BR112012024874B1 - dispositivo de rotação de objetos e conjunto de rotação de objetos - Google Patents

Abstract

DISPOSITIVO DE ROTAÇÃO DE OBJETOS E CONJUNTO DE ROTAÇÃO DE OBJETOS. A presente invenção refere-se à indústria de bens de consumo; particularmente, refere-se a recipientes e suportes giratórios para diferentes objeto. O dispositivo de rotação de objetos de acordo com a variante 1 inclui uma base com a aba de parada central elaborada de forma integral com um objeto ou com a possibilidade de fixar nela um item, que é diferente devido à razão entre o raio da base e a altura da aba de parada central, que deve ser de 40 a 2000. Segundo a variante 2, a base deverá ser elaborada pelo menos com uma aba lateral com menor altura que a central. Segundo a variante 3, a base deverá ser elaborada com a aba de parada central possuindo a possibilidade de fixar nela um objeto. Segundo a variante 4, a aba de parada central deverá ser elaborada com superfície de sustentação em flanco ou em forma de anel; ou deverá ser formada por membros separados posicionados em circunferência. A característica especial das variantes 5 e 6 de acordo com a presente invenção deverá ser uma base com a superfície em perfil formando as áreas de sustentação central e periférica. O conjunto de rotação (...).

Description

[001] A presente invenção refere-se à indústria de bens de consumo; particularmente, refere-se a recipientes e suportes giratórios para diferentes objetos.

[002] É conhecido o dispositivo para girar um recipiente de líquidos, que inclui uma base com uma aba de parada central que é elaborada com um objeto completo (vide a Patente RF n° 52685 de TJ de abril de 2006).

[003] Uma desvantagem do dispositivo conhecido é a impossibilidade de rotação da base dentro de limites permissíveis de sua oscilação; é especialmente importante para uso de um vidro para líquido. Além disso, o valor da força de resistência de rotação dependendo do diâmetro base e do formato é importante para rotação.

[004] O resultado técnico é que um objeto da presente invenção consiste na criação dessas variantes do dispositivo de rotação de objetos, que excluem a possibilidade da sua oscilação excessiva devido às certas proporções dos componentes base, e aumentam o seu tempo de rotação.

[005] Para o dispositivo, o resultado técnico acima pela primeira variante deverá ser atingido devido ao fato de que a razão entre o raio base e a altura da aba de parada central é de 40 a 2000; neste caso, a base poderá ser elaborada com pelo menos uma aba lateral com altura menor que a central.

[006] As abas laterais poderão ser elaboradas na forma de mancais e posicionadas na superfície inferior da base, com a possibilidade de interação com a superfície cilíndrica de um restritor que envolve a base.

[007] Para o dispositivo, o resultado técnico pela segunda variante, que inclui uma base com uma aba de parada central que é elaborada em conjunto com um objeto como um todo, ou com a possibilidade de fixação nela de um objeto, deverá ser atingido devido ao fato de que a base deverá ser elaborada pelo menos com uma aba lateral com altura menor que a central. A possível localização das abas laterais é descrita acima.

[008] O valor da razão das distâncias entre os centros da aba de parada central e as abas laterais e a diferença entre as suas alturas deverá ser de 40 a 2000.

[009] As abas laterais poderão ser pontiagudas, curvas, retas ou em forma de anel.

[0010] A aba de parada central e/ou as abas laterais poderão ter sua altura ajustável, por exemplo, na forma de componentes rosqueados com a superfície de sustentação em flanco feita de material facilmente trabalhado a máquina.

[0011] Em alguns casos, a base poderá ser elaborada com contrapesos ajustáveis, por exemplo, na forma de componentes rosqueados.

[0012] Para criar um filme de ar, a superfície inferior de base deverá ter perfil que simule lâminas propulsoras e/ou forme dutos de ar.

[0013] Para reduzir a velocidade da reação, a base deverá ser elaborada com uma parte massiva e/ou ser equipada com pelo menos um peso, por exemplo, na forma de anel ou massa discreta.

[0014] Para criar algum efeito de entretenimento, a base deverá ter uma cavidade onde deverá estar localizado um elemento indicador com possibilidade de movimentação.

[0015] Para o dispositivo, o resultado técnico da terceira variante deverá ser atingido devido ao fato de que a base com uma aba de parada central é capaz de fixação nela de um objeto. Essa construção base reduz a velocidade da sua reação e aumenta a sua generalidade de uso (aumenta o seu escopo de aplicação).

[0016] Para o dispositivo, o resultado técnico pela quarta variante, que inclui uma base com uma aba de parada central que é elaborada com um item ao todo ou com a possibilidade de fixação nela de um objeto, deverá ser atingido devido ao fato de que a aba de parada é elaborada em formato de anel ou possui a superfície de sustentação em flanco, ou com componentes separados que são posicionados em circunferência. Essa construção da base permite o seu uso em superfícies ásperas e relativamente suaves; ela também permite a manutenção da posição vertical estável sem o uso de nenhum ponto de sustentação lateral; nela, a razão entre a extensão mais baixa base e a aba de parada da extensão de sustentação em flanco ou em que a área é englobada por componentes que formam a aba de parada deverá ser de 16 a 400.

[0017] Para o dispositivo, o resultado técnico da quinta variante deverá ser atingido devido ao dispositivo de rotação de objetos inclui uma base em que uma aba de parada central é elaborada junto com um objeto completo ou com a possibilidade de fixação nela de um objeto e que possui uma superfície em perfil inferior na qual a altura máxima da área de sustentação central protuberante é maior que a altura das suas áreas de sustentação periféricas.

[0018] A superfície em perfil inferior deverá ser realizada de forma convexa ou cônica com pelo menos uma área de sustentação periférica protuberante ou uma aba lateral com altura menor que a da área de sustentação central da superfície em perfil inferior ou ondulada em planos que cruzam o eixo central vertical da base.

[0019] Na presente invenção, pela sexta variante, o resultado técnico deverá ser atingido devido ao fato de que o dispositivo de rotação de objetos inclui uma base com uma aba de parada central que é elaborada junto com um objeto integral ou com a possibilidade de fixação nela de um objeto e que possui uma superfície em perfil inferior que forma uma área de sustentação central protuberante e pelo menos uma aba de parada periférica; ou formação de pelo menos uma área de sustentação periférica e uma aba de parada central; nela, a altura da área de sustentação central protuberante deverá ser maior que a da aba de parada periférica e a altura da aba de parada central, mais que a área de sustentação periférica.

[0020] Para garantir que seja atingido o resultado técnico, deverá ser utilizado o conjunto de rotação de objetos, que inclui pelo menos um dispositivo que inclui uma base com uma aba de parada central que é elaborada junto com um objeto integral ou com a possibilidade de fixação nela de um objeto e um membro de sustentação que possui uma superfície de sustentação em flanco para a base correspondente ou um membro de sustentação que possui uma superfície de sustentação em flanco para pelo menos duas bases.

[0021] O conjunto de rotação de objetos poderá ser equipado com uma embalagem que possui uma superfície plana para sustentação da base que é elaborada, por exemplo, na sua cobertura.

[0022] A natureza das invenções foi explicada nas figuras.

[0023] Na Figura 1, foi exibida uma vista geral da base pela primeira variante; na Figura 2, uma vista geral da base de rotação de objetos pela segunda variante; na Figura 3, disposição ordenada das abas laterais; na Figura 4, outras variantes da disposição de abas; na Figura 5, a base com uma aba em anel e várias abas curvas localizadas em circunferência; na Figura 6, a mesma, com abas em perfil curvo; na Figura 7, foram exibidas as abas com superfície de sustentação em flanco; na Figura 8, foram exibidas possíveis formas da superfície inferior base; na Figura 9, possíveis formas das abas; na Figura 10, foram exibidas as abas ajustáveis; na Figura 11, foi exibida a base com contrapesos; na Figura 12, foi exibida a base com sua superfície inferior na forma de lâminas; na Figura 13, foi exibida a base com entradas de ar; na Figura 14, foi exibida a base com peso adicional; na Figura 15, foram exibidas as variantes do peso adicional; na Figura 16, foi exibida a aba de parada central com área de sustentação; na Figura 17, foi exibida a aba de parada central em anel; na Figura 18, foi exibida a aba de parada central em anel com os membros separados; na Figura 19, foi exibida a base do dispositivo com superfície inferior convexa; na Figura 20, a base do dispositivo com superfície inferior ondulada; na Figura 21, a base do dispositivo com superfície inferior cônica; na Figura 22, a base do dispositivo com área de sustentação central e abas de parada periféricas; na Figura 23, a base do dispositivo com área de sustentação periférica e aba de parada central.

[0024] O dispositivo de rotação de objetos inclui a base (1) com a superfície inferior (2). A forma e o tamanho da superfície inferior (2) são importantes para a rotação de um objeto (4) em qualquer superfície horizontal regular (3) em volta de algum eixo vertical (5). A base poderá ser um objeto independente ou ser uma parte integral de algum objeto (4); ela poderá ser, por exemplo, um fundo de vidro ou algum membro de sustentação do suporte. Se a base for um objeto independente, o método de fixação do objeto (4) à base não deverá ser essencial. O objeto (4) poderá ser fixado à base (1) de qualquer forma.

[0025] O ponto de sustentação da base (6) é localizado na sua aba de parada central (7); e, pela segunda variante, a base também possui pontos de sustentação lateral (8) nas abas de parada lateral (9).

[0026] A forma de um ponto de sustentação central que se encontra em uma parte inferior da aba (7) depende do seu formato: semiesférico, cone, pirâmide, vara, agulha etc. O ponto de sustentação central (6) está localizado no eixo vertical (5) (eixo de rotação) que passa através do centro de equilíbrio (10) da base.

[0027] Os pontos de sustentação lateral (8) (abas laterais - 9) estão localizados à distância "a" do ponto de sustentação central (6). A distância "a" deverá ser definida pelas dimensões da base (1) e poderá ser menor que o diâmetro da superfície inferior (2) da base (1).

[0028] Segundo a primeira variante (de todas as variantes) (Figura 1), a característica especial do dispositivo consiste na razão entre o raio base (R) e a altura da aba de parada central (H) que é de 40 a 2000; nesse caso, a base poderá ser elaborada com pelo menos uma aba lateral com altura menor que a central. A razão acima foi obtida de forma teórica e experimental, utilizando as superfícies de sustentação (3) com diferente grau de acabamento.

[0029] Sobre a segunda variante, a característica especial de construção do dispositivo consiste no formato desenvolvido especial da superfície inferior (2) da base (1). O número de pontos de sustentação lateral (abas laterais) poderá ser de três ou mais. Os pontos de sustentação lateral poderão estar localizados de forma ordenada na superfície inferior; eles poderão estar localizados, por exemplo, nos ápices de algum polígono equilátero com o seu centro no ponto de sustentação central ou de forma aleatória ou ornamental.

[0030] É possível o uso de uma aba lateral em anel elaborada integralmente com a base ou rosqueada sobre a base; ou uma aba lateral em perfil fechada. As abas laterais poderão ser elaboradas na forma de pernas curvas que são posicionadas em circunferência ou na forma de algum ornamento.

[0031] Para melhor girar a base com o mínimo de fricção entre os pontos de sustentação lateral e a superfície (3), deverá ser preferido o posicionamento dos pontos de sustentação lateral ao longo de linha contínua ou tracejada em circunferência com o centro do círculo no ponto de sustentação central.

[0032] A aba central e as abas laterais poderão possuir diferentes formatos na sua seção (triângulo, semicírculo etc.).

[0033] Neste caso, seria realizado contato com a superfície (3) nos pontos separados, reduzindo a fricção entre os pontos de sustentação e a superfície (3). Além disso, as abas poderão ter áreas planas pequenas (11) nas suas extremidades. Ela poderá reduzir o processo de desgaste das abas durante a sua fricção com a superfície (3) durante a rotação e reduzir a resistência de rotação da superfície áspera e, respectiva mente, suave (3).

[0034] Um propósito do ponto de sustentação central (6) consiste em fornecer à base (1) a sua capacidade de girar em volta do eixo de rotação (5). Um propósito dos pontos de sustentação lateral consiste no fornecimento para a base da sua estabilidade necessária em posição vertical, evitando volta excessiva para o lado. A variante ideal poderá ser possível, caso a base (1) que se encontra na superfície horizontal (3) pudesse repousar sobre essa superfície apenas com o ponto de sustentação central (6). Neste caso, a base poderá girar em volta do eixo de rotação (5) da forma mais eficaz possível (com o máximo de duração). Como o centro de equilíbrio (10) encontra-se em posição mais alta que o ponto de sustentação (6), a base que é sustentada com um ponto de sustentação central estaria apenas em equilíbrio instável. Nela, a base tentará seguir para o estado de equilíbrio estável por meio de inclinação para qualquer lado com sustentação pela superfície horizontal além do ponto de sustentação central (6), pelos pontos de sustentação lateral (8) ou adicionalmente pela extremidade da base.

[0035] Quando a base estiver no seu equilíbrio dominante e girar na superfície (3) em volta do eixo de rotação (5), ela se encontra em uma posição tal que é sustentada pela superfície horizontal utilizando os pontos de sustentação central e lateral continuamente.

[0036] O tamanho h (Figura 2) é importante para a estrutura de base. O tamanho h define a altura da aba central (7), que inclui o ponto de sustentação central, com relação aos pontos de sustentação lateral. Devido a essa aba, a base poderá girar em volta do eixo vertical (5) na superfície horizontal (3). Com valor de h = 0, o ponto de sustentação central e os pontos de sustentação lateral encontram-se no mesmo plano. Nesse ponto, a rotação da base é impossível. Caso o valor de h seja alto demais, a base deverá oscilar muito (ela se inclina para o lado a partir do eixo vertical (5)). Essa oscilação da base reduz significativamente o seu tempo de rotação. A oscilação da base reduz significativamente o seu apelo visual. O valor ideal de h = 0,05 - 0,15 mm. Esta faixa de h deverá ser recomendada para a base quando o tamanho "a" (Figura 2) for de 20 a 100 mm. Nesse ponto, supõe-se o uso da base em superfícies planas horizontais com aspereza insignificante. Essas superfícies poderão incluir quase todas as superfícies amplamente utilizadas para a fabricação de tampos de mesa, parapeitos e mobília. Diferentes plásticos duros, madeira, pedra natural e artificial etc. poderão ser materiais para essa superfície. A faixa de h = 0,02-0,05 mm será ideal para uma faixa de tamanho a = 5 - 50 mm, bem como quando se supuser que a base deva ser utilizada em superfícies muito suaves tais como vidro, pedra polida e similares. É recomendada uma faixa de h = 0,1 - 1 mm para dispositivos com a = 100 - 500 mm, bem como quando a base for utilizada em superfícies ásperas demais ou que possuem curvas significativas (diferenças de altura). As bases com maior valor de h são possíveis quando é utilizado valor correspondentemente maior de "a", bem como para seu uso em superfícies curvas.

[0037] Além disso, o valor de hl (Figura 2) é importante para a estrutura de base. O tamanho hl define a altura das abas laterais (9) e a distância entre a superfície inferior da base (2) e a superfície horizontal (3). As abas laterais (9) são necessárias para o abaixo. Quando não houver aba lateral (hl = 0), a superfície inferior (2) da base (1) é plana (Figura 2). Como o valor recomendado de h é pequeno demais, no caso da superfície inferior plana de base, a sua parte significativa poderá entrar em contato com a superfície (3). Condicionalmente, chamaremos esta parte das superfícies de contato de área (X) (Figura 1). Ao girar a base na área (X), surge alguma fricção significativa entre a superfície inferior (2) da base (1) e a superfície (3). Além disso, partículas finas externas diferentes (poeira, areia seca, partículas de alimentos etc.) poderão estar presentes na superfície (3); elas poderão também resistir significativamente à rotação da base. Para excluir os fatores acima, que resistem à rotação da base, é recomendada a aplicação de hl = h e mais, bem como razões dos parâmetros acima para as primeira e segunda variações da presente invenção. Durante a fabricação da base, o valor máximo de hl deverá ser definido seja com base em considerações estéticas ou em necessidades tecnológicas. Além disso, o valor máximo de hl poderá ser definido com base em formato mais complicado da superfície inferior (2) nos casos em que esse formato da superfície inferior gera melhoria da rotação da base.

[0038] Com base em considerações estéticas, a base poderá possuir configuração mais complicada. A aba central (7), abas laterais (9) e a superfície inferior (2) poderão possuir formatos diferentes (Figura 8).

[0039] A aba central (7) e as abas laterais (9) poderão assumir o formato de colunas, esferas, "pernas", eixos etc. A superfície inferior (2) assume a forma de aro, arco e outras formas complicadas (Figura 9).

[0040] A aba central (7) e as abas laterais (9) poderão ter sua altura ajustável. Neste caso, o valor de h é ajustável ao valor necessário (dependendo, por exemplo, do grau de aspereza da superfície de rotação (3) da base (1)). Com este propósito, as abas (7) e (9) poderão ser realizadas separadamente da base na forma de varas rosqueadas (12) e conectadas à base com conexões rosqueadas (Figura 10).

[0041] É muito importante que o centro de equilíbrio (10) (Figura 2) esteja no eixo de rotação (5) ou o mais perto dele possível. Neste caso, será colocada pressão mínima pelos pontos de sustentação lateral (8) à superfície horizontal (3). Em seguida, os pontos de sustentação lateral (8) estarão sujeitos à fricção mínima com a superfície horizontal (3) durante a rotação da base na superfície horizontal.

[0042] Quando uma forma de combinação da base e do objeto (4) é complexa, entretanto, e o cálculo da localização exata do ponto de sustentação central (6) com relação ao eixo (5) torna-se complicado, existe a possibilidade de não coincidência entre o eixo (5) e o centro de equilíbrio (10).

[0043] A fim de deixar o centro de equilíbrio (10) e o eixo de rotação (5) o mais perto possível, a estrutura base poderá ser equipada com o sistema de contrapesos (equilibradores) ajustáveis; e deverá ser possível mover o centro de equilíbrio da base movimentando-os. Os contrapesos poderão ser elaborados na forma de componentes (13) (Figura 11) rosqueados utilizando a rosca de conexão ou similar.

[0044] A superfície inferior da base poderá ser elaborada em formato similar a lâminas de ventilador, propulsor e turbina (Figura 12).

[0045] Durante a rotação da base, essas lâminas gerarão alguma força de erguimento, reduzindo a pressão de pontos de sustentação lateral sobre a superfície de rotação da base. Neste ponto, a fricção entre os pontos de sustentação lateral e a superfície (3) cairá e a duração da rotação da base aumentará.

[0046] A superfície inferior da base poderá ser elaborada com ranhuras - entradas de ar (provavelmente, em combinação com lâminas) (Figura 13). Durante a rotação da base, essas ranhuras - entradas de ar gerarão alguns fluxos (jatos) de ar concentrado dirigidos aos pontos de sustentação lateral, de forma a criar algum efeito de almofada de ar entre os pontos de sustentação lateral e a superfície de rotação da base. Por esta razão, a fricção entre os pontos de sustentação lateral e a superfície de rotação da base cairá e a duração da rotação da base aumentará.

[0047] Para aumentar a duração da rotação de base, a sua inércia (princípio de volante de motor) deverá aumentar. Ela pode ser atingida utilizando materiais com densidade mais alta para a fabricação de bases. Poderá ser atingida utilizando algumas soluções de projeto; por meio da distribuição de parte significativa do peso da base em volta da sua parte periférica lateral (sobre o perímetro) uniformemente (Figura 14).

[0048] Caso a base seja feita de algum material de baixa densidade, a sua inércia poderá aumentar significativamente por meio da distribuição uniforme de alguns contrapesos adicionais ao longo da sua parte periférica lateral (perímetro) (Figura 15); esses contrapesos poderão ser elaborados na forma de unidades separadas (14) ou anel completo (15) de algum material de alta densidade.

[0049] A aba de parada central poderá possuir qualquer superfície de sustentação em flanco (16) (Figura 16), ser elaborada na forma de anel (17) (Figura 17) ou consistir de membros separados (18) posicionados em circunferência (Figura 18); nela, a razão entre a superfície inferior da base e a área da superfície de sustentação em flanco da aba de parada ou área limitada pelos membros da aba de parada deverá ser de 16 a 400.

[0050] Com este projeto, a base é sustentada apenas pela área (16), quando estiver no equilíbrio dominante na superfície horizontal, gira em volta do eixo de rotação vertical (5) ou é sustentada apenas pela área (16). Ela permite a posição estável vertical da base sem sustentação pelos pontos de sustentação lateral (8). Por esta razão, aparentemente nenhuma fricção entre os pontos de sustentação lateral (8) e a superfície (3) cria nenhuma ação de fricção sobre a rotação da base.

[0051] Ao utilizar essa variante do projeto de base, a localização do centro de equilíbrio (10) no eixo de rotação vertical (5) que é localizado no interior da área (15) ou do anel (17), ou do anel que consiste dos membros (18), é muito importante.

[0052] Qualquer melhoria adicional da base pela segunda variante de acordo com a presente invenção deverá ser relativa a todas as suas variantes.

[0053] Aplicação do dispositivo:

[0054] Conforme indicado acima, este dispositivo deverá ser aplicado em combinação com o item (4), seja integralmente ou como um objeto independente para fixação do objeto (4).

[0055] A variante de execução integral da base com o objeto poderá ser aplicada quando o objeto de forma integral com a base for fabricado conforme segue: 1 - modelagem (plástico, polímeros, vidro, cristal, cerâmica, metal); 3 - pressão de molde (formação sob pressão) (plástico, polímeros, vidro, metal); 3 - processo de trabalho a máquina (plástico, polímeros, vidro, cristal, cerâmica, metal, pedra natural e artificial, madeira).

[0056] A generalidade da aplicação é uma característica especial da variante para elaboração da base separadamente. Neste caso, entretanto, surge complicação adicional devido à necessidade de algum mecanismo para fixar um objeto ao dispositivo.

[0057] A base (1) com alguma superfície em perfil que forma a área de sustentação protuberante central (19) ou a aba central (20) com ponto de sustentação central (6) e pontos de sustentação lateral (8) nas abas de parada lateral (9) ou áreas (partes) de sustentação periférica (21) que são formadas pela superfície em perfil são características especiais das quinta e sexta variantes da presente invenção.

[0058] O formato do ponto de sustentação central (6) poderá ser esférico ou cônico. O ponto de sustentação central (6) deverá estar localizado no eixo vertical (5) que passa através do centro de equilíbrio (10) da base.

[0059] Os pontos de sustentação lateral (8) (abas de parada lateral (9) ou áreas (partes) de sustentação periférica (21)) estão localizados à distância "a" do ponto de sustentação central (6). A distância "a" deverá ser definida pelas dimensões da base (1) e poderá ser menor que o diâmetro da superfície inferior (2) da base (1).

[0060] Os parâmetros h e hl acima poderão ser aplicados à área de sustentação periférica (21) e também à área de sustentação protuberante central (19) (Figura 19 - 23).

[0061] Independentemente da variante de execução, o objeto que se encontra na base poderá ser correspondente a muitas aplicações diferentes. Ele poderá ser uma caixa ou recipiente oco: qualquer recipiente para manter quaisquer objetos pequenos (esquife, copo plástico para lápis, recipiente para mercadoria a granel, cinzeiro, placa,...); recipiente (veículo) para líquidos (copo (copo de vinho), vaso, agitador, utensílios químicos,...).

[0062] Poderá ser algum objeto monolítico: qualquer decoração interior (escultura, castiçal, candelabro,...); decoração de recompensa (galhardete, cálice, obelisco,...).

[0063] Poderá ser alguma estrutura complexa: algum equipamento para publicidade externa (visor, suporte (pedestal) para demonstração das mercadorias anunciadas em uma loja ou exibição,...).

[0064] Além disso, o dispositivo poderá ser um componente de jogo. Com este propósito, a base deverá ser oca; e, no interior da sua cavidade, deverá estar localizado algum membro indicador que seja capaz de mover-se, tal como uma bola. Ao girar a base, é realizado o movimento independente do membro indicador; e, após a parada, o membro indicador indica o vencedor ou perdedor.

[0065] Nem todas as superfícies de sustentação, tais como uma mesa coberta com um encerado, poderão fornecer o grau de rotação necessário. Para fornecer a rotação de base garantida em qualquer superfície de sustentação, poder-se-á utilizar o conjunto de rotação de objetos, incluindo pelo menos uma base com a aba de parada central sendo realizada na forma integral com um objeto, ou com a possibilidade de fixar nela um item, e membro de sustentação separado com superfície de sustentação em flanco para a base correspondente, ou um membro de sustentação com superfície de sustentação em flanco para pelo menos duas bases.

[0066] Desta forma, o conjunto poderá incluir diversas bases e um número correspondente dos membros de sustentação com superfície de sustentação em flanco ou um membro de sustentação geral, tal como uma bandeja.

[0067] Como membro de sustentação, poderá ser utilizada a cobertura de recipiente para embalar o dispositivo.

Claims (6)

1. Dispositivo de rotação para rotacionar um item, incluindo uma base (1) que apresenta uma aba de parada central (7) feita integralmente com o item (4) ou capaz de ser fixado ao item e que apresenta ao menos uma aba de parada lateral (9) de menor altura do que a aba de parada central, caracterizado por uma razão de uma distância (R) entre os centros de uma projeção de mancai central e uma projeção lateral (H) em relação à diferença entre as alturas dessas projeções ser entre 40 e 2000, a base apresentando uma posição em que a dita base está em seu equilíbrio dominante e rotaciona em uma superfície horizontal (3) em torno de um eixo de rotação; na dita posição, a base sendo suportada por uma superfície horizontal usando continuamente os pontos de sustentação central e lateral (6, 8).

2. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por a dita ao menos uma aba de parada lateral (9) compreende uma pluralidade de abas de parada lateral separadas.

3. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado por as abas de parada lateral (9) serem pontiagudas.

4. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 2 ou 3, caracterizado por as abas de parada lateral (9) serem seções retas ou curvas.

5. Dispositivo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por a aba de parada lateral (9) ser em forma de anel.

6. Dispositivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 5, caracterizado por ao menos uma dentre as abas ser fabricada com uma superfície de sustentação em flanco.

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