BE454272A - - Google Patents

Info

Publication number
BE454272A
BE454272A BE454272DA BE454272A BE 454272 A BE454272 A BE 454272A BE 454272D A BE454272D A BE 454272DA BE 454272 A BE454272 A BE 454272A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
insulating layer
wafers
capacitor
layer
covered
Prior art date
Application number
Other languages
French (fr)
Publication of BE454272A publication Critical patent/BE454272A/fr

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/38Multiple capacitors, i.e. structural combinations of fixed capacitors

Description

       

   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Condensateur à galettes empilées. 



   L'invention concerne un condensateur à galettes empilées. 



   Les condensateurs bobinés, de grande capacité ou prévus pour des tensions très élevées, sont généralement constitués par un certain nombre de galettes empilées. De ce fait, il est possi- ble qu'entre les armatures de deux galettes consécutives existe une grande différence de tension. Il en est ainsi par exemple lorsque les galettes empilées sont montées en série. Ce montage en série est fréquemment utilisé dans les condensateurs prévus pour la haute fréquence, pour les applications radiologiques et pour les générateurs de tension de choc. Pour éviter le perce- ment entre deux galettes consécutives, ces galettes sont isolées par une couche isolante.

   De même, pour empêcher le percement entre les parties métalliques qui dépassent les enroulements et qui sont connectées aux armatures, comme les connexions sortant de l'enroulement, on donne à ces couches des dimensions plus grandes que celles des bobines, de sorte qu'elles dépassent les galettes. Il est connu que, dans cette construction, le milieu qui baigne ces parties en saillie est le siège d'un champ très intense à proximité des parties métalliques qui dépassent les galettes, ce qui entraîne des phénomènes de dispersion. Ce champ très intense résulte de la différence entre la constante diélec- trique du milieu spécifié et celle de la couche isolante. Les   phénomènes de dispersion provoquent un accroissement des pertes. 



  Afin de limiter au.minimum l'intensité du champ, on a déja pro-   posé d'appliquer outre la couche isolante dépassant l'enroule- ment, d'autres couches qui ne dépassent pas l'enroulement, de façon à augmenter la trajectoire dans l'air entre les parties métalliques qui font saillie de galettes successives. Ceci en- traine cependant une perte de place et de matière, particuliè- rement marquée lorsque l'épaisseur d'une galette ne dépasse guère celle des couches isolantes. 



   L'invention concerne un nouveau mode de construction   d'un condensateur du type décrit ; permet d'obvier aux in-   convénients mentionnés et, en outre, offre d'autres avantages. 



   Suivant l'invention les deux faces de la couche isolante placée entre deux galettes consécutives, dont les armatures en regard se trouvent à des potentiels différents, sont recouvertes d'une couche conductrice qui s'étend au-delà de la partie de la couche isolante qui dépasse les galettes. Cette construction assure dans la couche isolante un champ homogène. De plus, la partie de la couche isolante qui dépasse les galettes est ainsi portée approximativement à une tension égale à celle qui règne entre deux galettes consécutives. Le milieu qui entoure la par- tie dela couche isolante qui dépasse les galettes, n'est donc 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 pas exposé à un champ très intense. On élimine donc les phénomènes de dispersion. 



   Dans une forme d'exécution avantageuse de l'invention, or. obtient une économie appréciable de place et de matière, par le fait que l'epaisseur de la couche isolante comprise entre deux galettes est inférieure à la moitié de la distance admissible dans le milieu entourant les galettes. Si, dans une telle construction, la couche isolante n'était pas recouverte d'une couche conductrice, il se produirait de   la,   dispersion dans les parties   métalliques   dépassant les bobines. 



   Le couche isolante peut être en une matière appropriée. 



  Il est cependant avantageux que la couche isolante soit constituée ce plusieurs couches partielles. Ceci permet d'utiliser, pour les divers types de condensateurs, les mêmes couches partielles. L'épaisseur requise de la couche isolante est alors obtenue par   l'empilement   du nombre requis de couches pa.rtielles. La couche isolante ainsi obtenue est recouverte, sur ses deux faces, d'une couche conductrice. Celle-ci peut consister par exemple en clinquant. Dans une forme d'exécution avantageuse du condensateur décrit, la métallisation de la couche isolante est superflue, du fait que chaque couche partielle est recouverte, sur ses deux faces, d'une couche métallique. Ceci assure un champ plus homogène encore. 



   Une autre forme d'exécution avantageuse de l'invention assure une économie plus grande encore de matière et de place: les couches conductrices sont formées par une armature métallique   appliquée   sur la couche isolante. Cette application peut être effectuée suivant un procédé connu, par exemple par vaporisation, par projection ou bien par voie chimique ou   galvanique.   



   La Demanderesse a constaté qu'il est possible d'obtenir une construction particulièrement avantageuse et bon marché d'un condensateur conforme à l'invention en utilisant une couche isolante   formée   par des   plaquas   de mica métallisées sur les deux faces. 



   La description du dessin annexé, donné é titre d'exemple non   limitatif,   fera bien comprendre comment l'invention peut être   réalisée,   les particularités qui ressortent tant du texte que du dessin   faisant,   bien entendu, partie de la dite invention. 



   Le figure unique représente en coupe un condensateur confore à l'invention. Le condensateur représenté est constitué par les galettes 1, 2, 3 et 4, montées en série. Comme le montre la figure, des différences de tension existent entre les   armatu-   res en regard 5, 6 et 7,8 de galettes consécutives. Les galettes 1 et 2 sont isolées l'une de l'autre par la couche isolante 9, dont la partie 10 dépasse les galettes. Si l'on choisit l'épais-   seur   de cette couche si faible qu'elle ne soit prévue que pour résister à la différence de tension entre les armatures 5 et 6, il se produit de part et   -l'autre   de la partie 10, à proximité des parties   d'armature   11 et 12 qui dépassent les galettes, un champ de forte intensité.

   Ceci s'explique par la différence entre la constante diélectrique du milieu qui entoure le condensateur etcelle   de   la couche isolante 9. En général, c'est la couche isolante qui   @   la plus grande constante diélectrique.A proximité de la partie en saillie 10, la répartition du champ sera telle, que la matière isolante ne sera soumise qu'à une faible partie de 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 la différence de tension existant entre les parties métalliques 11 et 12. Le reste provoquera une surcharge du milieu spécifié aux endroits 13 et 14, de sorte qu'en ces endroits se produisent des décharges par effluve et des phénomènes de dispersion. Suivant l'invention, les galettes 3 et 4 sont isolées l'une de l'autre par une couche isolante 15, dont les deux faces sont recouvertes de couches conductrices 16 et 17.

   Les couches conductrices s'étendent au-delà de la partie de la couche isolante qui dépasse les enroulements. La couche isolante 15 a une épaisseur qui lui permet de résister à la différence de tension entre les armatures 7 et 8. En général, ces armatures seront isolées des couches conductrices 16 et 17. Les couches conductrices 16 et 17 ont une certaine capacité mutuelle. Cependant, l'armature 16 a, par rapport à l'armature 7, tout   comme   l'armature 17 par rapport à l'armature 8, une capacité plus grande.

   La répartition de la tension est telle que la différence de tension entre les armatures 7 et 8 est presqu'entièrement appliquée entre les armatures 16 et   17,   donc sur la couche isolante 15, tandis que la différence de tension entre l'armature 7 et la couche conductrice   16   d'une part, et l'armature 8 et la couche conductrice 17 d'autre part est très faible. De ce fait, la différence de potentiel entre les parties métalliques 18, respectivement 19, qui font saillie de la galette 3, respectivement 4, et les couches conductrices 16, respectivement 17, est très faible. Le milieu compris dans les espaces 20 et 21 n'est donc pas soumis à un champ très intense, de sorte que les phénomènes de dispersion ne suscitent plus de difficultés. 



  Eventuellement, les armatures 16 et 17 peuvent être connectées respectivement aux armatures 7 et 8. Il n'est pas nécessaire que les armatures 16 et 17 recouvrent entièrement la plaque 15; la suppression d'une partie importante des armatures 16 et 17 sur la partie de la plaque 15, placée entre les galettes, ne provoque aucun ennui. Les armatures appliquées sur la plaque isolante doivent rester écartées du bord d'une longueur telle que le chemin de fuite soit suffisamment long. Les couches isolantes 15 et 22, montrées sur la figure, consistent en huit plaquettes de mica, de 50  d'épaisseur. Ceci implique une économie considérable par rapport aux constructions connues- 
L'application de l'invention assure une construction économique et peu encombrante des condensateurs bobinés, à galettes empilées.



   <Desc / Clms Page number 1>
 



  Stacked wafer capacitor.



   The invention relates to a stacked pancake capacitor.



   Coiled capacitors, of large capacity or intended for very high voltages, are generally made up of a certain number of stacked wafers. As a result, it is possible that between the reinforcements of two consecutive wafers there is a large difference in tension. This is the case for example when the stacked cakes are mounted in series. This series connection is frequently used in capacitors intended for high frequency, for radiological applications and for surge voltage generators. To prevent piercing between two consecutive wafers, these wafers are insulated by an insulating layer.

   Likewise, to prevent the perforation between the metal parts which protrude from the windings and which are connected to the armatures, such as the connections exiting the winding, these layers are given dimensions larger than those of the coils, so that they protrude from the pancakes. It is known that, in this construction, the medium which bathes these protruding parts is the site of a very intense field near the metal parts which protrude from the wafers, which causes dispersion phenomena. This very intense field results from the difference between the dielectric constant of the specified medium and that of the insulating layer. The phenomena of dispersion cause an increase in losses.



  In order to limit the intensity of the field to a minimum, it has already been proposed to apply, in addition to the insulating layer extending beyond the winding, other layers which do not extend beyond the winding, so as to increase the trajectory. in the air between the metal parts which protrude from successive cakes. However, this leads to a loss of space and material, which is particularly marked when the thickness of a wafer hardly exceeds that of the insulating layers.



   The invention relates to a new method of constructing a capacitor of the type described; obviates the drawbacks mentioned and, in addition, offers other advantages.



   According to the invention, the two faces of the insulating layer placed between two consecutive wafers, the facing reinforcements of which are at different potentials, are covered with a conductive layer which extends beyond the part of the insulating layer which exceeds the pancakes. This construction ensures a homogeneous field in the insulating layer. In addition, the part of the insulating layer which protrudes from the wafers is thus brought to approximately a voltage equal to that which prevails between two consecutive wafers. The medium which surrounds the part of the insulating layer which exceeds the wafers, is therefore

 <Desc / Clms Page number 2>

 not exposed to a very intense field. The phenomena of dispersion are therefore eliminated.



   In an advantageous embodiment of the invention, gold. obtains an appreciable saving of space and material, by the fact that the thickness of the insulating layer between two wafers is less than half of the admissible distance in the medium surrounding the wafers. If, in such a construction, the insulating layer was not covered with a conductive layer, dispersion would occur in the metal parts protruding from the coils.



   The insulating layer can be of a suitable material.



  However, it is advantageous for the insulating layer to consist of several partial layers. This makes it possible to use the same partial layers for the various types of capacitors. The required thickness of the insulating layer is then obtained by stacking the required number of partial layers. The insulating layer thus obtained is covered on both sides with a conductive layer. This can consist, for example, of foil. In an advantageous embodiment of the capacitor described, the metallization of the insulating layer is superfluous, because each partial layer is covered, on its two faces, with a metal layer. This ensures an even more homogeneous field.



   Another advantageous embodiment of the invention ensures even greater savings in material and space: the conductive layers are formed by a metal frame applied to the insulating layer. This application can be carried out according to a known process, for example by vaporization, by spraying or else by chemical or galvanic route.



   The Applicant has observed that it is possible to obtain a particularly advantageous and inexpensive construction of a capacitor in accordance with the invention by using an insulating layer formed by mica plates metallized on both sides.



   The description of the appended drawing, given by way of non-limiting example, will make it clear how the invention can be carried out, the features which emerge both from the text and from the drawing, of course, forming part of said invention.



   The single figure represents in section a capacitor conforming to the invention. The capacitor shown is formed by the wafers 1, 2, 3 and 4, mounted in series. As shown in the figure, differences in tension exist between the facing reinforcements 5, 6 and 7.8 of consecutive wafers. The wafers 1 and 2 are isolated from each other by the insulating layer 9, the part 10 of which protrudes from the wafers. If we choose the thickness of this layer so thin that it is only intended to resist the difference in tension between the reinforcements 5 and 6, it occurs on either side of part 10 , near the frame parts 11 and 12 which protrude from the wafers, a high intensity field.

   This is explained by the difference between the dielectric constant of the medium which surrounds the capacitor and that of the insulating layer 9. In general, it is the insulating layer which @ the greatest dielectric constant. Close to the protruding part 10, the distribution of the field will be such that the insulating material will only be subjected to a small part of

 <Desc / Clms Page number 3>

 the voltage difference existing between the metal parts 11 and 12. The remainder will cause an overload of the medium specified at places 13 and 14, so that in these places corona discharges and dispersion phenomena occur. According to the invention, the wafers 3 and 4 are insulated from each other by an insulating layer 15, the two faces of which are covered with conductive layers 16 and 17.

   The conductive layers extend beyond the portion of the insulating layer that protrudes from the windings. The insulating layer 15 has a thickness which allows it to withstand the voltage difference between the plates 7 and 8. In general, these plates will be isolated from the conductive layers 16 and 17. The conductive layers 16 and 17 have a certain mutual capacity. However, the frame 16 has, relative to the frame 7, just like the frame 17 with respect to the frame 8, a greater capacity.

   The distribution of the voltage is such that the voltage difference between the reinforcements 7 and 8 is almost entirely applied between the reinforcements 16 and 17, therefore on the insulating layer 15, while the voltage difference between the reinforcement 7 and the conductive layer 16 on the one hand, and the armature 8 and the conductive layer 17 on the other hand is very weak. As a result, the potential difference between the metal parts 18, respectively 19, which protrude from the wafer 3, respectively 4, and the conductive layers 16, respectively 17, is very low. The medium included in spaces 20 and 21 is therefore not subjected to a very intense field, so that the phenomena of dispersion no longer give rise to difficulties.



  Optionally, the frames 16 and 17 can be connected respectively to the frames 7 and 8. It is not necessary that the frames 16 and 17 completely cover the plate 15; the removal of a significant part of the reinforcements 16 and 17 on the part of the plate 15, placed between the wafers, does not cause any trouble. The reinforcements applied to the insulating plate must remain away from the edge of a length such that the escape path is sufficiently long. The insulating layers 15 and 22, shown in the figure, consist of eight mica wafers, 50 thick. This implies a considerable saving compared to known constructions.
The application of the invention ensures an economical and compact construction of the wound capacitors, with stacked wafers.


    

Claims (1)

RESUME ----------- 1.- Condensateur à galettes empilées, dont les armatures en regard sont portées à des potentiels différents, ces galettes étant isolées l'une de l'autre par une couche isolante dépassant les galettes, caractérisé par le fait que chaque face de la couche isolante est recouverte d'une couche conductrice qui s'étend au-delà de la partie de la couche isolante qui dépasse les galettes, ce condensateur pouvant présenter, en outre, les particularités suivantes, prises séparément ou suivant les diverses combinaisons possibles: a) l'épaisseur de la couche isolante comprise entre deux galettes est inférieure à la moitié de la distance admissible entre ces deux galettes dans le milieu entourant le condensateur; b) la couche isolante consiste en au moins deux couches partielles; ABSTRACT ----------- 1.- Capacitor with stacked wafers, the facing reinforcements of which are brought to different potentials, these wafers being isolated from one another by an insulating layer extending beyond the wafers, characterized in that each face of the insulating layer is covered with a conductive layer which extends beyond the part of the insulating layer which exceeds the wafers, this capacitor being able to present, in addition, the following particularities, taken separately or according to the various possible combinations: a) l the thickness of the insulating layer between two wafers is less than half of the allowable distance between these two wafers in the medium surrounding the capacitor; b) the insulating layer consists of at least two partial layers; c) chaque couche partielle est recouverte, sur ces deux faces, d'une couche métallique; @ <Desc/Clms Page number 4> d) au moins une couche métallique consiste en une matièse métallique appliquée sur la couche isolante; e) 1.'-'. couche isolante est constituée par des plaques de mica métallisées sur les deux faces. c) each partial layer is covered on these two faces with a metallic layer; @ <Desc / Clms Page number 4> d) at least one metallic layer consists of a metallic material applied to the insulating layer; e) 1 .'- '. insulating layer consists of mica plates metallized on both sides.
BE454272D BE454272A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE454272A true BE454272A (en)

Family

ID=108458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE454272D BE454272A (en)

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE454272A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0229733A2 (en) * 1986-01-17 1987-07-22 TDK Corporation Through-type twin capacitor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0229733A2 (en) * 1986-01-17 1987-07-22 TDK Corporation Through-type twin capacitor
EP0229733A3 (en) * 1986-01-17 1989-01-11 Tdk Corporation Through-type twin capacitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2473804A1 (en) STATOR FOR ALTERNATOR
FR2526225A1 (en) METHOD FOR PRODUCING AN INTEGRATED CAPACITOR AND DEVICE THUS OBTAINED
CA1100585A (en) Polyphase transformer of high mechanical resistance
EP0034102B1 (en) Integrated voltage multiplier
BE454272A (en)
CA2715064C (en) Multitrack supercapacitor
FR2550026A1 (en) Stator for high-voltage electrical machine.
FR2954573A1 (en) Planar power transformer for use in chopping converter, has connection stud arranged at periphery of stacking, where connection stud connects turns to cooling unit to evacuate heat generated by transformer
EP0136941B1 (en) Millimeter-wave switch
FR2680939A1 (en) DEVICE AND HIGH VOLTAGE POWER SUPPLY BLOCK FOR X-RAY TUBE
JP2001319826A (en) Metallized film capacitor
EP0225822A1 (en) Multiple-track capacitor
FR2464546A1 (en) CAPACITOR WITH MICRO-BAND CONNECTIONS
CH669277A5 (en) High tension electric cable with extruded insulating layers - consists of synthetic materials of different dielectric properties sandwiched between 2 semiconducting layers
FR2786951A1 (en) SANDWICH LAYERED WITH CONDUCTIVE RAILS
FR2872962A1 (en) METHODS AND ARRANGEMENTS FOR REDUCING PARTIAL DISCHARGES ON PRINTED CIRCUIT BOARDS
WO1994012992A1 (en) Anisotropic microwave composite
JP2003109837A (en) Laminated film capacitor, manufacturing method of the laminated film capacitor and laminated film capacitor manufacturing device
FR2734395A3 (en) METALLIC DIELECTRIC FILM, AND SELF-HEALING CAPACITOR MADE FROM SUCH A FILM
FR3127624A1 (en) MAGNETIC INDUCTION COMPONENT COMPRISING A METALLIC STRIPE CUT AND COATED WITH A DIELECTRIC RESIN AND METHOD OF MANUFACTURING IT
FR2823365A1 (en) Inductance electrical winding having continuous wire with first direction wire emanating central point/second wire opposite direction with both wires having same electrical sense
FR2565399A1 (en) HIGH PRIMARY-SECONDARY COUPLING TRANSFORMER
FR2644621A1 (en) Capacitor with optimised voltage-holding
BE540629A (en)
JPH09167716A (en) Metallized film capacitor and its manufacturing method