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La présente invention concerne un procédé pour la fabrication, selon les procédés photomécaniques , de clichés ou de matrices sous forma de plaques ou de cylindres eb poly.. amides mono- ou multicouches.
Il est connu de fabriquer, par voie photomécanique, des clichés constitués d'une ou de plusieurs couches de poly" amides en faisant diffuser dans la surface un sensibilisateur, par exemple du bichromate d'ammonium ou de l'acide chronique, puis en exposant à la lumière, après avoir été mise sous une image, la couche de polyamide sensibilisée et en éliminant les parties non insolées au moyen d'un solvant et/ou d'un gonflant.
L'élimination peut être accélérée par frottement mécanique.
Lorsqu'il s'agit d'obtenir des reliefs assez marqués, il est fréquemment nécessaire, après frottement, de traiter de nou- veau avec un sensibilisateur la couche de polyamide insolée, puis de l'exponor et de creuser une seconde fois. Les flancs des parties formant l'image sont ainsi protégés sur une plus grande profondeur. Les procédés de ce genre présentent des di@ ficultés du point de vue technique et ne donnent pas toujours des clichés impeccables.
Or on a trouvé qu'on peut fabriquer, en évitant les inconvénients précités, des clichés et des matrices en plaques ou cylindres de polyamides sensibilisés, avec élimination en plusieurs phases par frottement avec des solvants et/ou des gonflants, en soumettant les plaques ou les cylindres, entre: les opérations d'élimination par frottement, au moins une fois à un traitement thermique, précédé, le, cas échéant, d'une sen sibilisation.
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On obtient ainsi des clichés ou des matrices dont le relief présente des contours particulièrement nets et une pro- fondeur suffisante pour l'impression ou l'estampage.
Conformément au procédé de la présente invention, on peut fabriquer les clichés ou les matrices sous forme de pla- ques ou de cylindres en polyamides mono- ou multicouches, en traitant d'abord les plaques ou les cylindres dans un bain con- tenant soit un sensibilisateur exerçant sur les polyamides un effet réticulant sous l'action aussi bien de la lumière que de la chaleur, soit un mélange de sensibilisateurs dont un compo- sant exerce un tel effet sous l'action de la lumière et l'autre sous l'action de la chaleur. La plaque ou le cylindre sensibi- lisés sont ensuite exposés, de la manière habituelle, sous une image, après quoi on élimine les parties non insolées par frot- tement avec des solvants et/ou des gonflants, avantageusement en une épaisseur correspondant à la profondeur de pénétration du sensibilisateur dans la couche de polyamide.
La plaque ou le cylindre portant le relief sont ensuite exposés à des tempéra.. tures comprises entre 90 C et une température peu inférieure- environ 10 C - au point de fusion du polyamide mis en oeuvre.
Le temps de cette exposition dépend de la température. A 95 C par exemple, il est de 8 minutes environ. Apres ce traitement thermique, on rend le relief plus saillant par un nouveau frot- tement jusqu'à ce que les creux aient la profondeur voulue, par exemple de 600 . On peut encore rendre plus saillant le relief en répétant les opérations précitées sans avoir à craindre que ' les flancs ne soient rongés à leur base.
Il est aussi possible de fabriquer les clichés en soumettant à un frottement, comme décrit précédemment, les pla- 'ques ou les cylindres exposés à la lumière et en les traitant
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ensuite de nouveau avec un sensibilisateur. Dans ce cas, on met en contact le relief avec un tampon, par exemple un papier bu- vard, imbibé du sensibilisateur. De la sorte, seules les par- ties formant le dessin sont de nouveau sensibilisées. La plaque est ensuite soumise à un traitement thermique et peut, comme décrit plus haut, être de nouveau traitée par frottement, En répétant ces opérations, le relief peut être encore accentué.
La méthode la plus avantageuse pour fabriquer des olichéss ou des matrices consiste à enlever de la plaque ou du cylindre exposés, d'abord environ la moitié de la couche à éli- miner pour arriver à la profondeur totale nécessaire, sans toute- fois aller au delà de la pénétration du sensibilisateur dans la couche.Lors du traitement thermique qui suit, on expose seu- lement les parties formant l'image à une température élevée en appliquant, par exemple, sur la surface du relief une plaque métallique chauffée,ou en chauffant le relief dans un champ haute fréquence. On continue à creuser en frottant.
Suivant la profondeur désirée pour le processus d'impression prévu, on peut accentuer le relief sans que les flancs ne soient rongea à leur base, en répétant une ou plusieurs fois les opérations mentionnées ci-dessus.
Comme les polyamides conviennent particulièrement bien, par exemple, les copolymères solubles dans les solvants usuels, de préférence les copolymères transparents à base de sels du type acide dicarboxylique/diamine, comme le diamino-1-6
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hexane-adipate, l'hexamé%hylénediamine-sébaça%e, le diamino-1-6 hexane-heptadécanedicarboxylate ou le diamino-4-4' dicyclohexyl- méthane-adipate, ainsi que les lactames, comme le Caprolactame, .le méthylcaprolactame, le capryllactame, le laurinolactame. Les polymaides peuvent, par exemple, être obtenus par polycondensa- tion des composés précités générateurs de polyamides en présence
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de catalyseurs acides ou neutres et avantageusement en l'absen- ce d'agents de réticulation.
Pour la fabrication des clichés ou des matrices, les polyamides peuvent être employés sous forme de plaques constituées d'une ou de plusieurs couches.
Comme solvants ou gonflants appropriés pour les poly" amides on citera, par exemple, les alcools, comme le méthanol, : l'éthanol, le propancl et le butanol ou bien leurs mélanges avec de l'eau et/ou des hydrocarbures aromatiques, par exemple ' le benzène, le toluène, ou. des hydrocarbures halogénés, comme le chloroforme, le trichloréthylène ou l'a-dichlorhydrine.
Comme sensibilisateurs on utilisera de préférence, dans les quantités usuelles, les matières qui exercent un effet -réticulant sur les polyamides aussi bien sous l'action de la lumière que sous celle de la chaleur. A titre de composés de ce genre on citera , par exemple, les sels de chrome ou de l'acide chromique.
Comme solvants pour les sensibilisateurs; on utilise- ra, de préférence, l'eau ou l'acétone.
Les clichés ou les matrices à fabriquer conformément au procédé de la présente invention, se distinguent en parti- culier par le fait qu'ils peuvent être obtenus très simplement avec la profondeur de relief nécessaire pour l'estampage ou l'impression sans que les flancs soient rongés à laur base ou sans que les traits fins soient endommagés déjà au cours de la fabrication . Ceci est très important par exemple pour les clichés combinés similitrait, car on peut suffisamment protéger, les points fins du simili tout en creusant assez profondément
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'ouf""'''' '" dans les parties au trait.
Les parties et les pour cent indiqués dans les exem- ples suivants sont enpoids.
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ESEMPLE 1.
On plonge pendant 3 heures dans une solution, à 0,05% d'acide chronique dans tm mélange eau/acétone (1/1), une pla- que de 1 mm d'épaisseur environ, en copolyamide obtenu de façon connue à partir d'un mélange à parties égales de caprolactame, de diadipate d'hexaméthylène-diammonium et du sel de p,p'-dia- minodicyclohexylméthane et d'acide adipique, puis on expose comme d'habitude sous un négatif. Après exposition, on produit le relief en creusant par frottement les parties non insolées pendant 4 minutes, à l'aide d'une peluche, avec de l'alcool propylique aqueux à 15%. La profondeur du relief est de 0,23 mm On chauffe la plaque pendant 5 minutes à 100 0 dans une étuve, puis on frotte encore 6 minutes de la manière décrite précé- demment.
Le relief est alors d'une profondeur de 0,6 mm; il présente des contours nets et n'est pas endommagé.
Si l'on travaille comme mentionné ci-dessus, mais sans interrompre le frottement et sans traitement thermique, le relief est nettement endommagé après 5 minutes de frottement, et après 7 minutes, il l'est fortement, c'est-à-dire que les lignes fines et les petits points ont été enlevés au cours du frottement.
EXEMPLE 2.
On plonge pendant 2 heures dans une solution chromi- que à 0,05% dans un mélange eau/acétone (1/1), une plaque de 1 mm d'épaisseur en copolyamide obtenu de manière connue à partir d'un mélange à parties égales de caprolactame, de di- adipate d'hexaméthylène-diammonium et du sel de p,p'-diamino-
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,dicyclohexylméthane et d'aci4. adip1q.. puis on expose comme d'habitude sous un négatif. On produit ensuite le relief en frottant pendant 2 minutes, à l'aide d'une peluche, avec de
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l'alcool propylique aqueux à 15%. Après ce frottement, la surface en relief est recouverte d'un papier buvard imbibé d'une solution d'acide chromique aqueux à 1%. Deux minutes après, on enlève le buvard et on abandonne la plaque pendant
5 minutes dans une étuve à 110 0.
Le relief est ensuite rendu plus marqué, de la manière décrite ci-dessus, par un frottement de 6 minutes.
La profondeur du relief est de 0,5 à 0,6 mm. Les flancs ne sont pas rongés à leur base.
EXEMPLE 3,
On plonge pendant 3 heures dans une solution d'acide chromique à 0,05% dans un mélange eau/acétone (1/1) une plaque de 1 mm d'épaisseur en copolyamide obtenu de manière connue à partir d'un mélange à parties égales de caprolactame, de diadi- pate d'hexaméthylène-diammonium et du sel de p,p'-diamino-dioy- olohexylméthane et d'acide adipique, puis on expose comme d'ha- bitude sous un négatif . On produit le relief en frottant pen- dant 2 minutes, à l'aide d'une peluche, avec de l'alcool pro- pylique aqueux à 15%, après quoi on sèche la plaque et on l'applique, avec le côté portant le relief, sur une surface métallique chauffée à 120 C. Après 2 1/2 minutes, on retire la plaque de polyamide et on continue le frottement comme dé- crit précédemment.
On obtient ,après 1 1/2 minute, un relief de 0,42 mm de profondeur, présentant d'excellentes propriétés.
EXEMPLE 4.
On plonge pendant 5 heures dans une solution à 0,05% d'acide chromique dans un mélange eau/acétone (1/1), une pla- que de 1 mm d'épaisseur en copolyamide obtenu de la manière habituelle à partir d'un mélange à parties égales de caprolac- tame, de diadipate d'hexaméthylèhe-diammonium et du sel de p,p'-diaminocyclohexylméthane et d'acide adipique, puis on
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sèche à l'abri de la lumière. Après exposition sous un négatif dans les conditions connues, la plaque est frottée pendant
2 1/3 minutes comme indiqué dans les exenples précédents,' puis 'est placée pendant 5 minutes dans une étuve à 110 C et frottée de nouveau pondant 2 minutes. On obtient une plaque avec relief d'une profondeur de 0,45 mm.
Si le deuxième frottement est poursuivi pendant
3 1/2 minutes, la profondeur du relief atteint 0,55 mm.
Les arêtes des parties formant l'image, de même que celles des points fins sont toujours bien nettes.
REVENDICATIONS.
1.- Procédé pour la fabrication de clichés ou de matrices en plaques ou en cylindres de polyamides sensibili- sées, par élimination par frottement, en plusieurs phases, des parties non '.isolées des plaques ou des cylindres de poly- amides, au moyen de solvants ou de gonflants et, le cas échéant) nouvelle sensibilisation entre les phases de frotte- ment, caractérisé en ce qu'on soumet les plaques ou les cy- lindres de polyamides au moins une fois, entre les phases de .
. frottement, à un traitement thermique.