BE653434A - - Google Patents

Description

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  Procédé de fabrication de minces films ferromagnétiques 
L'invention concerne un procédé de fabrication de minces films à anisotropie uniaxiale, en particulier pour des dispositifs de mémoire magnétiques. 



   Les films de matériau magnétique peuvent être utilisés   comme   éléments de mémoire dans des mémoires pour machines calcula. trices. Afin que, dans ces mémoires, les films puissent fonction- ner à-des vitesses élevées, ils sont généralement   trs   minces. De plus, il est désirable que la couche formant le film présente deux états d'aimantation stables, de façon que l'information puisse être accumulée suivant la méthode "oui" ou "non".

   De minces films peuvent 

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 être obtenus par vaporisation., par pulvêr1sat16d5Jto1e électrochimique et chacun de ces procès permet de régler l'épais- seur de la couche de matériau magnétique appliqué (essentiellement en modifiai dans des conditions   contrôlées,   la durée   de'l'appli-     cation)..   L'introduction des deux états stables est   généralement   obtenue en appliquant un champ magnétique pendant l'application du film. De ces films à deux états stables on dit qu'ils présentent. une "anisotropie   uniaxiale"   et que ?l'anisotropie   uniaxiale"   est "induite"dans le film par le champ magnétique appliqué pendant   Inapplication   de la couche formant le film. 



     L'Invention   fournit un procédé de fabrication de minces films à anisotropie uniaxiale sans l'intervention d'un champ   magnétique.   



   Suivant l'invention, le substrat, sur lequel on   appli-   que par la suite la mince couche formant le film est soumis dans un sens à une charge suffisante pour provoquer une déformation ' élastique de substrat mais ne dépassant pas la valeur maximale pour laquelle   il   se produit uniquement une déformation élastique u substrat, puis on   ap@@ique   le mince film et ensuite on supprime charge dû substrat. De que la charge est supprimée, le substrat ren   @  forme initiale et   @  mince film est soumis à une solli- . citation ou contrainte , lui se traduit par de l'aniso- trople uniaxiale. 



   Dans une forme   @éalisation   l'invention, le substrat est fixé par un bord tandis qu'au brd opposé est exercée ..une force dans le plan du substrat qui comprime au étend le substrat. Après 1'application du mince film sur 1 surface de substrat., la force de compression ou d'extension du :substrat est supprimée, de sorte que le mince film est soumis à une con- trainte de traction   ou   de compression se traduisant par de l'ani-   sotropie   uniaxiale. 



   Dans une forme de réalisation particulière de l'inven- tion,le substrat est déformé de façon à acquérir une incurvation 

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 cylindrique$ le mince film est appliqué sur la surface concave ou convexe du substrat après quoi on supprime la force exercée sur le substrat. Le mince film est ainsi soumis à une contrainte de traction ou de compression et présente de l'anisotropie uniaxiale. 



   Il importe cependant que le substrat ne soit pas soumis à une contrainte telle que la limite élastique soit dépassée. 



   L'invention sera expliquée à l'aide de l'exemple sui- vant. 



   Un corps de verre est encastré à une extrémité et l'autre extrémité est soumise à une traction de sorte que le verre est soumis à une contrainte do traction. Pendant que la contrainte      de traction existe dans le verre, on applique par vaporisation   - sur   la surface de verre une mince couche   d'une   épaisseur d'environ      1000 Angström   d'un   alliage de 82% de nickel et de 18% de fer. 



  Après l'application de la couche formant le film , la traction . sur le verre est supprimée, de sorte que la couche appliquée est soumise à une compression. Le film obtenu présente maintenant de l'anisotropie   uniaxiale.   Le film de métal s'avère présenter une direction   d'aimantation   préférée. 



   Au lieu d'un corps de verre on peut utiliser un corps céramique ou un corps   métallique.   



   L'invention n'est pas limitée à la formation de minces films magnétiques. On peut appliquer tout matériau cristallin et y produire de l'anisotropie uniaxiale en appliquant le matériau cristallin,par exemple par vaporisation, par pulvérisation ou par voie galvanuique. sur un substrat porté à une contrainte préa- lable et   pouvant   reprendre son état non contraint, ce qui transfère la contrainte à la couche appliquée.

Claims (1)

1. RESUME.

   1.- Procédé de fabrication des minces films à anisotro- pie uniaxiale se trouvant sur un substrat, caractérisé en ce qu'on soumet dans un seul sens le substrat sur lequel une mince couche formant un film sera appliquée par la suite à une sollicita*- tion suffisante pour provoquer la déformation élastique du substrat <Desc/Clms Page number 4> mais ne dépassant pas la charge maximale pour laquelle le substrat subit encore uniquement une déformation élastique, on applique la mince coucha formant le film et on supprime ensuite la charge du substrat, ce procédé pouvant présenter en outre la particulari- té que le mince film appliqué sur le substrat est constitué par du matériau aimantable.

   2.- Objet obtenu suivant le procédé spécifié ci- dessus.