ATE303872T1 - Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien

Info

Publication number
ATE303872T1
ATE303872T1 AT98926126T AT98926126T ATE303872T1 AT E303872 T1 ATE303872 T1 AT E303872T1 AT 98926126 T AT98926126 T AT 98926126T AT 98926126 T AT98926126 T AT 98926126T AT E303872 T1 ATE303872 T1 AT E303872T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
substrate
bowl
underside
chemicals
injection
Prior art date
Application number
AT98926126T
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Mahneke
William T Batchelder
Original Assignee
Suss Microtec Lithography Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/866,834 external-priority patent/US5916631A/en
Priority claimed from US08/866,832 external-priority patent/US5908661A/en
Application filed by Suss Microtec Lithography Gmbh filed Critical Suss Microtec Lithography Gmbh
Application granted granted Critical
Publication of ATE303872T1 publication Critical patent/ATE303872T1/de

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
    • H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
    • H01L21/02282—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
    • B05D1/005—Spin coating
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)
AT98926126T 1997-05-30 1998-05-29 Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien ATE303872T1 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/866,834 US5916631A (en) 1997-05-30 1997-05-30 Method and apparatus for spin-coating chemicals
US08/866,832 US5908661A (en) 1997-05-30 1997-05-30 Apparatus and method for spin coating substrates
PCT/US1998/010958 WO1998053923A1 (en) 1997-05-30 1998-05-29 Method and apparatus for spin-coating chemicals

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE303872T1 true ATE303872T1 (de) 2005-09-15

Family

ID=27127975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT98926126T ATE303872T1 (de) 1997-05-30 1998-05-29 Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP1015136B1 (de)
JP (1) JP4108767B2 (de)
AT (1) ATE303872T1 (de)
AU (1) AU7803498A (de)
DE (1) DE69831496T2 (de)
TW (1) TW391893B (de)
WO (1) WO1998053923A1 (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6261635B1 (en) * 1999-08-27 2001-07-17 Micron Technology, Inc. Method for controlling air over a spinning microelectronic substrate
DE102005062527A1 (de) * 2005-12-16 2007-06-21 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Substraten
CN104614945A (zh) * 2015-02-03 2015-05-13 合肥工业大学 一种用于旋涂粘稠光刻胶的旋涂仪卡盘系统
WO2018006011A1 (en) * 2016-07-01 2018-01-04 Carbon, Inc. Method and system for spin-coating multi-layer thin films having liquid conservation features
US11171249B2 (en) 2017-07-25 2021-11-09 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Wafer-level methods for manufacturing uniform layers of material on optoelectronic modules
JP6606239B1 (ja) * 2018-08-22 2019-11-13 株式会社オリジン 塗布物質塗布済対象物の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5819350B2 (ja) * 1976-04-08 1983-04-18 富士写真フイルム株式会社 スピンコ−テイング方法
US4838289A (en) * 1982-08-03 1989-06-13 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for edge cleaning
US4518678A (en) * 1983-12-16 1985-05-21 Advanced Micro Devices, Inc. Selective removal of coating material on a coated substrate
JP2561371B2 (ja) * 1990-07-06 1996-12-04 大日本スクリーン製造株式会社 回転式塗布装置
US5439519A (en) * 1992-04-28 1995-08-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Solution applying apparatus
US5474807A (en) * 1992-09-30 1995-12-12 Hoya Corporation Method for applying or removing coatings at a confined peripheral region of a substrate
JPH06190326A (ja) * 1992-12-25 1994-07-12 Toshiba Corp 塗布装置
JP2726607B2 (ja) * 1993-03-31 1998-03-11 大日本スクリーン製造株式会社 回転式塗布装置
JP2906017B2 (ja) * 1993-11-18 1999-06-14 東京エレクトロン株式会社 塗布装置
JPH07256194A (ja) * 1994-03-18 1995-10-09 Toray Ind Inc カップ回転式スピンコータ
US5705223A (en) * 1994-07-26 1998-01-06 International Business Machine Corp. Method and apparatus for coating a semiconductor wafer

Also Published As

Publication number Publication date
DE69831496D1 (de) 2005-10-13
JP4108767B2 (ja) 2008-06-25
TW391893B (en) 2000-06-01
EP1015136A4 (de) 2003-12-03
DE69831496T2 (de) 2006-06-29
EP1015136A1 (de) 2000-07-05
JP2002502309A (ja) 2002-01-22
AU7803498A (en) 1998-12-30
WO1998053923A1 (en) 1998-12-03
EP1015136B1 (de) 2005-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE58901137D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum trocknen einer auf einem bewegten traegermaterial aufgebrachten fluessigkeitsschicht.
DE69733315D1 (de) Verfahren und gerät zur beschichtung von substraten zur pharmazeutischen verwendung
ATA903882A (de) Verfahren zum auftrag von partiellen oberflaechenbeschichtungen auf textile substrate und eine vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DE69122362T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Vernetzen von Polymerwerkstoffen und für diese Reaktion geeignete Photo-Initiatoren
DE69012373T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von Substraten nach Behandlung in einer Flüssigkeit.
ATE219291T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum trocknen von substraten
NL7608504A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verwijderen of afstropen van een laag fotoresistmateriaal van- af een substraatoppervlak van een verschillend materiaal.
DE69702272D1 (de) Verfahren zum Belichten der Randbereiche eines Halbleiterwafers, und Gerät zur Ausführung des Verfahrens
ATE303872T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum zentrifugalbeschichten von chemikalien
DE3777832D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum anbringen von feuchtigkeitsabsorbierendem material in einem substrat.
ATA173496A (de) Verfahren und vorrichtung zum trocknen von scheibenförmigen substraten der halbleitertechnik
DE69114877D1 (de) Verfahren zum Entfernen einer Flüssigkeit von der Oberfläche eines Substrats in einer Schleuder.
DE59711779D1 (de) Vorrichtung zum Oberflächenbehandeln von Bändern mit Flüssigkeiten
FR2523876B1 (fr) Appareil et procede pour appliquer un revetement sur un substrat avec durcissement sous vide et recuperation du solvant
DE69425221D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von flächigen Trägern unter Verwendung eines oszillierenden Futters
ATE314157T1 (de) Verfahren zum aufbringen eines hydrophoben films und gegenstand damit beschichtet
DK234787D0 (da) Lagelementer og fremgangsmaade til fremstilling heraf
DE69625556D1 (de) Verfahren zum Entfernen einer Farbschicht von einer Kunststoffoberfläche und Vorrichtung hierfür
DE69731934D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Ablieferung von Spin-On-Glass über einem Substrat
DE69735702D1 (de) Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von organischen Pigmenten
DE68915472T2 (de) Apparat zum Nachweis von Fremdmaterial auf der Oberfläche eines Substrates.
ATE227611T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum behandeln von substraten
DE69918708D1 (de) Verfahren zum fixieren von bio-molekülen an eine probestelle
DE3784989D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum pruefen der oberflaeche von halbleiterwafern mittels laserabtastung.
ATA201997A (de) Verfahren und vorrichtung zum oberflächenbehandeln von bändern mit flüssigkeiten

Legal Events

Date Code Title Description
UEP Publication of translation of european patent specification

Ref document number: 1015136

Country of ref document: EP