BE814192A - Werkwijze voor het vormen van een neerslag op een groot aantal vlakke substraten - Google Patents

Werkwijze voor het vormen van een neerslag op een groot aantal vlakke substraten

Info

Publication number
BE814192A
BE814192A BE143618A BE143618A BE814192A BE 814192 A BE814192 A BE 814192A BE 143618 A BE143618 A BE 143618A BE 143618 A BE143618 A BE 143618A BE 814192 A BE814192 A BE 814192A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
een
vlakke
neerslag
vormen
aantal
Prior art date
Application number
BE143618A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of BE814192A publication Critical patent/BE814192A/fr

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4587—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially vertically
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/006—Apparatus
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/065—Gp III-V generic compounds-processing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
BE143618A 1973-04-27 1974-04-25 Werkwijze voor het vormen van een neerslag op een groot aantal vlakke substraten BE814192A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7315461A FR2227640B1 (fr) 1973-04-27 1973-04-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE814192A true BE814192A (fr) 1974-10-25

Family

ID=9118616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE143618A BE814192A (fr) 1973-04-27 1974-04-25 Werkwijze voor het vormen van een neerslag op een groot aantal vlakke substraten

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3922467A (fr)
JP (1) JPS5314464B2 (fr)
AU (1) AU6831374A (fr)
BE (1) BE814192A (fr)
DE (1) DE2418662A1 (fr)
FR (1) FR2227640B1 (fr)
GB (1) GB1460758A (fr)
IT (1) IT1010097B (fr)
NL (1) NL7405442A (fr)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5242075A (en) * 1975-09-29 1977-04-01 Nippon Denso Co Ltd Device for controlling gas atmosphere in semiconductor producing equip ment
US4279947A (en) * 1975-11-25 1981-07-21 Motorola, Inc. Deposition of silicon nitride
SE432162B (sv) * 1976-04-22 1984-03-19 Fujitsu Ltd Forfarande for att utifran en anga bringa en tunn film att tillvexa
FR2354810A1 (fr) * 1976-06-14 1978-01-13 Anvar Couches monocristallines, procedes de fabrication de telles couches, et structures comportant une couche monocristalline
US4062318A (en) * 1976-11-19 1977-12-13 Rca Corporation Apparatus for chemical vapor deposition
JPS53126271A (en) * 1977-04-11 1978-11-04 Kokusai Electric Co Ltd Reduced pressure gaseous growing method and boarding jig
US4225647B1 (en) * 1977-12-02 1995-05-09 Richard A Parent Articles having thin, continuous, impervious coatings
US4220116A (en) * 1978-10-30 1980-09-02 Burroughs Corporation Reactant gas flow structure for a low pressure chemical vapor deposition system
NL7812388A (nl) * 1978-12-21 1980-06-24 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
US4263872A (en) * 1980-01-31 1981-04-28 Rca Corporation Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates
US4401689A (en) * 1980-01-31 1983-08-30 Rca Corporation Radiation heated reactor process for chemical vapor deposition on substrates
US4355974A (en) * 1980-11-24 1982-10-26 Asq Boats, Inc. Wafer boat
KR830002904Y1 (ko) * 1982-06-16 1983-12-13 채이순 차수용(遵水用)매드
US4574093A (en) * 1983-12-30 1986-03-04 At&T Bell Laboratories Deposition technique
US4640223A (en) * 1984-07-24 1987-02-03 Dozier Alfred R Chemical vapor deposition reactor
JPS6223983A (ja) * 1985-07-25 1987-01-31 Anelva Corp 真空化学反応装置
US4834022A (en) * 1985-11-08 1989-05-30 Focus Semiconductor Systems, Inc. CVD reactor and gas injection system
FR2604297B1 (fr) * 1986-09-19 1989-03-10 Pauleau Yves Reacteur de depot de silicium dope
JPS63162862U (fr) * 1988-03-16 1988-10-24
US4993358A (en) * 1989-07-28 1991-02-19 Watkins-Johnson Company Chemical vapor deposition reactor and method of operation
JP2005528777A (ja) * 2001-09-29 2005-09-22 クリー　インコーポレイテッド 反転型ｃｖｄのための装置
JP2012004408A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Tokyo Electron Ltd 支持体構造及び処理装置
JP2015145317A (ja) * 2014-01-31 2015-08-13 ヤマハ株式会社 カーボンナノチューブの製造装置
JP2015185750A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3409483A (en) * 1964-05-01 1968-11-05 Texas Instruments Inc Selective deposition of semiconductor materials
US3816166A (en) * 1970-03-11 1974-06-11 Philips Corp Vapor depositing method
US3678893A (en) * 1970-05-01 1972-07-25 Stewart Warner Corp Improved device for supporting semiconductor wafers

Also Published As

Publication number Publication date
FR2227640A1 (fr) 1974-11-22
GB1460758A (en) 1977-01-06
NL7405442A (fr) 1974-10-29
AU6831374A (en) 1975-10-30
IT1010097B (it) 1977-01-10
US3922467A (en) 1975-11-25
JPS5314464B2 (fr) 1978-05-17
DE2418662A1 (de) 1974-11-21
FR2227640B1 (fr) 1977-12-30
JPS5016476A (fr) 1975-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE814192A (fr) Werkwijze voor het vormen van een neerslag op een groot aantal vlakke substraten
BE816523A (fr) Werkwijze voor het terugwinnen van oplosmiddel uit een oplossing van geextraheerd oplosbaar materiaal
BE834872A (fr) Werkwijze voor het bereiden van een verdunningsmiddel voor bloedmonsters en werkzijze voor het onderzoeken van bloedmonsters
BE800931A (fr) Enkelzijbandsysteem voor het digitaal verwerken van een gegeven aantal kanaalsignalen
BE812978A (fr) Inrichting voor het ontsteken van een van voorverhitbare elektroden voorziene gas- en/of dampontladingslamp
BE820603A (fr) Inrichting voor het snijden van ringen van een hol
BE790708A (fr) Samenstel voor het afscheiden van een gedeelte van een ruimte
BE822578A (fr) Werkwijze en inrichting voor het samenlassen van voorwerpen uitpolyolefinen
NL7416990A (nl) Freem voor het ondersteunen van voorwerpen.
NL7412824A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een benzochi-
BE817595A (fr) Werkwijze en inrichting voor het in een groep opsporen van een lichamelijke afwijking
NL7410318A (nl) Werkwijze voor het bereiden van fenylpropana-
BE809465A (fr) Werkwijze en inrichting voor het verwerken van elektrostatischebeelden
NL7412944A (nl) Werkwijze voor het epoxyderen van alkenen.
BE796707A (fr) Werkwijze en inrichting voor het vormen van monokristallen
BE813434A (fr) Magnetische korrektieinrichting voor een katodestraalbuis
BE836238A (fr) Werkwijze en inrichting voor het afscheiden van kristalliseerbare stoffen uit een meercomponentensysteem
BE820781A (fr) Deksels voor houders
BE820643A (fr) Gecombineerde inrichting voor het produceren en uitwisselen vanwarmte met een warmte verbruikende inrichting
BE812979A (fr) Inrichting voor het aftasten van een oppervlak en micro-endoscoop voorzien van een dergelijke inrichting
BE810034A (fr) Werkwijze en inrichting voor het kopieren op een elektrofotografische filmstrook
BE795119A (fr) Wapeningselement voor metselwerk en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijk wapeningselement
BE819728A (fr) Inrichting voor het vervaardigen van kunststofbuis
BE837799A (fr) Werkwijze voor het bereiden van een versnapering
BE819027A (fr) Werkwijze voor het granuleren van hygroscopisch fijn poeder