AT252681B - Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers - Google Patents

Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers

Info

Publication number
AT252681B
AT252681B AT746564A AT746564A AT252681B AT 252681 B AT252681 B AT 252681B AT 746564 A AT746564 A AT 746564A AT 746564 A AT746564 A AT 746564A AT 252681 B AT252681 B AT 252681B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
tin
formalin
acid
bath
sep
Prior art date
Application number
AT746564A
Other languages
German (de)
Original Assignee
Max Schloetter Fa Dr Ing
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Max Schloetter Fa Dr Ing filed Critical Max Schloetter Fa Dr Ing
Application granted granted Critical
Publication of AT252681B publication Critical patent/AT252681B/en

Links

Description

  

   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Galvanische Bäder zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten 
Die Erfindung betrifft galvanische Bäder zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten auf der Kathode, welche Bäder im wesentlichen aus einer Lösung eines Zinnsalzes, freier Säure, einem nichtionogenen Netzmittel und weiteren Zusätzen bestehen, die im folgenden beschrieben werden. Es ist bekannt, zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten Elektrolyte zu verwenden, die durch Zusätze von Netzmitteln, Holzteer oder Holzteerfraktionen zu freie Säure enthaltenden Zinnsalzlösungen erhalten werden. Diese Bäder haben jedoch den Nachteil, dass man sie nur schwierig auf einem für technische Zwecke brauchbaren gleichmässigen Betriebszustand halten kann.

   Häufig lässt auch der mit derartigen Bädern erzielbare Glanzeffekt und die Glanzstreuwirkung der Bäder zu wünschen übrig. 



   Es ist bereits bekannt, zur Erzeugung von Zinnabscheidungen einen Phenolsulfonsäure enthaltenden Zinnsulfatelektrolyt unter Zusatz von Formalin bzw. weiteren aromatischen und/oder heterocyclischen Aldehyden zu verwenden. Der mit einem derartigen Bad erzielbare Glanzeffekt ist nur gering, entspricht jedoch nicht den heute an eine Glanzzinnschicht gestellten Erwartungen. Es ist auch bereits bekannt, Zinnüberzüge aus sauren Zinnbädern durch Zusatz basischer Stickstoffverbindungen wie Anilin und Toluidin neben einem Aldehyd zu den Elektrolyten zu erzeugen. Ein derartiges, speziell Amine zusammen mit Aldehyden enthaltendes Bad ist jedoch gleichfalls nicht in der Lage, hochglänzende Zinniederschläge zu erzeugen. 



   Es ist das Ziel der Erfindung, ein galvanisches Bad der eingangs beschriebenen Art zu schaffen, welches über längere Zeit in einem gleichmässig guten Betriebszustand gehalten werden kann und einen guten Glanzeffekt der abgeschiedenen Zinnschichten bei guter Glanzstreuung gewährleistet. 



   Ein störungsfrei arbeitendes galvanisches Bad dieser Art zeichnet sich erfindungsgemäss dadurch aus, dass der Badlösung ungesättigte Verbindungen der allgemeinen Formel   X-CH=CH-Y   in der X einen isocyclische oder heterocyclischen, gegebenenfalls substituierten Ring und Y eine der    Atomgruppen-H,-CHO,-COOH, -CH OH,-R,-OR oder-COR   bedeuten, und wobei R ein Alkyl-oder Alkylenrest mit gegebenenfalls weiteren funktionellen Gruppen ist, sowie Formalin und/oder ein Imidazolinderivat der folgenden allgemeinen Formel 
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 zugesetzt werden, in welcher R ein Alkylrest mit mindestens 5 C-Atomen, R2 Wasserstoff oder die Grup-   pe-CH. COOR   und R Wasserstoff oder ein einwertiges Metallatom ist. 



   Als ungesättigte Verbindungen der allgemeinen Formel 
X-CH=CH-Y haben sich ungesättigte Ketone besonders bewährt. Doch können auch andere Verbindungen der genannten allgemeinen Formel Verwendung finden. Von den Verbindungen, die gemäss der Erfindung wirksam sind, wird im folgenden eine Auswahl genannt. 
 EMI2.1 
 
<tb> 
<tb> 



  Styrol <SEP> C6H5CH=CH2
<tb> Zimtalkohol <SEP> C6H5CH=CH, <SEP> CH2OH
<tb> Zimtsäure <SEP> C6H5. <SEP> CH=CH.COOH
<tb> Zimtaldehyd <SEP> C6H5. <SEP> CH=CH.CHO
<tb> o-Methoxy-Zimtsäure <SEP> C6H4 <SEP> (OCH3).CH=CH.COOH
<tb> Furyladrylsäure <SEP> C4H3O. <SEP> CH=CH.COOH
<tb> Benzalaceton <SEP> C6H5. <SEP> CH=CH.CO.CH3
<tb> Curcumin <SEP> [C6H3(OH)(OCH3)-CH=CH.CO]2.CH2
<tb> Furfurylidenaceton <SEP> C4H3O. <SEP> CH=CH.CO.CH3
<tb> Benzalacetonsulfonsäure <SEP> C6H4 <SEP> (SO3H).CH=CH.CO.CH3
<tb> Dibenzalacetondisulfonsäure <SEP> [C6H4(SO3H).CH=CH]2:

  CO
<tb> Benzylidenheptenal-7 <SEP> C6H5.CH=CH. <SEP> (CH2)5.CHO
<tb> 4-Oxy-3-methoxy-benzalaceton <SEP> C6H3 <SEP> (OH)(OCH3).CH=CH.CO <SEP> CH3
<tb> Pyridylidenaceton <SEP> C5H4N. <SEP> CH=CH.CO.CH3
<tb> 
 
Diese Auswahl begrenzt keineswegs die Zahl der für die Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten brauchbaren Verbindungen, sondern dient als Beweis dafür, dass verschiedenartige Verbindungen der genannten allgemeinen Formel zur Herstellung eines gut arbeitenden Bades gemäss der Erfindung verwendet werden können. Als Zusatzstoffe zur Erzielung des Glanzeffektes werden zusammen mit den genannten ungesättigten Verbindungen nichtionogene Netzmittel und Formalin und an Stelle von Formalin auch Imidazolin, dessen Derivate verwendet.

   Besonders bei Zugabe eines Imidazolinderivats der folgenden allgemeinen Formel 
 EMI2.2 
 hat man ein ausgezeichnetes Glanzstreuvermögen erzielen können. In dieser allgemeinen Formel bedeu- 
 EMI2.3 
 mittels kann jedoch auch bei Verwendung der genannten Derivate nicht entfallen. Man hat jedoch gefunden, dass Imidazolin und besonders die beschriebenen Imidazolinderivate den Zusatz von Formalin teilweise oder völlig ersetzen können, wobei der Glanzstreubereich der Bäder noch verbessert wird. 



   Die Imidazolinderivate zeigen bereits bei sehr geringen Konzentrationen von nur 0, 01 g/l Anzeichen der beschriebenen Wirksamkeit und entfalten das Optimum der angestrebten Wirkung bei Konzentrationen zwischen etwa   0,   05-2 g/l. Bei höheren Konzentrationen wurde im Bereich der Löslichkeit keine verbessernde, aber auch keine schädigende Wirkung beobachtet. 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 



   Der Zinngehalt und Gehalt an freier Säure der Elektrolyte kann in weiten Grenzen variiert werden, wobei im Einzelfall die günstigsten Konzentrationen der einzelnen Badbestandteile aufeinander abzustimmen sind. Elektrolyte mit 10 - 100 g/l Zinn und 20 - 200 g/l freier Säure, berechnet als Schwefelsäure, können in Anwesenheit von nichtionogenen Netzmitteln mit den beanspruchten Verbindungen der allgemeinen Formel 
X-CH=CH-Y und den genannten Zusatzstoffen bei geeigneter Temperatur und Stromdichte kathodisch blanke bis glänzende Zinniederschläge liefern. 



   Als Netzmittel vom nichtionogenen Typ haben sich für das erfindungsgemässe Bad solche mit 10 bis 30   C H 0-Gruppen   im Molekül als besonders geeignet erwiesen. Netzmittel dieser Art sind meistens Äther aus einem mindestens 5C-Atome enthaltenden Alkyl-, Aryl- oderAralcyl-Rest mit einer Polyoxyäthylenkette, die die genannte Anzahl von C2H4O-Gruppen enthält. 



   In den meisten Fällen wirkt sich ein Zusatz von Brenzkatechin   (O-Dioxybenzol),   das bereits als Antioxydans für Zinnbäder bekannt ist, günstig auf die Glanzbildung und die Haltbarkeit von Glanzzinnbädern der hier beschriebenen Art aus. 



   Die Grundelektrolyte der verwendeten Bäder können auf der für die Herstellung von Zinnbädern bekannten Basis Schwefelsäure, Fluoborsäure oder Kresol- bzw. Phenolsulfosäure aufgebaut werden. Es lassen sich aber auch Elektrolyte verwenden, die mehrere der genannten Anionen gemeinsam enthalten. Im folgenden werden einige Ausführungsbeispiele für Zusammensetzungen des galvanischen Bades gemäss der Erfindung genannt, ohne dass dadurch eine Einschränkung des Schutzbereiches der Erfindung erfolgt. Die Beispiele   1-11   zeigen Beispiele für praktische Badzusammensetzungen unter Verwendung der ungesättigten Verbindungen der Formel 
X-CH=CH-Y zusammen mit Formalin. 



   Beispiel 1 : 
60 g/l Zinnsulfat
100 g/l Schwefelsäure
1 g/l Formalin
1 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 30   C H 0-Gruppen   im Molekül
1 g/l Styrol 
Das Bad war zunächst trüb, klärte sich aber im Verlauf von etwa einem Tag auf. 
 EMI3.1 
 Beispiel 2 : 
60 g/l Zinnsulfat
100 g/l Schwefelsäure   1, 5 g/l   Formalin
2 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 25   C H 0-Gruppen   im Molekül
1 g/l Zimtalkohol Arbeitsbedingungen wie in Beispiel 1. 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 



  Beispiel 3 : 
80 g/l Zinnsulfat
80 g/l Schwefelsäure
0,8 g/l Formalin
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit   zirka 11 C2Hp-Gruppen im Molekül 0,35 g/l Furfurylidenaceton  
Arbeitstemperatur :15.....30 C 
 EMI4.1 
 Beispiel 4 : 
80 g/l Zinnsulfat
120 g/l Schwefelsäure
1,6   g/l   Formalin
5 g/l nichtionogenes Netzmittel mit   zirka 11 C2H4O-Gruppen im Molekül 0,65 g/l o-Methoxy-zimtsäure   
 EMI4.2 
 Beispiel 5 : 
60 g/l Zinnsulfat
80 g/l Schwefelsäure
0,8   g/l   Formalin
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit   zirka 15 C2H40-Gruppen im Molekül 1,3 g/l Furylacrylsäure   
 EMI4.3 
 Beispiel 6 :

   
70 g/l Zinnsulfat
160 g/l Schwefelsäure
5 g/l Formalin
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 11    C2Hp-Gruppen   im Molekül
0,35   g/l   Benzalaceton Arbeitsbedingungen wie bei Beispiel 5. 



  Beispiel 7 : 
60 g/l Zinnsulfat
120 g/l Schwefelsäure
0,8 g/l Formalin
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
15    C2H40-Gruppen   im Molekül
0,32   g/l   Benzylidenheptenal-7 Arbeitsbedingungen wie bei Beispiel 4. 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 



  Beispiel 8 : 
80 g/l Zinnsulfat
100 g/l Schwefelsäure
1 g/l Formalin
4 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
15 C2H4O-Gruppen im Molekül   0, 4 g/l   Pyridylidenaceton 
 EMI5.1 
 Beispiel 9 : 
45 g/l Zinn als Fluoborat
90 g/l Fluoborsäure
2 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
11   CO-Gruppen   im Molekül
1 g/l Formalin
0,5 g/l Zimtaldehyd   Arbeitstemperatur : 20..... 350C      Stromdichte : l.....   4 A/dm2 
 EMI5.2 
 aldehyd   0, 2 g/l   Benzalaceton zugesetzt. 



   Arbeitsbedingungen wie in Beispiel 9. 



   Beispiel 11 : 
60 g/l Zinnsulfat
260 g/l Kresolsulfosäure
2 g/l Formalin
2 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
11 C2H4O-Gruppen im Molekül
0, 4 g/l Benzalaceton. 



   Arbeitstemperatur :20.....30 C
Stromdichte : 1..... 4 A/dm2 
Die Beispiele 12 und 13 zeigen die Zusammensetzung von zwei Bädern, in denen neben Formalin und der ungesättigten Verbindung noch Brenzkatechin zugesetzt wurde. Dabei lassen sich stärker glänzende Niederschläge als mit den Bädern der Beispiele 1-11 erzielen. 



   Beispiel 12 : 
40 g/l Zinn als Fluoborat
80 g/l Fluoborsäure
2 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
11 C2H4O-Gruppen im Molekül   0, 3 g/l   Pyridylidenaceton
1 g/l Formalin   1, 5 g/l   Brenzkatechin   Badtemperatur : 15..... 300C   
Stromdichte :1.....3,5A/dm2 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 
Beispiel 13 : 
35 g/l Zinn als Zinnsulfat
150 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 15   CHi-Gruppen   pro Molekül   0, 3 g/l   Benzalaceton
0,8   g/l   Brenzkatechin
1 g/l Formalin   Badtemperatur : 20..... 350C   
Stromdichte :

   1..... 4 A/dm2 
Die drei folgenden Beispiele   14 - 16   entsprechen in ihrer Zusammensetzung etwa den Beispielen 12 und 13 mit der Ausnahme, dass neben Formalin als zweiter Zusatzstoff an Stelle von Brenzkatechin Imidazolinderivate verwendet werden. 



   Beispiel 14 : 
30 g/l Zinn als Sulfat
100 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit   10...   15 C2H4O-Gruppen im Molekül
1,5   g/l   Formalin
0,25   g/l   Benzalaceton 
 EMI6.1 
 Beispiel 15 : 
30 g/l Zinn als Sulfat
250 g/l Phenolsulfosäure
1 g/l Formalin   0, 48 g/l   Benzalaceton
5 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 15 C HO-Gruppen im Molekül 
 EMI6.2 
   C, HBadtemperatur : 20..... 35 C    Stromdichte : 1.....   3, 5 A/dmz   

 <Desc/Clms Page number 7> 

 Beispiel 16 :

   
40 g/l Zinn als Sulfat
130 g/l freie Schwefelsäure   0, 8 g/l Formalin      0, 4 g/l   Furfurylidenaceton 
 EMI7.1 
 
6 g/lRs = Na
7 g/l eines nichtionogenen Netzmittels mit zirka 30 C2H4O-Gruppen im Molekül Badtemperatur :18.....30 C 
 EMI7.2 
 terung der Stromdichtebereiche, in denen glänzendes Zinn abgeschieden werden kann. In Beispiel 17 ist an Stelle von Formalin Brenzkatechin als weiterer Zusatzstoff neben dem Imidazolinderivat verwendet. 



   Beispiel 17 : 
35 g/l Zinn als Sulfat
150 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 15 C2H4O-Gruppen im Molekül   0, 8 g/l   Brenzkatechin   1, 0 g/l   eines Imidazolinabkömmlings mit den 
 EMI7.3 
    CH0, 3 g/l   Benzalaceton   Badtemperatur : 20..... 350C      Stromdichte : l.....   4   A/dm   In Beispiel 18 ist als Zusatzstoff lediglich ein Imidazolinderivat im Bad enthalten. 



  Beispiel 18 : 
35 g/l Zinn als Sulfat
100 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 25 C2H4O-Gruppen im Molekül
1... 2   g/l   Furylacrylsäure 
 EMI7.4 
 
0 g/lRs = H 
Badtemperatur :20.....30 C   Stromdichte : l.....   4 A/dm2 
Die Beispiele 17 und 18 zeigen, dass bei Verwendung einer ausreichenden Menge des Imidazolinderivats der Formalingehalt völlig wegfallen kann. 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 



   In den folgenden Beispielen 19 - 21 wird gezeigt, dass ein ursprünglicher Formalingehalt von   1, 5 g/l   (Beispiel 19) durch sukzessive Zugabe an Imidazolinderivat über einen Formalingehalt von   0, 8 g/l   (Beispiel 20) bis auf einen Formalingehalt von 0   g/l   (Beispiel 21) reduziert werden kann. 



   Beispiel 19 : 
30 g/l Zinn als Zinnsulfat
110 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit
15 C2H4O-Gruppen im Molekül
0,26g/lBenzalaceton   1, 5 g/l   Formalin   Badtemperatur : 20..... 300C   
Stromidichte :0,5...4A/dm2 
Beispiel   20   : 
30 g/l Zinn als Zinnsulfat
110 g/l freie Schwefelsäure
6 g/l nichtionogenes Netzmittel mit zirka 15 C2H4O-Molekülen
0,26g/lBenzalaceton   0, 8 g/l   Formalin 
 EMI8.1 
 



   5 g/lRs = H   Badtemperatur : 20..... 300C    
 EMI8.2 
 doch wurden   1, 0 g/l   des genannten Imidazolinderivats zugesetzt und das Formalin weggelassen. Eine Untersuchung der mit den Bädern der Beispiele 19 - 21 abgeschiedenen Zinnüberzüge zeigte, dass der Glanzstreubereich des Bades in dem Mass deutlich zunimmt, in dem Formalin durch Imidazolinderivate ersetzt wurde. 



    PATENT ANSPRÜCHE :    
1. Galvanisches Bad zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten auf der Kathode, welches im wesentlichen aus einer Zinnsalz, freie Säure und ein nichtionogenes Netzmittel 
 EMI8.3 
 Verbindungen der allgemeinen Formel 
X-CH=CH-Y in der X einen isocyclischen oder heterocyclischen, gegebenenfalls substituierten Ring und Y eine der Atomgruppen -H, -CHO, -COOH, -CH2OH, -R oder -COR bedeuten und wobei Rein Alkyl- oder Alkylenrest mit gegebenenfalls weiteren funktionellen Gruppen ist, sowie Formalin enthält.



   <Desc / Clms Page number 1>
 



  Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers
The invention relates to galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers on the cathode, which baths consist essentially of a solution of a tin salt, free acid, a nonionic wetting agent and other additives which are described below. It is known to use electrolytes for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers, which are obtained by adding wetting agents, wood tar or wood tar fractions to tin salt solutions containing free acid. However, these baths have the disadvantage that it is difficult to keep them in a steady operating state that is useful for technical purposes.

   The gloss effect and the gloss diffusion effect of the baths that can be achieved with baths of this type often leave something to be desired.



   It is already known to use a tin sulfate electrolyte containing phenolsulfonic acid with the addition of formalin or other aromatic and / or heterocyclic aldehydes to produce tin deposits. The gloss effect that can be achieved with such a bath is only slight, but does not meet the expectations placed on a glossy tin layer today. It is also already known to produce tin coatings from acidic tin baths by adding basic nitrogen compounds such as aniline and toluidine in addition to an aldehyde to the electrolytes. Such a bath, especially containing amines together with aldehydes, is, however, likewise not able to generate high-gloss tin deposits.



   The aim of the invention is to create an electroplating bath of the type described at the outset which can be kept in a uniformly good operating condition over a long period of time and ensures a good gloss effect of the deposited tin layers with good gloss distribution.



   A trouble-free electroplating bath of this type is characterized according to the invention in that the bath solution contains unsaturated compounds of the general formula X-CH = CH-Y in which X is an isocyclic or heterocyclic, optionally substituted ring and Y is one of the atomic groups -H, -CHO, -COOH, -CH OH, -R, -OR or-COR, and where R is an alkyl or alkylene radical with optionally further functional groups, as well as formalin and / or an imidazoline derivative of the following general formula
 EMI1.1
 

 <Desc / Clms Page number 2>

 be added, in which R is an alkyl radical with at least 5 carbon atoms, R2 is hydrogen or the group-CH. COOR and R is hydrogen or a monovalent metal atom.



   As unsaturated compounds of the general formula
X-CH = CH-Y unsaturated ketones have proven particularly useful. However, other compounds of the general formula mentioned can also be used. A selection is given below from the compounds which are active according to the invention.
 EMI2.1
 
<tb>
<tb>



  Styrene <SEP> C6H5CH = CH2
<tb> Cinnamon alcohol <SEP> C6H5CH = CH, <SEP> CH2OH
<tb> cinnamic acid <SEP> C6H5. <SEP> CH = CH.COOH
<tb> cinnamaldehyde <SEP> C6H5. <SEP> CH = CH.CHO
<tb> o-methoxy-cinnamic acid <SEP> C6H4 <SEP> (OCH3) .CH = CH.COOH
<tb> Furyladrylic acid <SEP> C4H3O. <SEP> CH = CH.COOH
<tb> Benzalacetone <SEP> C6H5. <SEP> CH = CH.CO.CH3
<tb> Curcumin <SEP> [C6H3 (OH) (OCH3) -CH = CH.CO] 2.CH2
<tb> furfurylidene acetone <SEP> C4H3O. <SEP> CH = CH.CO.CH3
<tb> Benzalacetonsulfonic acid <SEP> C6H4 <SEP> (SO3H) .CH = CH.CO.CH3
<tb> Dibenzalacetone disulfonic acid <SEP> [C6H4 (SO3H) .CH = CH] 2:

  CO
<tb> Benzylidenheptenal-7 <SEP> C6H5.CH = CH. <SEP> (CH2) 5th CHO
<tb> 4-Oxy-3-methoxy-benzalacetone <SEP> C6H3 <SEP> (OH) (OCH3) .CH = CH.CO <SEP> CH3
<tb> pyridylidene acetone <SEP> C5H4N. <SEP> CH = CH.CO.CH3
<tb>
 
This selection in no way limits the number of compounds which can be used for the deposition of bright to shiny tin layers, but rather serves as evidence that various compounds of the general formula mentioned can be used to produce a well-functioning bath according to the invention. Nonionic wetting agents and formalin and, instead of formalin, imidazoline, its derivatives are used as additives to achieve the gloss effect, together with the unsaturated compounds mentioned.

   Especially when an imidazoline derivative represented by the following general formula is added
 EMI2.2
 one has been able to achieve an excellent gloss spreading power. In this general formula,
 EMI2.3
 however, means cannot be omitted even if the derivatives mentioned are used. However, it has been found that imidazoline and in particular the imidazoline derivatives described can partially or completely replace the addition of formalin, the range of gloss scattering of the baths being further improved.



   The imidazoline derivatives show signs of the described effectiveness even at very low concentrations of only 0.01 g / l and develop the optimum of the desired effect at concentrations between about 0.05-2 g / l. At higher concentrations, no improving, but also no damaging effect was observed in the solubility range.

 <Desc / Clms Page number 3>

 



   The tin content and free acid content of the electrolytes can be varied within wide limits, the most favorable concentrations of the individual bath components being coordinated with one another in each individual case. Electrolytes with 10-100 g / l tin and 20-200 g / l free acid, calculated as sulfuric acid, can in the presence of non-ionic wetting agents with the claimed compounds of the general formula
X-CH = CH-Y and the stated additives at a suitable temperature and current density deliver cathodically bright to shiny tin deposits.



   As wetting agents of the nonionic type, those with 10 to 30 C H 0 groups in the molecule have proven to be particularly suitable for the bath according to the invention. Wetting agents of this type are usually ethers composed of an alkyl, aryl or aralcyl radical containing at least 5C atoms with a polyoxyethylene chain containing the specified number of C2H4O groups.



   In most cases, adding pyrocatechol (O-dioxybenzene), which is already known as an antioxidant for tin baths, has a beneficial effect on the gloss formation and the durability of bright tin baths of the type described here.



   The base electrolytes of the baths used can be built up on the basis of sulfuric acid, fluoboric acid or cresol or phenol sulfonic acid, which is known for the production of tin baths. However, it is also possible to use electrolytes which contain several of the anions mentioned together. In the following, some exemplary embodiments for compositions of the electroplating bath according to the invention are mentioned, without thereby restricting the scope of the invention. Examples 1-11 show examples of practical bath compositions using the unsaturated compounds of the formula
X-CH = CH-Y together with formalin.



   Example 1 :
60 g / l tin sulfate
100 g / l sulfuric acid
1 g / l formalin
1 g / l non-ionic wetting agent with about 30 C H 0 groups in the molecule
1 g / l styrene
The bathroom was cloudy at first, but cleared up over the course of about a day.
 EMI3.1
 Example 2:
60 g / l tin sulfate
100 g / l sulfuric acid 1.5 g / l formalin
2 g / l non-ionic wetting agent with approx. 25 C H 0 groups in the molecule
1 g / l cinnamon alcohol Working conditions as in example 1.

 <Desc / Clms Page number 4>

 



  Example 3:
80 g / l tin sulfate
80 g / l sulfuric acid
0.8 g / l formalin
6 g / l non-ionic wetting agent with approximately 11 C2Hp groups in the molecule 0.35 g / l furfurylidene acetone
Working temperature: 15 ..... 30 C
 EMI4.1
 Example 4:
80 g / l tin sulfate
120 g / l sulfuric acid
1.6 g / l formalin
5 g / l non-ionic wetting agent with about 11 C2H4O groups in the molecule 0.65 g / l o-methoxycinnamic acid
 EMI4.2
 Example 5:
60 g / l tin sulfate
80 g / l sulfuric acid
0.8 g / l formalin
6 g / l non-ionic wetting agent with around 15 C2H40 groups in the molecule 1.3 g / l furylacrylic acid
 EMI4.3
 Example 6:

   
70 g / l tin sulfate
160 g / l sulfuric acid
5 g / l formalin
6 g / l non-ionic wetting agent with around 11 C2Hp groups in the molecule
0.35 g / l benzalacetone Working conditions as in Example 5.



  Example 7:
60 g / l tin sulfate
120 g / l sulfuric acid
0.8 g / l formalin
6 g / l non-ionic wetting agent with
15 C2H40 groups in the molecule
0.32 g / l Benzylidenheptenal-7 Working conditions as in Example 4.

 <Desc / Clms Page number 5>

 



  Example 8:
80 g / l tin sulfate
100 g / l sulfuric acid
1 g / l formalin
4 g / l non-ionic wetting agent with
15 C2H4O groups in the molecule 0.4 g / l pyridylidene acetone
 EMI5.1
 Example 9:
45 g / l tin as fluoborate
90 g / l fluoboric acid
2 g / l non-ionic wetting agent with
11 CO groups in the molecule
1 g / l formalin
0.5 g / l cinnamaldehyde Working temperature: 20 ..... 350C Current density: l ..... 4 A / dm2
 EMI5.2
 aldehyde 0.2 g / l benzalacetone added.



   Working conditions as in example 9.



   Example 11:
60 g / l tin sulfate
260 g / l cresol sulfonic acid
2 g / l formalin
2 g / l non-ionic wetting agent with
11 C2H4O groups in the molecule
0.4 g / l benzalacetone.



   Working temperature: 20 ..... 30 C
Current density: 1 ..... 4 A / dm2
Examples 12 and 13 show the composition of two baths in which, in addition to formalin and the unsaturated compound, pyrocatechol was also added. More shiny precipitates can be achieved here than with the baths of Examples 1-11.



   Example 12:
40 g / l tin as fluoborate
80 g / l fluoboric acid
2 g / l non-ionic wetting agent with
11 C2H4O groups in the molecule 0.3 g / l pyridylidene acetone
1 g / l formalin 1.5 g / l pyrocatechol Bath temperature: 15 ..... 300C
Current density: 1 ..... 3.5A / dm2

 <Desc / Clms Page number 6>

 
Example 13:
35 g / l tin as tin sulfate
150 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with about 15 CHi groups per molecule 0.3 g / l benzalacetone
0.8 g / l catechol
1 g / l formalin bath temperature: 20 ..... 350C
Current density:

   1 ..... 4 A / dm2
The three following Examples 14-16 correspond in their composition approximately to Examples 12 and 13 with the exception that, in addition to formalin, imidazoline derivatives are used as a second additive instead of catechol.



   Example 14:
30 g / l tin as sulphate
100 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with 10 ... 15 C2H4O groups in the molecule
1.5 g / l formalin
0.25 g / l benzalacetone
 EMI6.1
 Example 15:
30 g / l tin as sulphate
250 g / l phenol sulfonic acid
1 g / l formalin 0.48 g / l benzalacetone
5 g / l non-ionic wetting agent with around 15 C HO groups in the molecule
 EMI6.2
   C, H bath temperature: 20 ..... 35 C Current density: 1 ..... 3.5 A / dmz

 <Desc / Clms Page number 7>

 Example 16:

   
40 g / l tin as sulphate
130 g / l free sulfuric acid 0.8 g / l formalin 0.4 g / l furfurylidene acetone
 EMI7.1
 
6 g / lRs = Na
7 g / l of a non-ionic wetting agent with about 30 C2H4O groups in the molecule Bath temperature: 18 ..... 30 C
 EMI7.2
 change in the current density ranges in which shiny tin can be deposited. In example 17, instead of formalin, catechol is used as a further additive in addition to the imidazoline derivative.



   Example 17:
35 g / l tin as sulphate
150 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with around 15 C2H4O groups in the molecule 0.8 g / l pyrocatechol 1.0 g / l of an imidazoline derivative with the
 EMI7.3
    CH0.3 g / l benzalacetone bath temperature: 20 ..... 350C current density: l ..... 4 A / dm Example 18 only contains an imidazoline derivative in the bath as an additive.



  Example 18:
35 g / l tin as sulphate
100 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with around 25 C2H4O groups in the molecule
1 ... 2 g / l furylacrylic acid
 EMI7.4
 
0 g / IRs = H
Bath temperature: 20 ..... 30 C Current density: l ..... 4 A / dm2
Examples 17 and 18 show that if a sufficient amount of the imidazoline derivative is used, the formalin content can be completely eliminated.

 <Desc / Clms Page number 8>

 



   In the following examples 19-21 it is shown that an original formalin content of 1.5 g / l (example 19) can be achieved by successive addition of an imidazoline derivative over a formalin content of 0.8 g / l (example 20) down to a formalin content of 0 g / l (Example 21) can be reduced.



   Example 19:
30 g / l tin as tin sulfate
110 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with
15 C2H4O groups in the molecule
0.26g / l benzalacetone 1.5 g / l formalin Bath temperature: 20 ..... 300C
Current density: 0.5 ... 4A / dm2
Example 20:
30 g / l tin as tin sulfate
110 g / l free sulfuric acid
6 g / l non-ionic wetting agent with approx. 15 C2H4O molecules
0.26 g / l benzalacetone 0.8 g / l formalin
 EMI8.1
 



   5 g / lRs = H bath temperature: 20 ..... 300C
 EMI8.2
 but 1.0 g / l of said imidazoline derivative was added and the formalin was omitted. An examination of the tin coatings deposited with the baths of Examples 19-21 showed that the gloss range of the bath increased significantly to the extent that formalin was replaced by imidazoline derivatives.



    PATENT CLAIMS:
1. Galvanic bath for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers on the cathode, which essentially consists of a tin salt, free acid and a nonionic wetting agent
 EMI8.3
 Compounds of the general formula
X-CH = CH-Y in which X is an isocyclic or heterocyclic, optionally substituted ring and Y is one of the atomic groups -H, -CHO, -COOH, -CH2OH, -R or -COR and where R is an alkyl or alkylene radical with optionally further functional groups and contains formalin.

 

Claims (1)

2. Abgeändertes Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Lösung ungesättigter Verbindungen der angegebenen allgemeinen Formel, in der X, Y und R die im Anspruch 1 genannte Bedeutung haben und Y ferner-OR bedeuten kann, an Stelle von oder zusätzlich zu Formalin Imidazolin oder ein Imidazolinderivat der folgenden allgemeinen Formel : <Desc/Clms Page number 9> EMI9.1 enthält, in welcher Rl ein Alkylrest mit mindestens 5 C-Atomen, 1\ Wasserstoff oder die Gruppe -CH . COOR, und Rg Wasserstoff oder ein einwertiges Metallatom ist. 2. Modified bath according to claim 1, characterized in that the solution of unsaturated compounds of the general formula given in which X, Y and R have the meaning given in claim 1 and Y can also mean -OR, instead of or in addition to formalin Imidazoline or an imidazoline derivative of the following general formula: <Desc / Clms Page number 9> EMI9.1 contains, in which Rl is an alkyl radical with at least 5 carbon atoms, 1 \ hydrogen or the group -CH. COOR, and Rg is hydrogen or a monovalent metal atom. 3. Galvanisches Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass es als ungesättigte Verbindungen der allgemeinen Formel X-CH=CH-Y ungesättigte Ketone enthält. EMI9.2 nichtionogenes Netzmittel ein solches mit 10 - 30 C2Hp-Gruppen im Molekül im Bad enthalten ist. 3. Galvanic bath according to claim 1 or 2, characterized in that it is used as unsaturated compounds of the general formula X-CH = CH-Y contains unsaturated ketones. EMI9.2 non-ionic wetting agent one with 10-30 C2Hp groups in the molecule is contained in the bath. 5. Galvanisches Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Bad zusätzlich noch Brenzkatechin (o-Dioxybenzol) enthält. 5. Galvanic bath according to one of claims 1 to 4, characterized in that the bath also contains pyrocatechol (o-dioxybenzene). 6. Galvanisches Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass es 10 - 100 g/l Zinn und 20 - 200 g/l freie Säure, berechnet als Schwefelsäure, enthält. 6. Galvanic bath according to one of claims 1 to 5, characterized in that it contains 10-100 g / l tin and 20-200 g / l free acid, calculated as sulfuric acid. 7. Galvanisches Bad nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass es als freie Säure in an sich bekannter Weise Schwefelsäure, Fluoborsäure, Kresol- bzw. Phenolsulfosäure enthält. 7. Electroplating bath according to claim 6, characterized in that it contains sulfuric acid, fluoroboric acid, cresol or phenol sulfonic acid as the free acid in a manner known per se.
AT746564A 1963-08-28 1964-08-28 Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers AT252681B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE252681T 1963-08-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
AT252681B true AT252681B (en) 1967-03-10

Family

ID=29723033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT746564A AT252681B (en) 1963-08-28 1964-08-28 Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers

Country Status (1)

Country Link
AT (1) AT252681B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2152785A1 (en) * 1970-10-22 1972-05-04 Kenvert Int Corp Bath and process for the electrodeposition of tin, lead or alloys thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2152785A1 (en) * 1970-10-22 1972-05-04 Kenvert Int Corp Bath and process for the electrodeposition of tin, lead or alloys thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1242427B (en) Galvanic tin bath for depositing bright to shiny coatings
DE832982C (en) Electrolyte and process for the electrodeposition of copper
DE2056954C2 (en) Aqueous acid bath for the galvanic deposition of a tin coating and process for this
DE2143806C3 (en) Bath for the galvanic deposition of bright to shiny lead-tin alloy layers
DE2346942C3 (en) Weakly acidic bright zinc bath
DE2610705C3 (en) Acid galvanic copper baths
DE3534876A1 (en) AQUEOUS ACID BATH AND METHOD FOR GALVANIC DEPOSITION OF ZINC ALLOYS
DE2830441A1 (en) AQUATIC BATH FOR GALVANIC DEPOSITION OF ZINC AND ITS USE
DE3310881A1 (en) AQUEOUS ACID BATH FOR GALVANIC DEPOSIT OF NICKEL AND A METHOD FOR GALVANIC DEPOSIT OF NICKEL WITH THIS BATH
AT252681B (en) Galvanic baths for the electrolytic deposition of bright to shiny tin layers
DE2247840C3 (en) Galvanic chrome bath
CH429356A (en) Self-regulating acidic galvanic metal bath
DE1496940B2 (en) ACID GALVANIC TIN BATH FOR DEPOSITING GLOSSARY TIN COATINGS
DE2905177A1 (en) GALVANIC ZINC BATH FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF GLOSSY ZINC COATINGS
DE1935821C (en)
DE958795C (en) Bath for the galvanic deposition of shiny coatings of silver, gold and alloys of these metals
DE2404614A1 (en) COMPOSITION AND METHOD OF GALVANIC NICKEL DEPOSITION
DE2251103B2 (en)
DE2450527C2 (en) Aqueous, acidic bath for the galvanic deposition of semi-glossy nickel coatings
DE2505499A1 (en) METHOD AND BATH FOR ELECTRICAL DEPOSITION OF NICKEL
DE2815786A1 (en) AQUATIC BATH FOR EDECTROCHEMICAL DEPOSITION OF GLOSSY IRON-NICKEL COATING
DE4013349A1 (en) 1- (2-SULFOAETHYL) PYRIDINIUMBETAIN, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND ACID NICKEL BATH CONTAINING THIS COMPOUND
DE899303C (en) Bath and process for the electrolytic production of zinc coatings
DE2111602C2 (en) Cyanide-free aqueous galvanic bright zinc bath and method for the galvanic deposition of bright zinc using this bath
DE1621127C (en) Acid galvanic bath for separating tin