ATE536637T1 - Verfahren zur musterung eines detektorglases und ein halbleiter-detektor mit einem gemusterten glas - Google Patents

Verfahren zur musterung eines detektorglases und ein halbleiter-detektor mit einem gemusterten glas

Info

Publication number
ATE536637T1
ATE536637T1 AT08167085T AT08167085T ATE536637T1 AT E536637 T1 ATE536637 T1 AT E536637T1 AT 08167085 T AT08167085 T AT 08167085T AT 08167085 T AT08167085 T AT 08167085T AT E536637 T1 ATE536637 T1 AT E536637T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
glass
detector
patterning
patterned
semiconductor
Prior art date
Application number
AT08167085T
Other languages
English (en)
Inventor
Heikki Sipilae
Hans Andersson
Seppo Nenonen
Juha Kalliopuska
Original Assignee
Oxford Instr Analytical Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oxford Instr Analytical Oy filed Critical Oxford Instr Analytical Oy
Application granted granted Critical
Publication of ATE536637T1 publication Critical patent/ATE536637T1/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F30/00Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
    • H10F30/20Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
    • H10F30/21Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H10F30/22Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices having only one potential barrier, e.g. photodiodes
    • H10F30/221Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices having only one potential barrier, e.g. photodiodes the potential barrier being a PN homojunction
    • H10F30/2212Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices having only one potential barrier, e.g. photodiodes the potential barrier being a PN homojunction the devices comprising active layers made of only Group II-VI materials, e.g. HgCdTe infrared photodiodes

Landscapes

  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
AT08167085T 2008-10-21 2008-10-21 Verfahren zur musterung eines detektorglases und ein halbleiter-detektor mit einem gemusterten glas ATE536637T1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08167085A EP2180530B1 (de) 2008-10-21 2008-10-21 Verfahren zur Musterung eines Detektorglases und ein Halbleiter-Detektor mit einem gemusterten Glas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE536637T1 true ATE536637T1 (de) 2011-12-15

Family

ID=40459611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT08167085T ATE536637T1 (de) 2008-10-21 2008-10-21 Verfahren zur musterung eines detektorglases und ein halbleiter-detektor mit einem gemusterten glas

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP2180530B1 (de)
AT (1) ATE536637T1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108291975A (zh) * 2015-11-19 2018-07-17 皇家飞利浦有限公司 像素体积约束的方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6162658A (en) * 1996-10-14 2000-12-19 Unisearch Limited Metallization of buried contact solar cells
US7655999B2 (en) * 2006-09-15 2010-02-02 Udt Sensors, Inc. High density photodiodes
US7242069B2 (en) * 2003-05-05 2007-07-10 Udt Sensors, Inc. Thin wafer detectors with improved radiation damage and crosstalk characteristics
WO2005060011A1 (ja) * 2003-12-16 2005-06-30 National University Corporation Shizuoka University 広域エネルギーレンジ放射線検出器及び製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2180530A1 (de) 2010-04-28
EP2180530B1 (de) 2011-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE490037T1 (de) Verfahren zur herstellung einer mikronadel oder eines mikroimplantats
ATE552529T1 (de) Verfahren zur herstellung einer flüssigkristallanzeige
ATE545157T1 (de) Verfahren zur herstellung einer solarzelle sowie damit hergestellte solarzelle
ATE501863T1 (de) Verfahren zur herstellung beschichteter paneele und beschichtetes paneel
SI1989740T2 (sl) Postopek označevanja sončnih celic in sončna celica
DK1504113T3 (da) Fremgangsmåde til fremstilling af polymerlag
BR112017000799B8 (pt) Método para produzir um substrato revestido, substrato revestido e uso do substrato revestido produzido através do método
ATE547812T1 (de) Verfahren zur herstellung einer emitterstruktur und daraus resultierende emitterstrukturen
ATE543602T1 (de) Verfahren zur herstellung eines halbleiter-wafers
ATE523612T1 (de) Verfahren zur herstellung einer funktionsschicht
DE602006010808D1 (de) Lichtreaktives polymer und verfahren zu seiner herstellung
TW200722217A (en) Laser processing apparatus and method thereof and debris collecting apparatus and method thereof
EP2468928A3 (de) Zusammensetzung und Herstellungsverfahren
TWI256139B (en) Method and apparatus for fabricating flat panel display
GB201205552D0 (en) Method of fabrication of a micro-optics device with curved surface defects
ATE498666T1 (de) Abziehschicht mit druckempfänglicher oberfläche und verfahren zur herstellung und verwendung
WO2012054558A3 (en) Method for uniform, large area flood exposure with leds
ATE536637T1 (de) Verfahren zur musterung eines detektorglases und ein halbleiter-detektor mit einem gemusterten glas
EP3670081A4 (de) Verfahren zur herstellung eines scheibenförmigen glassubstrats, verfahren zur herstellung eines flachglassubstrats, lichtleiterplattenherstellungsverfahren und scheibenförmiges glassubstrat
EP2615152A4 (de) Organisches lichtemittierendes schichtmaterial, beschichtungsflüssigkeit zur herstellung einer organischen lichtemittierenden schicht mit dem organischen lichtemittierenden schichtmaterial, organisches lichtemittierendes element mit der beschichtungsflüssigkeit zur herstellung einer organischen lichtemittierenden schicht, lichtquellenvorrichtung mit dem organischen lichtemittierenden element und verfahren zur herstellung eines organischen lichtemittierenden elements
FR2979014B1 (fr) Procede de determination de l'apparition de decohesions dans une couche de revetement en ceramique transparente formee sur un substrat
DE112011105527A5 (de) Verfahren zur Herstellung einer polychromatisierenden Schicht und Substrat sowie Leuchtdiode mit polychromatisierender Schicht
JP2016111057A5 (de)
ATE487236T1 (de) Verfahren zur herstellung eines gehäuseabdichtenden fensterelementes
EP3678150A4 (de) Verfahren zur herstellung eines mit einer transparenten leitfähigen schicht versehenen substrats, mit einer transparenten leitfähigen schicht versehenes substrat und solarzelle