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製造遠紫外線輻射或軟性x射線之方法及裝置
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熱物理蒸着源
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真空中で材料を蒸発する方法および装置
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Procede et appareillage pour le revetement d'un substrat avec une matiere transformee electriquement en phase gazeuse
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1993-12-03
Procédé pour produire et pour amorcer une décharge basse tension, installation de traitement sous vide et chambre à cathode pour celle-ci, et utilisations du procédé.
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Procédé de traitement de métaux par dépôt de matière, et four pour la mise en oeuvre dudit procédé
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特にeuv放射のためのガス放電光源
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Procede d'evaporation et de fonte du silicium et dispositif pour sa mise en oeuvre
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Dispositif pour l'emission d'electrons muni d'un corps emetteur d'electrons comportant une couche en un materiau reducteur du potentiel de sortie et procede permettant d'appliquer une telle couche en un materiau reducteur du potentiel de sortie
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