puramente por meios térmicos e requerem energia suficiente (p. ex., potência) para a remoção da(s) matéria(s)-prima(s) das duas ou mais camadas. Em uma ou mais modalidades, como por exemplo para aplicações ópticas, a quantidade de energia entregue pode ser em uma quantidade ou em uma gama entre cerca de 150 W e 1000 W. Igualmente, pode ser entre cerca de 200 W e 850 W, ou entre cerca de 250 W e 800 W, ou entre cerca de 270 W e 780 W. A energia que é emitida (p. ex., energia termicamente emitida) da fonte de energia pode ser direciona

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24/42 da por uma unidade de focagem. Em uma modalidade, a energia atua em pelo menos uma porção de cada camada sequencialmente, fundindo, evaporando ou sublimando pelo menos uma porção da(s) matéria(s)-prima(s) formando a referida uma camada, continuando depois com a camada seguinte, começando com a região no topo que se encontra exposto.

[0062] O dispositivo de câmara de vácuo 29 pode igualmente compreender pelo menos um apoio 33 para receber um ou um número qualquer de substratos. O(s) apoio(s) 33 se encontra(m) alojado(s) em uma cúpula rotativa 35. O único ou mais substratos pode(m) ser rotado(s) em relação a um ponto central da câmara ou com respeito a um eixo central da cúpula rotativa 35, de modo a obter a uniformidade do revestimento.

[0063] A taxa da evaporação pode ser afetada pela própria matéria-prima. A taxa de evaporação, deposição e espessura de revestimento total ou película fina podem ser controladas por um sistema de monitoração, como por exemplo um sistema de cristal de quartzo (QCM - Quartz-Crystal Monitoring) ou, em alternativa, um sistema de monitoração óptica (não mostrado).

[0064] Os sistemas de monitoração óptica podem incluir um chip de monitor separado, que possibilita uma discrepância entre o chip e o substrato. Algum software de monitoração óptica contém provisões para escolher modos de reflexão ou transmissão, bem como possibilitar a seleção de uma vasta gama de comprimentos de onda de monitoração. Um sistema de monitoração óptica pode produzir dados espectrais dentro de gamas de comprimento de onda alvo, por exemplo, na gama visível, gama UV ou outras gamas. Um sistema de monitoração óptica pode ser contido parcialmente dentro da câmara de vácuo e parcialmente fora. Por exemplo, dentro da câmara pode se encontrar o cristal, uma cabeça de sensor (com as conexões elétricas, linhas de

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25/42 água, termopares e/ou elementos de aquecimento) e uma passagem (p. ex., conexões entre um ou mais componentes internos dentro da câmara e outros fora dela). Os itens externos à câmara podem ser componentes, como por exemplo cabos e encaixes da passagem, um oscilador (para vibração de cristal) e seus componentes suplementares/de medição, um display e um controlador.

[0065] Os sistemas QCM podem ter uma elevada precisão (± 2%), muitas vezes medida em Angstroms. Esses sistemas podem ajudar a manter a taxa de deposição e a espessura das camadas por via de um ciclo proporcional-integral-derivativo (PID) ajustando os parâmetros de entrada e saída de um ciclo de feedback. O sistema de câmara de vácuo 29 pode ser acoplado em um controlador (não mostrado) que usa o circuito de feedback para ajustar a potência da fonte com base nas informações de taxa de deposição de película fornecidas ao mesmo por via dos monitores QCM ou de espessura de película fina óptica. Os parâmetros desejados de emersão e imersão, bem como a taxa de deposição ou espessura física final de uma película fina, podem ser introduzidos no controlador de processo antes da deposição de película. O controlador de processo pode ser responsável por começar o processo de deposição, mantendo todos os parâmetros necessários relativamente à fonte durante a própria deposição, e parando a deposição depois de ser alcançada uma espessura física de película fina desejada ou espessura de revestimento total no substrato. Embora os sistemas de monitoração QCM e ópticos possam não permitir que um usuário efetue correções após a ocorrência da evaporação, e não permitam correções no local nem parar o processo de evaporação, em uma ou mais modalidades, os métodos e sistemas melhorados aqui descritos permitem correções em tempo real.

[0066] O sistema 29 pode opcionalmente incluir um espectrofotômetro para medição do desempenho espectral de um artigo óptico.

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Mais particularmente, o desempenho espectral pode ser medido usando espectrofotômetros customizados ou comercialmente disponíveis, como por exemplo, mas não se limitando a, um Perkin-Elmer Lambda 850 com um acessório URA (Universal Reflectance Accessory - Acessório de Refletância Universal).

[0067] Os sistemas aqui descritos podem ser usados junto com hardware e software associado conhecidos na técnica e uma interface gráfica de usuário baseada em Windows®, por exemplo. Um único instrumento pode interagir com o software de controle para controlar substancial mente todo o sistema de evaporação da câmara. O software pode ser programado para ter capacidades de monitoração de banda larga, incluindo monitoração, e/ou permitindo avaliação em tempo real da taxa de evaporação e da taxa de deposição ou a formação da película fina.

[0068] Após a etapa de deposição da, pelo menos uma, camada da pilha no, pelo menos um, substrato, o método de revestimento do, pelo menos um, substrato inclui ainda 140 o cálculo, usando o conjunto de dados (ΔΤ) descrito acima, uma espessura (Τ’) física programada suficiente para alcançar a espessura física alvo para a, pelo menos uma, camada aplicada. O método inclui ainda 150 o carregamento de, pelo menos, um substrato (lente) em uma máquina de espectrofotômetro para SMR (Spectrophotometer Measurement Reflectance - Refletância de Medição de Espectrofotômetro). O método inclui ainda a medição de um desempenho espectral da camada aplicada usando um espectrofotômetro. O método de 120/180 medição do desempenho espectral inclui a medição do espectro de reflexão da camada aplicada. O método inclui ainda a comparação do desempenho espectral da camada aplicada com o desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada e o ajustamento da espessura programada da camada aplicada, de modo que seja substancialmente igual ao desempenho

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27/42 espectral alvo (nomeadamente igual à espessura física alvo) da, pelo menos uma, camada.

Exemplo 1 [0069] Em relação à FIG. 3, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 1, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 3.

Tabela 1

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h) (em um ângulo de 15^Q de incidência)	C* (crema)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
Cc ORMA (Interior)	278*	0,8*	3,56*	3,53*
Cc ORMA (Exterior)	281*	0,7*	3,56*	3,52*
Média	280	0,8	3,56	3,52

[0070] A Tabela 1 descreve a matiz, crema, % de Rm (400 a 700 nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de uma primeira camada n de uma matéria-prima em, pelo menos, um substrato, onde o substrato é uma lente. A matéria-prima é um material de alto índice. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. Nesse exemplo, uma primeira e única camada de um material de alto índice foi depositada em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) da lente. Mais particularmente, a camada de alto índice AI-1 foi depositada em cada uma das duas lentes que foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo. Uma lente foi posicionada em uma posição interior (IN) e outra lente foi posicionada em uma posição exterior (EX) da câmara de vácuo. Esse posicionamento dos substratos de lente permitiu que a camada de alto ín

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28/42 dice AI-1 fosse depositada em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar uma camada aplicada da matéria-prima de alto índice AI-1. AI-1 pode ser qualquer material de alto índice, como por exemplo os descritos acima.

[0071] A camada de alto índice AI-1 foi depositada em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio da, pelo menos uma, camada aplicada correspondesse a 280 ± 3. Após a medição do desempenho espectral da, pelo menos uma, camada aplicada compreendendo uma camada de alto índice AI-1 usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada da, pelo menos uma, camada aplicada foi comparada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ). Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho. A crema média era de 0,8 ± 3% em um ângulo de 15 graus de incidência. O fator de reflexão média, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 3,56% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente na região visível Rv era de 3,52% ± 3%. Como indicado pelo asterisco, o ângulo de matiz (h), crema C*, Rm (400 a 700 nm) e Rv da camada de alto índice AI-1 não estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura T física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral.

[0072] Em cada exemplo aqui descrito, o método pode ainda compreender o ajustamento da espessura (T) física programada da camada aplicada e ainda a deposição de pelo menos uma camada n no,

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29/42 pelo menos um, substrato, onde n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1. A espessura física programada pode ser ajustada se o desempenho espectral ou outras características da camada aplicada não estiverem em conformidade com o desempenho espectral alvo. Esse processo de deposição pode ser repetido para cada camada n de matéria-prima de uma pilha AR que seja depositada no, pelo menos um, substrato.

Exemplo 2 [0073] Em relação à FIG. 4, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 2, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 4.

Tabela 2

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (crema)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
CcORMA (IN)	265*	6,7	9,36*	8,92*
Cc ORMA (EX)	265*	6,7	9,23*	8,77*
Média	265	6,7	9,29	8,84

[0074] A Tabela 2 descreve a matiz, crema, % de Rm (400 a 700 nm), e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de uma camada de alto índice AI-1, seguida por uma camada de baixo índice BI-1 de matéria-prima em pelo menos um substrato, onde o substrato é uma lente. As camadas AI-1 e BI-1 podem ser selecionadas desde qualquer dos materiais de camada de alto índice e baixo índice aqui descritos. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. A camada de alto índice AI-1, seguida por uma segunda camada de baixo índice BI-1, foi depositada em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) de cada substrato de lente.

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Nesse exemplo, duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento de cada substrato de lente permitiu que a camada de alto índice AI-1 e a segunda camada de baixo índice BI-1 fossem depositadas em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas de uma camada de alto índice Al-1 e camada de baixo índice BI-1.

[0075] As camadas AI-1 e BI-1 foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 correspondesse a 265 ± 3. Após a medição do desempenho espectral das camadas AI-1 + BI-1 usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 foi comparada com a espessura óptica das camadas aplicadas, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ). Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho.

[0076] Como indicado pelo asterisco, o ângulo de matiz (h), Rm (400 a 700 nm) e Rv (380 a 780 nm) das camadas AI-1 + BI-1 aplicadas não estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura T física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral. Nesse exemplo, a croma média era de 6,7 ± 3 em um ângulo de incidência de 15^Q. O fator de reflexão média, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 9,29% ± 3%. [0077] Uma vez que cada camada de matéria-prima de alto índice (AI-1) e matéria-prima de baixo índice (BI-1) foi depositada em pelo

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31/42 menos um substrato, cada camada cumulativa pôde ser comparada com os dados de desempenho espectral de cada camada no arquivo de desenho para ver se o desempenho espectral correspondia ao arquivo de desenho. Se o desempenho espectral efetivo de cada camada fosse diferente do desempenho espectral teórico a qualquer momento durante a deposição das diferentes camadas, então era sabido em tempo real que camada ajustar antes de avançar para a deposição da camada seguinte. Isso permite a um usuário solucionar uma pilha de películas finas depositando e avaliando cada camada, de uma maneira cumulativa, começando com a primeira camada e a comparando com os dados de desempenho espectral para cada camada na evolução cumulativa do arquivo de desenho.

Exemplo 3 [0078] Em relação à FIG. 5, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 3, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 5.

Tabela 3

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (croma)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
CcORMA (IN)	258*	6,7	9,52*	9,20*
Cc ORMA (EX)	259*	6,8	9,41*	9,06*
Média	259	6,8	9,46	9,13

[0079] A Tabela 3 descreve a matiz, croma, % de Rm (400 a 700 nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de três camadas de matérias-primas. As camadas compreendem uma primeira camada de um material de alto índice (AI-1) + uma segunda camada de um material de baixo índice (BI-1) + uma terceira camada de um material de

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32/42 alto índice (AI-2), em pelo menos um substrato, onde o substrato é uma lente. Cada uma das camadas AI-1 e AI-2 pode ser escolhida desde qualquer um dos materiais de alto índice aqui descritos. A camada BI-1 pode ser escolhida desde qualquer um dos materiais de baixo índice aqui descritos. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. Cada uma das três camadas foi depositada em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) da lente. Nesse exemplo, pelo menos duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento de cada substrato de lente permitiu a deposição das camadas AI-1, BI-1 e AI-2 em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas de AI-1, BI-1 e AI-2.

[0080] As camadas AI-1, BI-1 e AI-2 foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas AI-1, BI-1 e AI-2 correspondesse a 259 ± 3. Após a medição do desempenho espectral das camadas aplicadas compreendendo AI-1, BI-1 e AI-2 usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada das camadas aplicadas AI-1, BI-1 e AI-2 foi comparada com a espessura óptica das camadas aplicadas, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ). Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho. Nesse exemplo, a croma média era de 6,8 ± 3 em um ângulo de incidência de 15 graus. O fator de reflexão médio, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 9,46% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente

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33/42 na região visível Rv era de 9,13% ± 3%. Como indicado pelo asterisco, o ângulo de matiz (h), Rm (400 a 700 nm) e Rv (380 a 780 nm) das camadas aplicadas AI-1, BI-1 e AI-2 não estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura T física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral.

Exemplo 4 [0081] Em relação à FIG. 6, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 4, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 6.

Tabela 4

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (croma)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
Cc IN ORMA	326*	8,6	10,02*	8,66*
Cc EX ORMA	326*	8,7	10,03*	8,67*
Média	326	8,6	10,03	8,67

[0082] A Tabela 4 descreve a matiz, croma, % de Rm (400 a 700 nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de pelo menos uma camada de alto índice AI-1 + uma camada de baixo índice BI-1 + uma camada de alto índice AI-2 + outra camada BI-2 de uma matéria-prima em pelo menos um substrato, onde o substrato é uma lente. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. As camadas Al1, BI-1, AI-2 e BI-2 foram depositadas em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) da lente. Nesse exemplo, duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento de cada

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34/42 substrato de lente permitiu a deposição da primeira camada AI-1, seguida pela segunda à quarta camadas BI-1, AI-2 e BI-2 em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas Al-1, BI-1, AI-2 e BI-2. [0083] As camadas AI-1, BI-1, AI-2 e BI-2 foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2 e BI-2 correspondesse a 326 ± 3. Após a medição do desempenho espectral das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2 e BI-2 usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada de pelo menos uma das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2 e BI-2 foi comparada com a espessura óptica das camadas aplicadas, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).

[0084] Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho. Nesse exemplo, a croma média era de 8,6 ± 3% em um ângulo de incidência de 15 graus. O fator de reflexão média, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 10,03% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente na região visível Rv era de 8,67% ± 3%. Como indicado pelo asterisco, o ângulo de matiz (h), Rm (400 a 700 nm) e Rv (380 a 780 nm) de cada uma das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2 e BI-2 não estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura T física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral.

[0085] O método aqui descrito pode ainda compreender o ajustamento da espessura (T) física programada da camada aplicada e ainda a deposição de pelo menos uma camada n, onde n corresponde a

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35/42 um número inteiro igual ou superior a 1. Esse processo de deposição pode ser repetido para cada camada de material n que é depositada em pelo menos um substrato.

Exemplo 5 [0086] Em relação à FIG. 7, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 5, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 7.

Tabela 5

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (croma)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
CcORMA (IN)	308*	10,3	9,75*	8,22*
Cc ORMA (EX)	308*	10,4	9,70*	8,17*
Média	308	10,3	9,72	8,19
[0087] A Tabela 5 descreve matiz, croma, % d	e Rm (400 a 700

nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de uma camada de alto índice (AI-1) + uma camada de baixo índice (BI-1) + uma camada de alto índice (AI-2) + uma camada de baixo índice (BI-2) + uma camada antiestática, como por exemplo ITO (Indium Tin Oxide - Óxido de Índio-Estanho), em pelo menos um substrato, onde o substrato é uma lente. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. As camadas Al-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO foram depositadas em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) do substrato de lente. Nesse exemplo, duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento de cada substrato de lente permitiu a deposição das camadas Al-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO em uma distribuição substan

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36/42 cialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas de Al-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO.

[0088] As camadas AI-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas correspondesse a 308 ± 3. Após a medição do desempenho espectral das camadas AI-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO foi comparada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).

[0089] Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho. Nesse exemplo, a croma média era de 8,6 ± 3 em um ângulo de incidência de 15 graus. O fator de reflexão médio, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 10,03% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente na região visível Rv era de 8,19% ± 3%. Como indicado pelo asterisco, o ângulo de matiz (h), Rm (400 a 700 nm) e Rv (380 a 780 nm) das camadas aplicadas AI-1, BI-1, AI-2, BI-2 e ITO não estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura (T) física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral. Uma vez que cada camada de uma matéria-prima de alto índice ou de baixo índice foi depositada em pelo menos um substrato, cada camada cumulativa pôde ser comparada com os dados de desempenho espectral de cada camada no arquivo de desenho para ver se o desempenho espectral correspondia ao arquivo de desenho, como descrito acima.

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37/42 [0090] Como descrito acima, para cada exemplo, o método pode ainda compreender o ajustamento da espessura (T) física programada da camada aplicada e ainda a deposição de pelo menos uma camada n, onde n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1. Esse processo de deposição pode ser repetido para cada camada de material n que é depositada em pelo menos um substrato.

Exemplo 6 [0091] Em relação à FIG. 8, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 6, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 8.

Tabela 6

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (crema)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
Cc IN ORMA	144	12,9	0,88	1,06
Cc EX ORMA	138	12,3	0,96	1,12*
Média	141	12,6	0,92	1,09

[0092] A Tabela 6 descreve a matiz, crema, % de Rm (400 a 700 nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de uma primeira camada n de uma matéria-prima em pelo menos um substrato, onde o substrato é uma lente. Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. A camada de alto índice (AI-1), seguida por uma segunda camada de baixo índice (BI-1), seguida por uma terceira camada de alto índice (AI-2), uma quarta camada de baixo índice (BI-2), uma camada antiestática ITO e uma camada de alto índice (AI-3), para um total de 6 camadas, foram depositadas em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) da lente. Nesse exemplo, duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de

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38/42 deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento de cada substrato de lente permitiu a deposição das camadas AI-1 + BI-1 + Al2 + BI-2 + ITO + AI-3 em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas de AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3.

[0093] As camadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 correspondesse a 141 ±3. Após a medição do desempenho espectral das camadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada das camadas aplicadas Al1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 foi comparada com a espessura óptica das camadas aplicadas, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).

[0094] Em cada exemplo aqui descrito, o desempenho espectral e os valores numéricos medidos para cada camada foram comparados com os do arquivo de desenho para determinar a conformidade ou não conformidade com o arquivo de desenho. Nesse exemplo, a crema média era de 12,6 ± 3 em um ângulo de incidência de 15 graus. O fator de reflexão média, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 0,92% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente na região visível Rv era de 1,09% ± 3%. Como indicado pelo asterisco, o Rv (380 a 780 nm) das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 não estava em conformidade com os valores associados ao valor de espessura (T) física programada ou a qualquer dos parâmetros associados ao arquivo de desenho, como por exemplo o desempenho espectral. Como descrito acima, uma vez que cada camada de uma pilha AR

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39/42 foi depositada em pelo menos um substrato, cada camada cumulativa pôde ser comparada com os dados de desempenho espectral de cada camada no arquivo de desenho para ver se o desempenho espectral correspondia ao arquivo de desenho.

[0095] O método pode ainda compreender o ajustamento da espessura (T) física programada da camada aplicada e ainda a deposição de pelo menos uma camada n, onde n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1. Esse processo de deposição pode ser repetido para cada camada de material n que é depositada no, pelo menos um, substrato.

Exemplo 7 [0096] Em relação à FIG. 9, é ilustrado um gráfico do desempenho espectral (ou seja, um diagrama da % de refletância contra vários comprimentos de onda) após a deposição de uma única camada de matéria-prima em pelo menos um substrato, usando os métodos e sistemas descritos acima. Abaixo, na Tabela 7, são apresentados dados correspondendo ao desempenho espectral da FIG. 9.

Tabela 7

Face de Identificação	h (^Q) (ângulo de matiz h)	C* (croma)	Rm (%) (400 a 700 nm) (fator de reflexão médio)	Rv (%) (380 a 780 nm) (Refletância de luz visível)
CcORMA (IN)	146	11,1	0,77	0,93
Cc ORMA (EX)	141	10,9	0,79	0,94
Média	144	11,0	0,78	0,93

[0097] A Tabela 7 descreve a matiz, croma, % de Rm (400 a 700 nm) e % de Rv (380 a 780 nm) após a deposição de matérias-primas como se segue: uma primeira camada de alto índice (AI-1) + uma camada de baixo índice (BI-1) + uma camada de alto índice (AI-2) + uma camada de baixo índice (BI-2) + ITO + uma camada de alto índice (Al3) + DSX (um revestimento antissujidade), em pelo menos um substrato, para um total de sete (7) camadas, onde o substrato é uma lente.

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Mais particularmente, o substrato de lente é uma lente ORMA. As camadas AI-1 + Bl-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX foram depositadas em pelo menos uma porção da face de identificação ou superfície côncava (Cc) de cada substrato de lente. Nesse exemplo, pelo menos duas lentes foram posicionadas dentro de uma câmara de deposição de vácuo, uma lente em uma posição interior (IN) e outra lente em uma posição exterior (EX). Esse posicionamento do substrato de lente permitiu a deposição das camadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX em uma distribuição substancialmente uniforme pelas superfícies côncavas de cada uma das lentes para formar camadas aplicadas de AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX.

[0098] As camadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX foram depositadas em pelo menos uma porção da superfície côncava de cada uma das lentes, de modo que o ângulo de matiz (h) médio cumulativo das camadas aplicadas correspondesse a 144 ± 3. Após a medição do desempenho espectral das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX usando um espectrofotômetro, a espessura (T) física programada das camadas aplicadas AI-1 + BI-1 + AI-2 + BI-2 + ITO + AI-3 + DSX foi comparada com a espessura óptica das camadas aplicadas, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).

[0099] Nesse exemplo, todos os valores testados, ou seja, o ângulo de matiz (h), a croma C*, Rm (400 a 700 nm) e Rv (380 a 780 nm) estavam em conformidade com os valores associados ao valor de espessura (T) física programada do arquivo de desenho. Particularmente, o ângulo de matiz (h) médio era de 144 ± 3. A croma era de 11,0 ± 3% em um ângulo de incidência de 15 graus. O fator de reflexão média, Rm, na face posterior ou face côncava da lente, entre 400 e 700 nm, era de 0,78% ± 3%. O fator de reflexão de luz médio, Rv, na face posterior ou face côncava da lente na região visível Rv, entre 380 e 780 nm, era de 0,93% ± 3%.

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41/42 [00100] Como todos os valores descritos acima estavam em conformidade com os valores programados, não foi necessário mais nenhum ajustamento da espessura (T) física programada de nenhuma das camadas ou de qualquer uma das outras camadas. O método pode ainda compreender o ajustamento da espessura (T) física programada da camada aplicada e ainda a deposição de pelo menos uma camada n, onde n corresponde a um número inteiro igual ou superior a

1. Esse processo de deposição pode ser repetido para cada camada de material n que é depositada em pelo menos um substrato.

[00101] Os métodos de revestimento de um substrato e os sistemas aqui descritos fornecem diversos benefícios. Os métodos e sistemas aqui descritos fornecem a um usuário ou fabricante mais controle sobre a composição de camadas depositadas, bem como a capacidade de medir o desempenho espectral de cada camada após a deposição de cada camada no substrato. Essa capacidade de solucionar o desempenho espectral de cada camada em tempo real durante o processo de deposição de vácuo elimina a necessidade de um operador repetir o processo depois de se ter deparado com uma pilha incorreta, por exemplo. Os métodos e sistemas descritos aqui revelados fornecem uniformidade e repetibilidade, garantindo assim maiores consistência e otimização de cada película fina, bem como o revestimento formado final e sua qualidade. Isso permite igualmente ao usuário verificar melhor a exatidão de cada camada depositada no, pelo menos um, substrato.

[00102] Os exemplos particulares revelados acima são somente ilustrativos, uma vez que a presente invenção pode ser modificado e praticado de maneiras diferentes, mas equivalentes, evidentes para os peritos na técnica tendo o benefício dos ensinamentos aqui. É, por consequência, evidente que os exemplos ilustrativos particulares revelados acima podem ser alterados ou modificados e todas essas varia

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42/42 ções são consideradas dentro do escopo da presente invenção. Os vários elementos ou etapas de acordo com os elementos ou etapas revelados podem ser combinados vantajosamente ou praticados juntos em várias combinações ou subcombinações de elementos ou sequências de etapas para aumentar a eficiência e os benefícios que podem ser obtidos da invenção.

[00103] Será reconhecido que uma ou mais das modalidades acima podem ser combinadas com uma ou mais das outras modalidades, salvo indicação explícita em contrário. A invenção aqui ilustrativamente revelado pode ser adequadamente praticado na ausência de qualquer elemento ou etapa que não seja especificamente revelado ou reivindicado. Ademais, não são pretendidas nenhumas limitações aos detalhes de construção, composição, desenho ou etapas aqui mostrados para além do descrito nas reivindicações.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Método de revestimento de, pelo menos, um substrato com um revestimento multicamada, o método caracterizado pelo fato de que compreende:

fornecer a) de, pelo menos, um substrato de teste, b) uma espessura (T) física programada para, pelo menos, uma camada do revestimento multicamada, e c) um arquivo de desenho compreendendo uma espessura física alvo e um desempenho espectral alvo para a, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada;

depositar, pelo menos uma, camada no substrato de teste para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica;

medir um desempenho espectral da camada aplicada; e comparar espessura (T) física programada com a espessura óptica da camada aplicada, gerando assim um conjunto de dados (ΔΤ).
2. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o método de deposição compreende ainda a deposição da, pelo menos uma, camada consistindo em um material de alto índice ou um material de baixo índice.
3. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o método compreende ainda o cálculo, usando o conjunto de dados (ΔΤ), de uma espessura (T) física programada suficiente para alcançar a espessura física alvo para a, pelo menos uma, camada aplicada.
4. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a etapa de deposição da, pelo menos uma, camada compreende ainda a deposição de uma camada (n) no, pelo menos um, substrato para formar uma camada aplicada, em que n corresponde a um número inteiro igual ou superior a 1.
5. Método, de acordo com a reivindicação 4, caracterizado

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2/3 pelo fato de que o método compreende ainda a medição de um desempenho espectral da camada aplicada.
6. Método, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que o método compreende ainda a comparação do desempenho espectral da camada aplicada com o desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada.
7. Método, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que o método compreende ainda o ajustamento da espessura física programada da camada aplicada.
8. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1,2, 3 ou 4, caracterizado pelo fato de que a etapa de deposição compreende ainda a deposição de, pelo menos, uma matéria-prima selecionada desde o grupo consistindo em: SiO, S1O2, SnÜ2 MgF2, ZrF₄, AIF₃, CaF₃, CeF₃, GdF₃, LaF₃, LiF, Na₃AI₃Fi4, Na₃AIF₆, TiO, TiO₂, PrTiOs, LaTiOs, ZrO2, Ta2O5, Y2O3, Ce2Os, La20s, Gd20s, Dy2O5, Nd₂O₅, HfO₂, SC2O3, Pr₂O₃, AI2O3, Si₃N₄, NdF₃, ITO, Ta₂O₅, Nb₂O₅, YF₃e misturas dos mesmos.
9. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 ou 8, caracterizado pelo fato de que 0 método compreende ainda a medição do desempenho espectral da camada aplicada usando um espectrofotômetro.
10. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1,2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 ou 9, caracterizado pelo fato de que 0 método forma 0 revestimento multicamada em, pelo menos, um substrato de lente oftálmica.
11. Sistema para revestimento de, pelo menos, um substrato com um revestimento multicamada, caracterizado pelo fato de que 0 sistema compreende:

uma câmara de vácuo compreendendo uma espessura (T) física programada;

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3/3 um arquivo de desenho compreendendo um desempenho espectral alvo para, pelo menos, uma camada do revestimento multicamada; e pelo menos um aparelho para deposição de, pelo menos, uma camada do revestimento multicamada no substrato, em que o aparelho é configurado para depositar a, pelo menos uma, camada no substrato para formar uma camada aplicada tendo uma espessura óptica.
12. Sistema, de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o sistema compreende ainda um meio para monitorar a conformidade do desempenho espectral de, pelo menos, uma camada do revestimento multicamada com o desempenho espectral alvo da, pelo menos uma, camada do revestimento multicamada.
13. Sistema, de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o sistema compreende ainda um espectrofotômetro.
14. Artigo óptico caracterizado pelo fato de que é produzido pelo método, conforme definido nas reivindicações 1 a 10.
15. Artigo óptico, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que o, pelo menos um, substrato é uma lente oftálmica.