TWI273352B

TWI273352B - Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device

Info

Publication number: TWI273352B
Application number: TW092101510A
Authority: TW
Inventors: Shinji Shiraki; Masayoshi Suzuki; Hirofumi Sasaki; Kazuaki Niwa; Michinori Nishikawa
Original assignee: Jsr Corp
Priority date: 2002-01-24
Filing date: 2003-01-23
Publication date: 2007-02-11
Also published as: US6797453B2; KR20030080186A; KR100942124B1; EP1331518A3; EP1331518A2; CN1445315A; US20030215737A1; CN1249790C; TW200302403A

Description

1273352 (1) 玖、發明說明【發明所屬之技術領域】本發明有關一種用以形成絕緣膜之輻射敏感性組成物、一種絕緣膜及一種顯示裝置。詳言之，其有關一種負型輻射敏感性組成物，適於使用輻射諸如紫外線、深紫外線、X -輻射、電子束、分子束、r -射線、同步加速器輻射或質子束形成絕緣膜，一種供其所形成之顯示裝置使用的絕緣膜，及一種具有該絕緣膜之顯示裝置。【先前技術】有機EL顯示裝置本身發光時對視角之相依性低，且因爲係爲固體裝置，故在與液晶顯示裝置比較之下，具有各種優點諸如優越之耐衝撃性、低電壓驅動、低功率消耗、及於低溫範圍下之高操作安定性。因爲前述優點，高度預期該有機EL顯示裝置特別會使用於移動性應用諸如攜帶式終端機及汽車，故針對有機EL顯示裝置之硏究極爲積極。該有機EL顯示裝置之製造通常係藉由下述方法進行 °於一基板上形成一透明電極（電洞注射電極）圖案諸如摻雜有錫之氧化銦（ITO)圖案及電洞輸送層圖案。若爲被動型有機EL顯示裝置，則隨之形成絕緣膜圖案及陰極肋圖案，之後藉沉積將有機EL層、電子輸送層及陰極圖案化。若爲主動型有機EL顯示裝置，則在形成將成爲有 (2) 1273352 機EL層肋條之ITO圖案及絕緣膜圖案之後，藉罩蓋法或噴墨法形成有機EL層圖案，之後形成電子輸送層及陰極 (電子注射電極）。通常，該有機EL層係自基質材料諸如摻雜有喹吖啶酮或香豆素之Alq3或製得，而該陰極主要係由基本上包含具有低功函數之金屬諸如Mg或Ag之材料製得。爲符合最近對於高解析度之要求，現在硏究具有大量隙孔之有機EL顯示裝置。然而，因爲下列因素，故對開口率之改良有限。即，爲了改善被動型有機EL顯示裝置之開口率，需減少絕緣膜及陰極肋圖案之圖案寬度。此者需要特定強度，且就解析度觀點而言，圖案寬度之縮減程度有限。是故，無法得到夠大之開口率。主動型有機EL顯示裝置中，爲針對各像素防止ITO 中之短路，需於像素間形成特定間隔，以限制開口率。現在硏究具有可得到較大開口率之結構的主動型有機 EL顯示裝置。此種主動型有機EL顯示裝置係藉例如下列方法製得〇驅動接點係形成於一玻璃基板或其類者上，第一絕緣膜係於該接點上形成爲平坦化薄膜，之後於該第一絕緣膜上形成透明電極（電洞注射電極）圖案諸如ITO圖案。此等圖案之形成通常係藉濕式蝕刻法進行。另外於該透明電極圖案上藉罩蓋法形成電洞輸送層圖 -7- (3) 1273352 案。之後，藉罩蓋法或噴墨法形成一 IT〇圖案、第二絕緣膜圖案一變成供有機EL層使用之肋條一及一有機EL層圖案，之後形成一電子輸送層及一陰極（電子注射電極）。此時，需於該第一絕緣膜中形成1至1 5微米長通孔或U形凹陷，以使ITO電極（電洞注射電極）與該驅動接點彼此導通。已知有機EL發光層在與水接觸時迅速損壞，而阻礙其發光，即使其係低分子量發光層或聚合物發光層亦然。認爲水來自環境或吸著於絕緣膜材料上之微量水逐漸滲透有機EL層。目前，尙未提供一種材料，以形成具有足以形成得到較大開口率之通孔或U形凹陷之解析度、優越平坦能力及高度對抗用以形成透明電極之光阻的能力、且另外可防止阻礙光發射之雜質（主要爲水）之滲透的絕緣膜。薄膜電晶體（以下簡稱爲TFT )液晶顯示裝置通常係藉著將具有形成於玻璃基板上之TFT電極線及電容器的 TFT陣列基板放置於具有形成於另一玻璃基板上之濾色器的濾色器基板的對側，使用密封物接合，將液晶注入介於該基板之間的間隔，以密封物封合該注射口而製得。前述TFT陣列基板通常係如下製得。TFT元件、顯示電極、掃描線（垂直）、信號線（汲極）及電容器首先形成於一玻璃基板上。之後’於其上層形成中間層絕緣膜，形成用以使像素電極及源極互連之接觸孔圖案，之後於該中間層絕緣膜上形成透明像素電極（ITO )。之後藉蝕刻 (4) 1273352 分配各像素之透明像素電極，形成液晶配向膜且進行摩擦〇當各像素電極之一末端部分放置於掃描或信號線之一末端部分上以儘可能增加開口率時，形成前述中間層絕緣膜，以使之彼此絕緣。輻射敏感性組成物一用以藉由少數步驟得到具有所需圖案形狀及優越平坦化能力之中間層絕緣膜一係廣泛地作爲供前述中間層絕緣膜使用之材料。 JP-A 7-98502、 JP-A 7-98503 及 JP-A 7-140648 (本發明所使用之”JP-A”一辭係意指”未審查日本公開專利申請案”）揭示一種酚醛淸漆樹脂或酚樹脂之組合物，諸如聚羥基苯乙烯及以醌二疊氮爲主之敏化劑，而日本專利編號 3003064、JP-A 1 0- 1 5 3 854、JP-A 200 卜 281853 及 JP-A 200 1 - 28 1 86 1揭示一種丙烯酸樹脂與以醌二疊氮爲主之敏化劑爲材料的組合物。如前文所述，於一基板上形成該中間層絕緣膜之後，進行形成透明像素電極及液晶配向膜之步驟，該中間層絕緣體膜於前述步驟中於高溫下加熱。因爲習知用以形成中間層絕緣膜之材料之耐熱性無法令人滿意，故其於前述步驟中因爲透明度大幅降低而變黃或變棕。爲避免此種現象，加熱該透明電極膜之溫度需設定於特定溫度或較低溫度。如此，所形成之透明電極膜難以得到所需之電性質，尤其是充分低之電阻。於該基板上形成中間層絕緣膜之後，將其送至進行電極之步驟且曝露於有機溶劑，諸如用以將電極圖案化之蝕 -9- (5) 1273352 刻劑及光阻移除劑。因此，該中間層絕緣膜需要高度耐溶劑性，而不被該等溶劑所潤脹、變形或自基板剝離。此外，就製造產率之觀點而言，需要較高之輻射敏感性及更優越之顯影性。然而，仍無一種輻射敏感性組成物，用以適當地形成供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜，此組成物具有高度輻射敏感性、優越之顯影性、高度耐熱性、高度透明性及優越之耐溶劑性。【發明內容】因此’本發明之目的係提供一種輻射敏感性組成物，用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜，此組成物具有足以形成通孔或U形凹陷之高解析度、優越之平坦化能力及高度對抗用以形成透明電極之光阻移除劑的性質，且防止阻礙發光之雜質（主要爲水）滲透。本發明另一目的係提供一種輻射敏感性組成物，其具有高度輻射敏感性、優越之顯影性、高度耐熱性、高度透明性及優越之耐溶劑性，且適於形成供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜。本發明另一目的係提供一種由前述組成物形成之絕緣膜’使用於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置。本發明另一目的係提供一種有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置’其具有前述絕緣膜。由以下描述可明暸本發明其他目的及優點。 -10- (6) 1273352 根據本發明，首先，藉由包含下列化合物之輻射敏感性組成物達成前述本發明目的及優點： (A1)至少一種選自由下式（1)表示之矽烷化合物 (R)pSi(X)4-p (1) 其中R1係爲具有1至12個碳原子之不可水解有機基團， X係爲可水解基團，且p係爲〇至3之整數，其水解物及該水解物之縮合物的化合物；及（A2 )曝露於輻射時生成酸或鹼之化合物，及 (B ) ’其係用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜〇根據本發明，其次，藉由一輻射敏感性組成物達成前述本發明目的及優點，該組成物係包含（A 1 )至少一種選自由前式（1 )所示之矽烷化合物、其水解物及該水解物的化合物，及（A 2 )在曝露於輻射時生成酸或鹼之化合物 ’及（B )，用以形成供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜。根據本發明，第三，藉由一絕緣膜達成前述本發明目的及優點，該絕緣膜係供有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置使用’自前述本發明輻射敏感性組成物形成。根據本發明，第四，藉由一有機EL顯示裝置或液晶威示裝置達成前述本發明目的及優點，該裝置係具有前述 -11 - 1273352 (7) 絕緣膜。【實施方式】下文描述本發明輻射敏感性組成物。成份（A 1 ) 本發明用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物及用以形成供液晶顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物中所含之成份（A 1 )係爲至少一種選自下式（1 )所示之矽烷化合物、其水解物及該水解物之縮合物的化合物： (R1 ) pSi ( X ) 4-p ( 1 ) 其中R1係爲具有1至12個碳原子之不可水解有機基團， X係爲可水解基團，且P係爲0至3之整數。由X所表示之可水解基團通常係爲當其於無催化劑下在過量水存在下於室溫（)下加熱至100°C時可形成矽烷醇基團之基團，或爲其進一步縮合時可形成矽氧烷鍵結之基團。可水解基團之實例係包括氫原子、鹵原子、具有1至12個碳原子之烷氧基、胺基及具有2至12個碳原子之醯氧基。由R1表示而具有1至12個碳原子之不可水解有機基團的實例係包括具有1至1 2個碳原子之烷基、具有6至 -12- (8) 1273352 12個碳原子之芳基及具有7至12個碳原子之芳烷基。其可爲直鏈、分支鏈或環狀，且當相同分子中存在多個 V 時，可爲組合形式。 R1可含有具雜原子之結構單元。該結構單元之實例係包括醚、酯及硫化物。 R1所需之不可水解性意指穩定存在於該可水解基團X 被水解之條件下的性質。前述P係爲0至3之整數，以0至2爲佳，尤其是1 〇前述式（1 )所示之矽烷化合物係爲例如經四個可水解基團取代之矽烷化合物、經一個不可水解基團及三個可水解基團取代之矽烷化合物、經兩個不可水解基團及兩個可水解基團所取代之矽烷化合物、或經三個不可水解基團及一個可水解基團所取代之矽烷化合物。此等矽烷化合物之說明例係包括經四個可水解基團所取代之矽烷化合物，諸如四氯矽烷、四胺基矽烷、四乙醯氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四聯苯醯氧矽烷、及四丙氧基矽烷；經一個不可水解基團及三個可水解基團所取代之矽烷化合物 ’諸如甲基三氯矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、五氟苯基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、d3-甲 -13- (9) 1273352 基三甲氧基矽烷、九氟丁基乙基三甲氧基矽烷及三氟甲基三甲氧基矽烷；經兩個不可水解基團及兩個可水解基團所 ~ 取代之矽烷化合物，諸如二甲基二氯矽烷、二甲基二胺基 - 矽烷、二甲基二乙醯氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷及二丁基二甲氧基矽烷；及經三可不可水解基團及一個可水解基團所取代之矽烷化合物，諸如三 β 甲基氯矽烷、六甲基二矽氮烷、三甲基矽烷、三丁基矽烷 _ 、三甲基甲氧基矽烷及三丁基乙氧基矽烷。其中，經一個不可水解基團及三個可水解基團所取代之矽烷化合物爲佳，而甲基三曱氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷及丁基三甲氧基矽烷特佳。

此等矽烷化合物可單獨或兩種或多種組合使用。使用於本發明之成份（A 1 )係爲至少一種選自前述矽烷化合物、其水解物及該水解物之縮合物的化合物，以矽烷化合物之水解物或該水解物之縮合物爲佳。用以水解或縮合前述矽烷化合物的條件不特別限制。該矽烷化合物之水解或縮合可例如藉由下列步驟進行。前述矽烷化合物及預定量之水與適當之溶劑係放於裝置有攪拌器之容器中’於空氣氛圍中於〇°c至溶劑或矽烷化合物之沸點的溫度下攪拌1至24小時。攪拌期間’反應混合物可視需要藉蒸餾濃縮’或可添加新溶劑。 -14- (10) 1273352 所使用之溶劑不限於特定種類，但通常爲與下述用以製備該輻射敏感性組成物之溶劑相同的溶劑。使用溶劑時 ’其量以100重量份之該矽烷化合物計以1,000重量份或較低爲佳。水解或縮合前述矽烷化合物時，可使用催化劑。該催化劑係爲金屬鉗合物化合物、有機酸、無機酸、有機鹼或無機驗。作爲催化劑之金屬鉗合物化合物以鈦鉗合物化合物、锆鉗合物化合物或鋁鉗合物化合物爲佳。金屬鉗合物化合物之實例係包括鈦鉗合物，諸如三乙氧·單（乙醯基丙酮醯）鈦、三-正丙氧基·單（乙醯基丙酮醯）鈦、三-異丙氧基·單（乙醯基丙酮醯）鈦、三-正丁氧基·單（乙醯基丙酮醯）鈦、三-第二丁氧基·單 (乙醯基丙酮醯）鈦、三-第三丁氧基·單（乙醯基丙酮醯）鈦、二乙氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鈦、二-正丙氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鈦、二-異丙氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鈦、二-正丁氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鈦、二-第二丁氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鈦、二-第三丁氧基· 雙（乙醯基丙酮醯）鈦、單乙氧基·三（乙醯基丙酮醯）鈦、單-正丙氧基·三（乙醯基丙酮醯）鈦、單-異丙氧基 •三（乙醯基丙酮醯）鈦、單-正丁氧基·三（乙醯基丙酮醯）鈦、單-第二丁氧基·三（乙醯基丙酮醯）鈦、單_ 第三丁氧基·三（乙醯基丙酮醯）鈦、四（乙醯基丙酮醯 )鈦、三乙氧基·單（乙基丙酮醯）鈦、三-正丙氧基· -15- (11) 1273352

單（乙基丙酮醯）鈦、三-異丙氧基·單（乙基丙酮醯）鈦、三-正丁氧基·單（乙基丙酮醯）鈦、三-第二丁氧基 •單（乙基丙酮醯）鈦、三-第三丁氧基·單（乙基丙酮醯）鈦、二乙氧基·雙（乙基丙酮醯）鈦、二-正丙氧基 •雙（乙基丙酮醯）鈦、二-異丙氧基·雙（乙基丙酮醯 )鈦、二-正丁氧基·雙（乙基丙酮醯）鈦、二-第二丁氧基·雙（乙基丙酮醯）鈦、二-第三丁氧基·雙（乙基丙酮醯）鈦、單乙氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、單-正丙氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、單-異丙氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、單-正丁氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、單-第二丁氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、單-第三丁氧基·三（乙基丙酮醯）鈦、四（乙基丙酮醯）鈦、單（乙醯丙酮醯）三 (乙基丙酮醯）鈦、雙（乙醯丙酮醯）雙（乙基丙酮醯）鈦、三（乙醯丙酮醯）單（乙基丙酮醯）鈦；鍩鉗合物化合物諸如三乙氧·單（乙醯基丙酮醯）銷、三-正丙氧基 •單（乙醯基丙酮醯）鍩、三-異丙氧基·單（乙醯基丙酮醯）鍩、三-正丁氧基·單（乙醯基丙酮醯）銷、三-第二丁氧基·單（乙醯基丙酮醯）鍩、三-第三丁氧基·單 (乙醯基丙酮醯）銷、二乙氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鉻、二-正丙氧基·雙（乙醯基丙酮醯）鍩、二-異丙氧基· 雙（乙醯基丙酮醯）锆、二-正丁氧基·雙（乙醯基丙酮醯）锆、二-第二丁氧基·雙（乙醯基丙酮醯）锆、二-第三丁氧基·雙（乙醯基丙酮醯）锆、單乙氧基·三（乙醯基丙酮醯）銷、單-正丙氧基·三（乙醯基丙酮醯）锆、 -16- (12) 1273352 單-異丙氧基·三（乙醯基丙酮醯）鉻、單-正丁氧基·三 (乙醯基丙酮醯）鉻、單-第二丁氧基·三（乙醯基丙酮醯）锆、單-第三丁氧基·三（乙醯基丙酮醯）锆、四（乙醯基丙酮醯）鉻、三乙氧基·單（乙基丙酮醯）銷、三-正丙氧基·單（乙基丙酮醯）锆、三-異丙氧基·單（乙基丙酮醯）鍩、三-正丁氧基·單（乙基丙酮醯）锆、三-第二丁氧基·單（乙基丙酮醯）鉻、三-第三丁氧基· 單（乙基丙酮醯）鉻、二乙氧基·雙（乙基丙酮醯）銷、二-正丙氧基·雙（乙基丙酮醯）鉻、二-異丙氧基·雙（乙基丙酮醯）銷、二-正丁氧基·雙（乙基丙酮醯）鍩、二-第二丁氧基·雙（乙基丙酮醯）鉻、二-第三丁氧基· 雙（乙基丙酮醯）鉻、單乙氧基·三（乙基丙酮醯）锆、單-正丙氧基·三（乙基丙酮醯）锆、單-異丙氧基·三（乙基丙酮醯）锆、單-正丁氧基·三（乙基丙酮醯）錐、單-第二丁氧基·三（乙基丙酮醯）鉻、單-第三丁氧基· 三（乙基丙酮醯）鉻、四（乙基丙酮醯）鉻、單（乙醯丙酮醯）三（乙基丙酮醯）锆、雙（乙醯丙酮醯）雙（乙基丙酮醯）銷、三（乙醯丙酮醯）單（乙基丙酮醯）锆；鋁鉗合物化合物諸如三（乙醯丙酮醯）鋁及三（乙基丙酮醯 )鋁。作爲催化劑之有機酸的代表性實例係包括乙酸、丙酸、正丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、草酸、順丁烯二酸、甲基丙二酸、己二酸、癸二酸、掊酸、異丁酸、苯六酸、花生酸、莽草酸、2 -乙基己酸、油酸、硬 -17- (13) 1273352 脂酸、亞油酸、亞麻酸、水楊酸、苄酸、對-胺基苄酸、對-甲苯磺酸、苯磺酸、單氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸 · 、三氟乙酸、甲酸、丙二酸、磺酸、苯二甲酸、反丁烯二 . 酸、檸檬酸及酒石酸。作爲催化劑之無機酸的代表性實例係包括鹽酸、硝酸、硫酸、氫氟酸及磷酸。 * 作爲催化劑之有機鹼的實例係包括吡啶、吡略、哌哄、吡咯烷、哌啶、甲基吡啶、三甲基胺、三乙基胺、單乙 φφ 醇胺、二乙醇胺、二甲基單乙醇胺、單甲基二乙醇胺、三乙醇胺、二氮雜二環辛烷、二氮雜二環壬烷、二氮雜二環十一碳烯及氫氧化四甲基銨。作爲催化劑之無機鹼實例係包括氨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋇及氫氧化鈣。其中，以金屬鉗合物化合物、有機酸及無機酸爲佳，而鈦鉗合物化合物及有機酸係爲更佳之催化劑。

此等化合物可單獨使用或兩種或多種組合作爲催化劑催化劑之量以1 00重量份數矽烷化合物計以丨〇重量份數或較低爲佳，0.001至10重量份數更佳，而〇.〇1至 10重量份數更佳。矽烷化合物之水解物或該水解物之縮合物的重量平均分子量以15,000或較低爲佳，500至15,〇〇〇更佳，1，〇〇〇至1 2,000更佳。當該重量平均分子量介於前述範圍內時，可得到薄膜 -18- (14) 1273352 形成性質與輻射敏感性具有良好平衡性之組成物。已知前述重量平均分子量係藉凝膠滲透層析（以下可簡稱爲GPC )針對聚苯乙烯測量。 (A 2 )曝露於輻射時生成酸或鹼之化合物本發明所使用之成份（A2 )係爲輻射敏感性酸生成劑或輻射敏感性鹼生成劑。該輻射敏感性酸生成劑係爲可生成在曝露於輻射諸如紫外線輻射時可將成份（A 1 )固化（交聯）之酸性物質的化合物。該輻射敏感性酸生成劑有例如三氯甲基-s-三畊、二芳基碘鏺鹽、三芳基銃鹽、四級銨鹽或磺酸酯。其中，以二芳基碘鐵鹽及三芳基銃鹽爲佳。前述三氯甲基-s-三畊之實例係包括2,4,6-三（三氯甲基）-s-三啡、 2-苯基-4,6-雙（三氯甲基）-s-三卩井、 1- (4-氯苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2- (3-氯苯基）-4,6 -雙（三氯甲基）-s-二畊、 2- (2-氯苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2- (4 -甲氧苯基）-4,6 -雙（二氯甲基）-s-二啡、 2- (3 -甲氧苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2- (2-甲氧苯基）_4,6-雙（三氯甲基）-s-三啡、 2- ( 4-甲基苯硫基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2- (3-甲基苯硫基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2- (2-甲基苯硫基）-4,6-雙（三氯甲基）三畊、 -19- (15) 1273352 2- (4-甲氧萘基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2-(3-甲氧萘基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 - 2-(2-甲氧萘基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 ~ 2-(4-曱氧-；5-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-8-三啡、 2-(3-甲氧-^-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-8-三 ' 畊、、 2- (2-曱氧- /3-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三 ·· 啡、 2- (3，4,5-三甲氧- /5-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基《 )-s-三畊、 _ 2- (4-甲硫基- /3-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s- 三啡、 2-(3-甲硫基-沒-苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-3- 三畊、 2- ( 3-甲硫基-/3 -苯乙烯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s- 三畊、 2-胡椒基- 4,6-雙（三氯甲基）-s-三畊、 2-[2-(呋喃-2-基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基）-s-三 · 畊、 · 2-[2- (5-甲基呋喃-2-基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基 )-s-三啡及 2-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基）-s-三啡。 -20- (16) 1273352

前述二芳基碘鑰鹽之實例係包括四氟硼酸二苯基碘鏺、六氟膦酸二苯基碘鑰、六氟砷酸二苯基碘鐵、三氟甲磺酸根絡二苯基碘鏺、三氟乙酸二苯基碘鑰、對-甲苯磺酸根絡二苯基碘鏺、丁基三（2,6-二氟苯基）硼二苯基碘鑰、己基三（對-氯苯基）硼酸二苯基碘鐵、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸二苯基碘鑰、四氟硼酸4-甲氧苯基苯基碘鏺、六氟膦酸4-曱氧苯基碘鑰、六氟砷酸4-甲氧苯基苯基碘鏺、三氟甲磺酸根絡4-甲氧苯基苯基碘鑰、三氟乙酸4-甲氧苯基苯基碘鑰、對-甲苯磺酸根絡4-甲氧苯基苯基碘鑰、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸4-甲氧苯基苯基碘鑰、己基三（對-氯苯基）硼酸4-甲氧苯基苯基碘鑰、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸4-甲氧苯基苯基碘鑰、四氟硼酸雙（4-第三丁基苯基）碘鑰、六氟砷酸雙（4-第三丁基苯基）碘鑰、三氟甲磺酸根絡雙（4-第三丁基苯基）碘鏺、三氟乙酸雙（4-第三丁基苯基）碘鐵、對-甲苯磺酸根絡雙（4-第三丁基苯基）碘鑰、丁基三（2,6-二氟苯基 )硼酸雙（4-第三丁基苯基）碘鑰、己基三（對-氯苯基 )硼酸雙（4-第三丁基苯基）碘鑰、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸雙（4-第三丁基苯基）碘鎗、四氟硼酸苯基4-(2’-羥基-厂-十四碳氧）苯基碘鐵、三氟甲磺酸苯基4-( 2’-羥基-1’-十四碳氧）苯基碘鑰、六氟銻酸根絡苯基4-( 2’_羥基_厂_十四碳氧）苯基碘鐵及六氟銻酸根絡苯基4-( 2〜羥基-厂-十四碳氧）苯基碘鑰。前述三芳基銃鹽之實例係包括四氟硼酸三苯基銃、六 -21 - (17) 1273352

氟膦酸三苯基锍、六氟砷酸三苯基銃、三氟甲磺酸根絡三苯基銃、三氟乙酸三苯基锍、對-甲苯磺酸根絡三苯基銃、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸三苯基锍、己基三（對-氯苯基）硼酸三苯基銃、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸三苯基銃、四氟硼酸4-曱氧苯基二苯基銃、六氟膦酸4-甲氧苯基二苯基銃、六氟砷酸4-甲氧苯基二苯基銃、三氟甲磺酸根絡4-甲氧苯基二苯基銃、三氟乙酸4-甲氧苯基二苯基銃、對-甲苯磺酸根絡4-甲氧苯基二苯基銃、丁基三 (2,6-二氟苯基）硼酸4-甲氧苯基二苯基銃、己基三（對-氯苯基）硼酸4-甲氧苯基二苯基銃、己基三（3-三氟曱基苯基）硼酸4-甲氧苯基二苯基銃、四氟硼酸4-苯基苯硫基二苯基銃、六氟膦酸4-苯基苯硫基二苯基銃、六氟砷酸4-苯基苯硫基二苯基銃、三氟甲磺酸根絡4-苯基苯硫基二苯基銃、三氟乙酸4-苯基苯硫基二苯基銃、對-甲苯磺酸根絡4-苯基苯硫基二苯基毓、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸4-苯基苯硫基二苯基銃、己基三（對-氯苯基）硼酸4-苯基苯硫基二苯基銃、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸4-苯基苯硫基二苯基銃、四氟硼酸4-羥基-1-萘酯二甲基锍、六氟膦酸4-羥基-1-萘酯二甲基銃、六氟砷酸4-羥基-1-萘酯二甲基锍、三氟甲磺酸根絡4-羥基-1-萘酯二甲基銃、三氟乙酸4-經基-1-萘酯二甲基銃、對-甲苯磺酸根絡4-羥基-1-萘酯二甲基銃、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸4-羥基-1-萘酯二甲基锍、己基三（對-氯苯基）硼酸4-羥基-1 -萘酯二甲基銃及己基三（3 -三氟甲基苯基）硼酸 -22- (18) 1273352 4 -經基-1-蔡醋—^甲基硫。

前述四級銨鹽之實例係包括四氟硼酸四甲基銨、六氟膦酸四曱基銨、六氟砷酸四甲基銨、三氟甲磺酸根絡四甲基銨、三氟乙酸四甲基銨、對-甲苯磺酸根絡四甲基銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸四甲基銨、己基三（對-氯苯基）硼酸四甲基銨、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸四甲基銨、四氟硼酸四丁基銨、六氟膦酸四丁基銨、六氟砷酸四丁基銨、三氟甲磺酸根絡四丁基銨、三氟乙酸四丁基銨、對-甲苯磺酸根絡四丁基銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸四丁基銨、己基三（對-氯苯基）硼酸四丁基銨、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸四丁基銨、四氟硼酸苄基三甲基銨、六氟膦酸苄基三甲基銨、六氟砷酸苄基三甲基銨、三氟甲磺酸根絡苄基三曱基銨、三氟乙酸苄基三甲基銨、對-甲苯磺酸根絡苄基三甲基銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸苄基三甲基銨、己基三（對-氯苯基）硼酸苄基三甲基銨、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸苄基三甲基銨、四氟硼酸苄基二甲基苯基銨、六氟膦酸苄基二甲基苯基銨、六氟砷酸苄基二甲基苯基銨、三氟甲磺酸根絡苄基二甲基苯基銨、三氟乙酸苄基二甲基苯基銨、對-甲苯磺酸根絡苄基二甲基苯基銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸苄基二甲基苯基銨、己基三（對-氯苯基）硼酸苄基二甲基苯基銨、己基三（3-三氟甲基苯基）硼酸苄基二甲基苯基銨、四氟硼酸N-亞肉桂基乙基苯基銨、六氟膦酸N-亞肉桂基乙基苯基銨、六氟砷酸N-亞肉桂基乙基苯基銨、三氟甲 -23- (19) 1273352 磺酸根絡N-亞肉桂基乙基苯基銨、三氟乙酸N-亞肉桂基乙基苯基銨、對-甲苯磺酸根絡N-亞肉桂基乙基苯基銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸N-亞肉桂基乙基苯基銨、己基三（對-氯苯基）硼酸N-亞肉桂基乙基苯基銨及己基三 (3-三氟曱基苯基）硼酸N-亞肉桂基乙基苯基銨。 ··

前述磺酸酯實例係包括α -羥甲基安息香-對-甲苯磺酸酯、α -羥甲基安息香-三氟甲磺酸酯、α -羥甲基安息香-甲磺酸酯、焦掊酚-三（對-甲苯磺酸）酯、焦掊酚-三（三氟甲磺酸）酯、焦掊酚-三甲磺酸酯、2,4-二硝基苄基-對-甲苯磺酸酯、2,4-二硝基苄基-三氟甲磺酸酯、2,4-二硝基苄基-甲磺酸酯、2,4-二硝基苄基-1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯、2,6-二硝基苄基-對-甲苯磺酸酯、2,6-二硝基苄基-三氟甲磺酸酯、2,6-二硝基苄基-甲磺酸酯、2,6-二硝基苄基-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯、2-硝基苄基-對-甲苯磺酸酯、2-硝基苄基-三氟甲磺酸酯、2-硝基苄基-甲磺酸酯、 2-硝基苄基-1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯、4-硝基苄基-對-甲苯磺酸酯、4-硝基苄基-三氟甲磺酸酯、4-硝基苄基-甲磺酸酯、4-硝基苄基-1,2-萘醌二疊氮基-5-磺酸酯、Ν-羥基苯二醯亞胺基-對-甲苯磺酸酯、Ν-羥基苯二醯亞胺基-三氟甲磺酸酯、Ν-羥基苯二醯亞胺基-甲磺酸酯、Ν-羥基-5-原箔烯-2,3-二甲醯亞胺基-對-甲苯磺酸酯、Ν-羥基-5-原萡烯-2,3-二甲醯亞胺基-三氟甲磺酸酯、Ν-羥基-5-原萡烯-2,3-二甲醯亞胺基-曱磺酸酯、2,4,6,3、4'5^六羥基二苯基甲酮-1，2-萘醌二疊氮基-4_磺酸酯及1，1，1-三（對-羥基苯 -24- (20) 1273352 基）乙烷-1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯。此等化合物中，以 2-(3-氯苯基）-雙（4,6-三氯甲基）-8-三畊、 2-(4-曱氧苯基）-雙（4,6-三氯甲基）-8-三畊、 2- (4-甲基苯硫基）-雙（4,6-三氯甲基）-s-三畊、 2-(4-甲氧-5-苯乙烯基）-雙（4,6-三氯甲基）-8-三畊、 2-胡椒基-雙（4，6-三氯甲基）-s-三畊、 2-[2-(呋喃-2-基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基）-s-三啡、 2-[2- (5-甲基呋喃-2-基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基 )-s-三畊、 2-[2- (4-二乙胺基-2-甲基苯基）乙烯基]-4,6-雙（三氯甲基）-s-三啡及 2-(4-甲氧萘基）-雙（4,6-三氯甲基）-s-三啡係爲較佳之三氯甲基-s-三畊；三氟乙酸二苯基碘鑰、三氟甲磺酸根絡二苯基碘鏺、三氟甲磺酸根絡4-甲氧苯基苯基碘鑰、三氟乙酸4-甲氧苯基苯基碘鐵、三氟甲磺酸根絡苯基 4- (2’-羥基-Γ-十四碳氧）苯基碘鑰、六氟銻酸根絡苯基 4- ( 2’-羥基-1’-十四碳氧）苯基碘鑰及對-甲苯磺酸根絡苯基4-(2’-羥基-Γ-十四碳氧）苯基碘鏺係爲較佳二芳基碘鏺鹽；三氟甲磺酸根絡三苯基銃、三氟乙酸三苯基銃、三氟甲磺酸根絡4-甲氧苯基二苯基銃、三氟乙酸4-甲氧苯基二苯基銃、三氟曱磺酸根絡4-苯基苯硫基二苯基銃及三 1273352 (21) 氟乙酸4-苯基苯硫基二苯基銃係爲較佳之三芳基銃鹽；丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸四甲基銨、己基三（對-氯苯基 )硼酸四甲基銨、己基三（3 -三氟甲基苯基）硼酸四甲基 · 銨、丁基三（2,6-二氟苯基）硼酸苄基二甲基苯基銨及己基三（3 -三氟甲基苯基）硼酸苄基二甲基苯基銨係爲較佳四級銨鹽；且2,6-二硝基苄基-對-甲苯磺酸酯、2,6-二硝胃基苄基-三氟甲磺酸酯、N-羥基苯二醯亞胺基-對-甲苯磺酸 - 酯及N-羥基苯二醯亞胺基-三氟甲磺酸酯係爲較佳磺酸酯前述輻射敏感性鹼生成劑係爲可在曝露於輻射諸如紫外線輻射下時生成可將成份（Α1 )固化（交聯）之鹼性物質的化合物。較佳係使用揭不於 J Ρ - A 4 - 3 3 0 4 4 4、” Ρ ο 1 y m e r ”，ρ ρ. 242-248, vol. 46，No. 6 ( 1997 )及 USP 5,627,010 之輻射

敏感性鹼生成劑。然而，只要在曝露於作用輻射下生成鹼，則任何輻射敏感性鹼生成劑皆可接受。較佳地使用於本發明中的輻射敏感性鹼生成劑（A2 ) 的實例係包括下式（2 )至（1 2 )所示之化合物：

其中R2係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至6個碳原子之硫代烷基、具有 -26- (22) 1273352 兩個含1至6個碳原子之烷基的二烷基胺基、哌啶基、硝基、羥基'氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、 ^ 具有6至20個碳原子之芳基、氟原子、氯原子或溴原子 - ，a係爲〇至5，R3係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至 20個碳原子之芳基，且R4及R5個別係爲氫原子、具有1 · 至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基 _ 、或具有6至20個碳原子之芳基或爷基，或R4及R5可接 φφ 合而形成具有5至6個碳原子而鍵結有氮原子的環狀結構 R6· NR7II 〇—〇— R8\9 Μ …⑶

其中R6係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至6個碳原子之硫代烷基、具有兩個含1至6個碳原子之烷基的二烷基胺基、哌啶基、硝基、羥基、氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，R7係爲氫原子、具有1 至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，且R8及R9個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基或苄基，或R8及R9可接合以形成具有5至6個碳原子而鍵結有氮原子之環狀結構， -27- 1273352 23

ο 1 R onus

1 2 R1R1 \\ N \^/ ·· 其中R1()係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，且R11及R12個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20 個碳原子之芳基或苄基，或R11及R12可接合以形成具有5 至6個碳原子而鍵結有氮原子之環狀結構，

R 13.

ΟII 八 -CH—N——R 14 …⑸

其中R13及R14個別係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之方基’

R 15. ΟII -c »16

N—^CH^CH——R 17 …⑹ 其中R15、R16及R17個別係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之儲基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基， -28- (24) 1273352

R 18 NR19 0II II -c——o——c-

R 20 ~C—R R22 ...(7) 其中R18係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之院氧基、具有1至6個碳原子之硫代院基、具有兩個含1至6個碳原子之烷基的二烷基胺基、哌啶基、硝 ^ 基、羥基、氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、 · 或具有6至20個碳原子之芳基，R19係爲氫原子、具有1 至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，且R2°、R21及R22個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6 個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基或苄基， ,24

R 23_

Ο FTII I , C——C—N

R 26 …（8)

R 25

R 27

其中R23係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有丨至6個碳原子之烷氧基、具有1至6個碳原子之硫代烷基、具有兩個含1至6個碳原子之烷基的二烷基胺基、哌啶基、硝基、羥基、氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，R24及R25個別係爲氫原子、羥基、氫硫基、氰基、苯氧基、具有1至6個碳原子之烷基、氟原子、氯原子、溴原子、具有2至6個碳原子 -29 - 1273352 (25) 之嫌基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基’且R26及 R27個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2 至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基或苄基，或R26及R27可接合以形成具有5至6個碳原子而鍵結有氮原子之環狀結構， I 8 2 oyc R30—

1A 2 3 R- c——£

OMHC

9 2 R ⑼ 其中R28及R29個別係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至6個碳原子之硫代院基、具有兩個含丨至6個碳原子之烷基的二烷基胺基、哌Π定基、硝基、羥基、氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，R3°至R33個別係爲氫原子 '羥基、氫硫基、氰基、苯氧基、具有丨至 6個碳原子之烷基、氟原子、氯原子、溴原子、具有2至 6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基’且A1係爲藉由排除兩個鍵結於單烷基胺、哌啡、芳族一胺或脂族二胺之一或兩個氮原子上的氫原子所形成之二價原子基團， ? Γ ?37° R34 —C—C—A2—c—c—R35 …(10)

R 38/N\r39 r4〇人 r41 -30- 1273352 其中R34及R35個別係爲具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至6個碳原子之硫代 _ 院基、具有兩個含1至6個碳原子之院基的二院基胺基、 · 哌啶基、硝基、羥基、氫硫基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，R36及R37個別係爲氣原子、幾基、氣硫基、氯基、苯氧基、具有1至 6個碳原子之院基、氟原子、氯原子、溴原子、具有2至 . 6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基’ R38至R41個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有1至6個碳原子之芳基或苄基，或R38與R39，或R4()與R41可接合以形成具有5至6個碳原子而鍵結有氮原子的環狀結構，且A2係爲具有1至6個碳原子之伸烷基、伸環己基、伸本基或單鍵，

其中R42至R44個別係爲氫原子、氟原子、氯原子、溴原子、具有丨至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6 -31 - (27) 1273352 至20個碳原子之芳基，且b、c及d個別係爲0至5之整數， (12)

LeC03+ · 3[ ( R45 ) 3R46]· 其中L係爲至少一種選自氨、吡啶、咪唑、乙二胺、三亞甲基二胺、四亞甲基二胺、六亞甲基二胺、丙二胺、1,2- . 環己二胺、N，N-二乙基乙二胺及二伸乙基三胺之配位體，修· e係爲2至6之整數，R45係爲具有2至6個碳原子之烯基或炔基、或具有6至20個碳原子之芳基，且R46係爲具有 1至28個碳原子之烷基。所有前述通式（2)至（12)中，該烷基皆可爲直鏈、分支鏈或環狀。烯基之實例係包括乙烯基及丙烯基，炔基之實例係包括乙炔基。芳基之實例係包括苯基、萘基及蒽基。

前述實例亦包括藉氟原子、氯原子、溴原子、鹵烷基、羥基、羧基、氫硫基、氰基、硝基、疊氮基、二烷胺基、烷氧基或硫代烷基取代前述基團中所含之氫原子所得者此等輻射敏感性鹼生成劑中，以胺基甲酸2 -硝基苄基環己酯、三苯基甲醇、鄰-胺基甲醯基羥基醯胺、鄰-胺基甲醯肟、[[(2,6-二硝基苄基）氧基]羰基]環己基胺、雙[[ (2-硝基苄基）氧基]羰基]己烷-1，6-二胺、4-(甲基硫代本甲釀基）-1 -甲基-1 ·嗎福琳基乙院、（4 -嗎福琳基苯甲 -32- (28) 1273352 醯基）-1-苄基-1·二甲胺基丙烷、N-(2-硝基苄氧羰基）吼咯烷、三（三苯甲基硼酸）六胺鈷（ΠΙ)及2_苄基_2- μ 二甲胺基-1- ( 4-嗎福啉基苯基）-丁酮爲佳。 - 本發明中成份（Α2 )之量以100重量份數成份（Α1 )計以〇· 1至丨5重量份數爲佳，1至1 〇重量份數更佳。當成份（A2 )之量介於前述範圍內時，得到具有優越輻射 ^ 敏感性之組成物。自該組成物製得之絕緣膜具有優越之耐 _ 鹼性、耐溶劑性及耐熱性。 φφ 其他添加劑本發明用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物係包含前述成份（A 1 )及（Α2 )以作爲必要成份，且可視需要含有其他添加劑。其他添加劑係包含矽烷偶聯劑、脫水劑、酸擴散控制劑' 敏化劑、界面活性劑、適用安定劑及消泡劑。

矽烷偶聯劑前述矽烷偶聯劑可用以改善自本發明輻射敏感性組成物所形成之絕緣謨與基板之間的黏著性。該矽烷偶聯劑以官能性矽烷偶聯劑爲佳，例如具有反應性取代基諸如羧基、甲基丙烯醯基、乙烯基、異氰酸根、環氧基或胺基之矽烷偶聯劑。該矽烷偶聯劑之實例係包括三甲氧基甲矽烷基苄酸、甲基二甲氧基甲矽烷基苄酸、甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧丙 -33- (29) 1273352 基甲基二甲氧基矽烷、r -甲基丙烯醯氧乙基三甲氧基矽烷、r -甲基丙烯醯氧乙基甲基二甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基甲基二甲氧基 - 矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基甲基二乙氧基矽烷、 r-縮水甘油氧丙基三甲氧基矽烷、r-縮水甘油氧丙基甲基二甲氧基矽烷、r-縮水甘油氧乙基三甲氧基矽烷、r- · 縮水甘油氧乙基曱基二甲氧基矽烷、/3-縮水甘油氧乙基 · 三甲氧基矽烷、/3-縮水甘油氧乙基甲基二甲氧基矽烷、 /3 - (3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、- (3,4-環氧基環己基）乙基甲基二甲氧基砂院、Τ"·(3,4 -環氧基環己基）丙基三甲氧基矽烷、r-(3,4-環氧基環己基）丙基甲基二甲氧基矽烷、N- (2-胺基乙基）-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N- ( 2-胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷及3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷。

矽烷偶聯劑之市售產物係包括Sila-Ace S210、S220、 S310 、 S320 、 S330 、 S510 ' S520 、 S530 及 S710 ( Chisso Corporation ) 、A-151、A171、A172、A174 ' Y-9936、A- 186、A-187、A-1100、A-1110、A-1120、A-1122、Y9669 及 Y-1160 ( Nippon Unicar Co·，Ltd.)、及 SH6020、 SZ6023 、 SH6026 、 SZ6030 、 SZ6032 、 SH6040 、 SZ6050 、 SZ6070 、 SZ6072 、 SZ6075 、 SZ6083 及 SZ6300 ( Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. ) 0 其中，以具有環氧基之矽烷偶聯劑爲佳，而T -縮水 -34- (30) 1273352 甘油氧丙基甲基二甲氧基矽烷、/3-縮水甘油氧乙基三甲搴氧基矽烷、縮水甘油氧乙基甲基二甲氧基矽烷、々-( 3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、0-(3,4-環氧基 — 環己基）乙基甲基二甲氧基矽烷、r-(3,4-環氧基環己基 )丙基三甲氧基矽烷及7-(3,4-環氧基環己基）丙基甲基二甲氧基砂院特佳。矽烷偶聯劑之用量以100重量份數成份（A1 )計以 · 50或較低重量份數爲佳，2至50重量份數較佳，而5至 3 0重量份數更佳。脫水劑

可添加於本發明輻射敏感性組成物的脫水劑可經由化學反應將水轉化成另一種物質，或可藉由物理吸附或包留而捕捉水。藉著將脫水劑包含於本發明輻射敏感性組成物中，可減少來自環境之水或成份（A 1 )在下文所述形成絕緣膜之步驟中曝露於輻射而生成之水。因此，推測脫水劑改善該組成物之輻射敏感性。較佳係使用至少一種選自羧酸酯、縮醛（包括縮酮）及羧酸酐作爲脫水劑。前述羧酸酯以原羧酸酯或羧酸甲矽烷基酯爲佳。原羧酸酯之實例係包括原甲酸甲酯、原甲酸乙酯、原甲酸丙酯、原甲酸丁酯、原乙酸甲酯、原乙酸乙酯、原乙酸丙酯、原乙酸丁酯、原丙酸曱酯及原丙酸乙酯。此等原羧酸酯中，以原甲酸酯特佳。 -35- (31) 1273352 羧酸曱矽烷基酯之實例係包括乙酸三甲基甲矽烷基酯、乙酸三丁基甲矽烷基酯、甲酸三甲基甲矽烷基酯及草酸 ^ 三甲基甲矽烷基酯。 - 縮醛之實例係包括酮與醇之間的反應產物、酮與二醇之間的反應產物、及甲矽烷醇縮烯酮。酮與醇之間之反應產物的實例係包括二甲醇縮乙醛、二乙醇縮乙醛及二丙醇 w 縮乙醛。 . 前述羧酸酐之實例係包括甲酸酐、乙酸酐、琥珀酸酐、順丁烯二酸酐、苯二甲酸酐、苄酸酐及反苄酸酐（ antic-benzoic anhydride)。其中，以乙酸酐及號拍酸酐爲佳，因其脫水效果特別優越。本發明脫水劑用量以100重量份數成份（A1 )計以 100或較低重量份數爲佳，0.1至100重量份數較佳，0.5 至50重量份數更佳，1至10重量份數特佳。超出前述範圍時，無法進一步改善該脫水劑之效果。

酸擴散控制劑本發明中，當使用在曝露於輻射下生成酸之化合物（輻射敏感性酸生成劑）作爲成份（A2 )時，可使用酸擴散控制劑。該劑控制該組成物塗膜中之輻射敏感性酸生成劑在曝露於輻射時所生成之酸性物質的擴散，且抑制未曝露之區域中的固化反應。藉著添加該種酸擴散控制劑，可得到具有優越圖案準確度之輻射敏感性組成物。 -36- (32) 1273352 酸擴散控制劑之實例係包括由下式（1 3 )表示之化合物（以下稱爲”含氮化合物（I ))、相同分子中具有兩個氮原子之二胺基化合物（以下稱爲”含氮化合物（II )) 、具有三或多個氮原子之含氮化合物（以下稱爲”含氮化合物（III ))、含醯胺基之化合物、脲化合物及含氮之雜環化合物： R47

I r48/N\r49 …(13) 其中R47、R4 8及R49個別係爲氫原子、具有1至6個碳原子之烷基、具有6至12個碳原子之芳基或具有7至12 個碳原子之芳烷基，該烷基、芳基及芳烷基之氫原子部分或完全經鹵原子所取代。前述含氮化合物（I )有例如單烷基胺、二烷基胺、三烷基胺、芳族胺或烷醇胺。含氮化合物（I )之實例係包括單烷基胺諸如正己基胺、正庚基胺、正辛基胺、正壬基胺及正癸基胺；二烷基胺諸如二-正丁基胺、二-正戊基胺、二-正己基胺、二-正庚基胺、二-正辛基胺、二-正壬基胺及二-正癸基胺；三烷基胺諸如三乙基胺、三-正丙基胺、三-正丁基胺、三-正戊基胺、三-正己基胺、三-正庚基胺、三-正辛基胺、三-正壬基胺及三-正癸基胺；芳族胺諸如苯胺、N-甲基苯胺、 N，N-二甲基苯胺、2 -甲基苯胺、3 -甲基苯胺、4 -甲基苯胺、4-硝基苯胺、二苯基胺、三苯基胺、1 -萘基胺；及烷醇 -37 - (33) 1273352 胺諸如乙醇胺、二乙醇胺及三乙醇胺。含氮化合物（II )之實例係包括乙二胺、n，n，n，，n，-四甲基乙二胺、四甲基亞甲基二胺、六亞甲基二胺、 Ν，Ν，ΙνΓ，Ν、四（2-羥乙基）乙二胺、N，N，N，，N’-四（2-羥丙基）乙二胺、4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4，-二胺基二苯基醚、4,4、二胺基二苯基甲酮、4,4，-二胺基二苯基胺、2,2，-雙（4-胺基苯基）丙烷、2- ( 3-胺基苯基）-2- ( 4-胺基苯基）丙烷、2- ( 4-胺基苯基）-2- ( 3-羥基苯基）丙烷、2-(4·胺基苯基）-2- ( 4-羥基苯基）丙烷、1,4-雙[1- ( 4-胺基苯基）-1-曱基乙基]苯及1,3-雙[1- ( 4-胺基苯基）-1-甲基乙基]苯。含氮化合物（III )之實例係包括聚乙二亞胺、聚烯丙胺及二甲胺乙基丙烯醯胺聚合物。前述含胺基化合物之實例係包括甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N，N-二甲基甲醯胺、乙醯胺、N-甲基乙醯胺、N，N-二甲基乙醯胺、丙醯胺、苯醯胺、吡咯烷酮及N-甲基吡咯烷酮。前述脲化合物之實例係包括脲、甲基脲、1，1-二甲基脲、1，3-二甲基脲、1，1，3,3-四甲基脲、1，3-二苯基脲及三丁基硫脲。前述含氮雜環化合物有例如咪唑、吡啶或其他含氮之雜環化合物。前述咪唑之實例係包括咪唑、苯并咪唑、2-甲基咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑及4-甲基-2-苯基 -38- (34) 1273352 咪唑。吡啶之實例係包括吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、 _ N -甲基-4 -苯基1¾ η定、薛驗、薛驗酸、薛驗酸醯胺、喹啉 - 、8 -羥基喹啉及吖啶。其他含氮雜環化合物之實例係包括吡啡、吡唑、噠畊、喹噚啉、嘌呤、吡咯烷、哌啶、嗎福啉、4-甲基嗎福啉 · 、哌啡、1，4-二甲基哌啡及ι，4-二氮雜二環[2·2·2]辛烷。 . 此等酸擴散控制劑中，以含氮化合物（I )及含氮雜 φφ 環化合物爲佳。其中，以三烷基胺爲特佳之含氮化合物（ I )，而吡啶係爲特佳之含氮雜環化合物。、特佳者有三乙胺、三-正丙基胺、三-正丁基胺、三-正戊基胺、三-正己基胺、三·正庚基胺、三-正辛基胺、吡啶、2_甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、 2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、Ν-甲基-4-苯基吡啶、菸鹼、菸鹼酸、菸鹼酸醯胺、喹啉、8 -羥基喹啉及吖啶。此等酸擴散控制劑可單獨使用或兩種或多種組合使用 ·· 〇該酸擴散控制劑之量以1 00重量份數成份（A 1 )計以 15或較少重量份數爲佳，0.001至15重量份數較佳， · 0.005至5重量份數更佳。 _ 敏化劑可摻合敏化劑以改善本發明輻射敏感性組成物的輻射敏感性。該敏化劑之實例係包括2 - Η -吡啶并-(3，2 - b)- -39- (35) 1273352 1，4-噁畊-3 ( 4H )-酮、10H-吡啶并-(3,2-b ) - ( 1，4 )-苯并噻啡、尿π坐、乙內醯脲、巴比土酸（barbituric acids) 、甘胺酸酐、1 -經基苯并二哩、四氧喃卩定（a 11 o x a n s )、順丁烯二醯亞胺、在3-位置及/或7-位置上具有取代基之香豆素、黃酮、二亞苄基丙酮、二亞苄基環己烷、查耳酮 (c h a 1 c ο n e s )、咕噸、硫咕_、樸啉、敝花青、吖卩定及蒽敏化劑之量以100重量份數成份（A2)計以100或較低重量份數爲佳，1至50重量份數更佳。界面活性劑可添加界面活性劑以改善例如塗覆性，防止形成條紋且改善在形成乾燥塗膜之後經曝露部分的顯影性。

界面活性劑之實例係包括非離子性界面活性劑，諸如聚環氧乙烷烷基醚，包括聚環氧乙烷月桂基醚、聚環氧乙烷硬脂基醚及聚環氧乙烷油基醚；聚環氧乙烷芳基醚，包括聚環氧乙烷辛基醚及聚環氧乙烷辛基苯基醚；及聚乙二醇二烷基酯，包括聚乙二醇二月桂酸酯及聚乙二醇二硬脂酸酯；以氟爲主之界面活性劑，市售商標爲F Top EF301 ' EF303 及 EF35 2 ( Shin Akita Kasei Co., Ltd.)

Megafac F171、F172 及 F173 (Dainippon Ink and Chemicals， Inc·) 、Florade FC430 及 FC431 ( Sumitomo 3M Limited) 、及 Asahi Guard AG710、Surflon S- 3 82、SC-101、SC-102 、SC-103、SC-104、SC-105 及 SC-106 ( Asahi Glass Co., -40- (36) 1273352

Ltd.);以聚矽酮爲主之添加劑，市售商標爲 SH200-lOOcs、SH28PA、SH30PA、ST89PA 及 SH190 ( Toray Dow

Corning Silicone Co.，Ltd.);及其他界面活性劑，市售商標爲 KP341有機矽氧烷聚合物（Shin-Etsu Chemical Co.， Ltd.)及Poly flow No.，57及No. 95以丙烯酸或甲基丙烯酸爲主之（共）聚合物（Kyoeisha Chemical Co·，Ltd·)。界面活性劑之量以100重量份數成份（A1 )計以2重量份數或較少爲佳，1重量份數或較少更佳。本發明用以形成供液晶顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物可視需要包含之其他添加劑係包括酸擴散控制劑、脫水劑、敏化劑、界面活性劑、黏著助劑、適用安定劑及消泡劑。其中，酸擴散控制劑、脫水劑、敏化劑及界面活性劑係與用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物所使用者相同，且用量相同。應已知該量係與成份（A1 )及成份（A2)相同。用以形成供顯示裝置使用之絕緣膜的輻射敏感性組成物本發明輻射敏感性組成物係包含成份（A 1 )及（A2 )及其他視情況添加之添加劑。其通常係於使用前溶解或分散於一溶劑中。可用以製備本發明輻射敏感性組成物之溶劑較佳係將本發明輻射敏感性組成物之成份均勻地溶解或分散，而不與此等成份反應。該溶劑有例如醇、醚、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯 -41 - (37) 1273352 、二（乙二醇）烷基醚、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳族烴、酮或酯。該溶劑之實例係包括醇類諸如甲醇及乙醇；醚類諸如四氨咲喃；一*醇釀類3者如乙一'醇卓甲基酸及乙一* 卓乙基醚；乙二醇烷基醚乙酸酯諸如甲基溶纖素乙酸酯及乙基溶纖素乙酸酯；二（乙二醇）烷基醚諸如二（乙二醇）單甲基醚、二（乙二醇）單乙基醚、二（乙二醇）二甲基醚、二（乙二醇）二乙基醚及二（乙二醇）乙基甲基醚；丙二醇單烷基醚諸如丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇丙基醚及丙二醇丁基醚；丙二醇烷基醚乙酸酯諸如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯及丙二醇丁基醚乙酸酯；丙二醇烷基醚丙酸酯諸如丙二醇甲基醚丙酸酯、丙二醇乙基醚丙酸酯、丙二醇丙基醚丙酸酯及丙二醇丁基醚丙酸酯；芳族烴諸如甲苯及二甲苯；酮類諸如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、2-庚酮及4-羥基-4-甲基-2-戊酮；及酯類諸如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸 -42- (38) 1273352 甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯 _ 、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧丙酸甲酯、2-甲氧丙酸乙酯、 - 2-甲氧丙酸丙酯、2-甲氧丙酸丁酯、2-乙氧丙酸甲酯、2-乙氧丙酸乙酯、2 -乙氧丙酸丙酯、2 -乙氧丙酸丁酯、2 -丁氧丙酸甲酯、2-丁氧丙酸乙酯、2_ 丁氧丙酸丙酯、2-丁氧丙酸丁酯、3 -甲氧丙酸甲酯、3 -甲氧丙酸乙酯、3 -甲氧丙酸丙酯、3-甲氧丙酸丁酯、3-乙氧丙酸甲酯、3-乙氧丙酸鲁0 乙酯、3 -乙氧丙酸丙酯、3 -乙氧丙酸丁酯、3 -丙氧丙酸甲酯、3 -丙氧丙酸乙酯、3 -丙氧丙酸丙酯、3 -丙氧丙酸丁酯 „ 、3 -丁氧丙酸甲酯、3· 丁氧丙酸乙酯、3 -丁氧丙酸丙酯及 3 - 丁氧丙酸丁酯。此等溶劑中，就溶解度、分散性、與前述成份之不可反應性及形成塗膜之簡易性而言，以二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、酮類、酯類及二（乙二醇）烷基醚爲佳。特佳者有乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二（乙二醇）單甲基醚、二（乙二醇）單乙基醚、二（乙二醇）二乙基醚、二（乙二醇） · 乙基甲基醚、甲基溶纖素乙酸酯、乙基溶纖素乙酸酯、丙，二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、環己酮、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、2-甲氧丙酸甲酯及 2 -甲氧丙酸乙酯。 -43- (39) 1273352 此等溶劑可單獨或組合使用。此外’高沸點溶劑可與前述溶劑組合使用。高沸點溶劑之實例係包括苄基乙基醚、二己基醚、二（乙二醇）單甲基醚、二（乙二醇）單乙基醚、二（乙二醇）單丁基醚、丙酮基丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、；[·辛醇、壬醇、苄醇、乙酸苄酯、苄酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、r - 丁內酯、碳酸乙二醇酯、碳酸丙二醇酯、苯基溶纖素乙酸酯及卡必醇乙酸酯。高沸點溶劑之用量以所有溶劑之總量計以50重量％或較低爲佳。本發明輻射敏感性組成物係使用前述溶劑製備。適當之固體含量係根據應用目的選擇，但可爲5至50重量％〇前文製備之組成物溶液在使用之前以具有約0.2微米開口直徑之濾器過濾。形成供顯示裝置使用之絕緣膜的方法供有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置使用之絕緣膜可如下文自本發明輻射敏感性組成物形成。本發明輻射敏感性組成物係施加於基板表面上，且預先烘烤以移除溶劑，而形成一塗膜。該塗覆技術可爲噴灑、輥塗、轉塗或桿塗法。依各成份之種類及該成份之比例而異的預先烘烤條件以30至200°C爲佳，40至150°C較佳，且可使用熱板或爐 -44- (40) 1273352 具或紅外線輻射加熱。預先烘烤後之薄膜厚度可藉由該輻射敏感性組成物之固體含量及施加條件而調整至所需値。有機E L顯示裝置可約0 · 5至7微米，而液晶顯示裝置可約〇 · 2 5至4微米。

所形成之塗膜隨之經由預定圖案罩幕曝露於輻射下。曝露所使用之射係爲紫外線，諸如g _線（波長4 3 6奈米 )或i-線（波長365奈米）、深紫外線諸如KrF激光雷射光束、X-射線諸如同步加速器輻射、及帶電粒子束諸如電子束。其中，以g-線及i-線爲佳。曝光量通常係爲50至 10，000焦耳/米’以1〇〇至5，000焦耳/米2爲佳。本發明中，加熱（稱爲”曝露後烘烤（PEB ))以於曝光後進行爲佳。PEB可使用與前述預先烘烤裝置相同之裝置，而PEB 條件可任何決定。加熱溫度以3 0至1 5 0 °C爲佳，3 0至1 3 0 °C較佳。曝露於輻射之後，該塗膜係使用顯影劑顯影，以移除經曝光之部分，而得到所需之圖案。本發明所使用之顯影劑的較佳實例係包括無機鹼諸如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、砂酸鈉、偏矽酸鈉及氨水；一級胺諸如乙胺及正丙基胺；二級胺諸如二乙基胺及二-正丙基胺；三級胺諸如三乙胺及甲基二乙基胺；醇胺諸如二甲基乙醇胺、三乙醇胺；四級銨鹽諸如氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨及膽鹼；及驗水溶液，其包含溶於水中之環狀胺諸如吡咯、哌 D定、1，8-二氮雜二環_(5.4〇) _7_十一碳烯或ι，5-二氮雜二環-(4.3.0 ) -5-壬烷。水溶性有機溶劑諸如醇一例如甲 -45- (41) 1273352 醇及乙醇及界面活性劑可適量添加於該顯影劑中。此外，溶解本發明組成物之有機溶劑可作爲顯影劑。該顯影技術可爲攪煉顯影、浸漬或搖動浸漬。顯影之後，該經圖案化之薄膜可使用流動之水淋洗。之後，供所硏究之有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置使用的絕緣膜可藉著以加熱器諸如熱板或爐加熱該膜而形成。此加熱溫度可爲150°C至400°C，而當於熱板上進行加熱時，加熱時間係爲5至30分鐘，當加熱係於爐中進行時係爲30至90分鐘。該絕緣膜可基於該組成物之組成及所硏究之有機EL 顯示裝置或液晶顯示裝置的結構而調整。有機EL顯示裝置可調整至0.5至7微米，而液晶顯示裝置可調整至0.25 至4微米。因爲習知之絕緣膜材料基本上係包含有機合成聚合物且其耐熱性有限，故前述加熱步驟中之加熱溫度無法充分增高。因此，需於250°C或較低之溫度下進行加熱，而無法於加熱步驟中完全移除該材料中所含之水。當該材料係使用於有機EL顯示裝置之絕緣膜中時，殘留於該絕緣膜中之水滲透該有機EL層，而變成阻礙該有機EL顯示裝置之發光特性的因素之一。本發明輻射敏感性組成物可於高於2 5 0 °C之溫度下加熱，例如於前述加熱步驟中300至400°C，以完全移除殘留於該絕緣膜中之水。因此，認爲本發明輻射敏感性組成物延長該有機EL顯示裝置之適用期。 -46- (42) 1273352 所形成之本發明絕緣膜具有高度耐熱性、高度透明性及優越之耐溶劑性。當其係作爲供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜且於300°C下加熱時，可保留充分足夠之透明性。即使於320°C下加熱，仍保留充分透明性。自含有酚樹脂諸如酚醛淸漆樹脂及以醌二疊氮爲主之敏化劑之組成物或含有丙烯酸樹脂及醌二疊氮爲主之敏化劑的組成物所形成之中間層絕緣膜具有最高達約23(TC之耐熱性。當其於高於230 °C之溫度下加熱時，其變黃或變棕，因而大幅降低其透明性。有機EL顯示裝置之製造本發明有機EL顯示裝置具有前文所形成之絕緣膜。本發明有機EL顯示裝置係例如如下製得。驅動接點係形成於基板諸如玻璃基板上，而本發明絕緣膜係形成於前述驅動接點上。透明電極（電洞注射電極 )諸如ITO電極係藉濺射沉積，而其圖案係藉濕式鈾刻法形成。而且，電洞輸送層、有機EL層、電子輸送層及電子注射電極係依序沉積於該基板上。該電洞輸送層係自酞花青材料諸如CuPc或H2Pc或芳族胺製得。有機EL介質係爲摻雜有喹吖啶酮或香豆素之基材諸如Alg3或BeB3。此外’該電子輸送層係自例如Alq3製得，該電子注射電極係自 Mg-Al，Al-Li，Al-Li2〇或 Al-LiF 製得。之後，不銹鋼可具有中空結構，前述基板可使用密封 -47- (43) 1273352 物諸如環氧樹脂密封，且組合成爲模組如有機EL顯示裝置。液晶顯示裝置本發明液晶顯示裝置具有前述中間層絕緣膜，針對螢幕提供高亮度且具有優越之可信度。實施例以下實施例係用以進一步說明本發明。然而，本發明不受限於此等實施例。下文所述之分子量係爲藉Toso Co.， Ltd.之HLC-8020 GPC層析針對聚苯乙烯測量之重量平均分子量。合成例1 (成份（A1 )之製備例1 ) 3 00.0克甲基三甲氧基矽烷、47 ·5克電導係數爲8 X 10_5 S · cnT1之離子交換水及0·1克草酸係放置於裝置有攪拌器之容器中，於60°C下於攪拌下加熱6小時，以將甲基三甲氧基矽烷水解。之後，於此容器中添加1，000克丙二醇單甲基醚，藉蒸發器移除水解之副產物離子交換水及甲醇。該溶液之最終固體含量係調整至25重量％，以得到含有成份（A 1 )之丙二醇單甲基醚溶液。此稱爲溶液（a _ 所製備之成份（A1 )的重量平均分子量係爲8,000。 -48- 1 ) ° (44) 1273352 合成例2 (成份（A1 )之製備例2 ) 150.0克甲基三甲氧基矽烷、150.0克丁基三甲氧基矽烷、50·0克電導係數爲8 X 10 _5 S· cm·1之離子交換水及〇.〇5克草酸係放置於裝置有攪拌器之容器中，於60 °C下於攪拌下加熱6小時，以將甲基三甲氧基矽烷水解。之後，於此容器中添加1,000克丙二醇單甲基醚，藉蒸發器移除水解之副產物離子交換水及甲醇。該溶液之最終固體含量係調整至25重量％，以得到含有成份（A1)之丙二醇單甲基醚溶液。此稱爲溶液（a-2) ° 所製備之成份（A1 )的重量平均分子量係爲6,000。 )/實施例1 \ \\、 4⑽重量份數作爲成份（A1)之前述溶液（a-Ι)(對應於100重量份數之成份（A1))及2·0重量份數作爲成份（Α2)之苯基4-(2’-羥基-Γ-十四碳氧基）苯基碘鏺-鄰_甲苯磺酸根絡一輻射敏感性組成物一係均勻混合且溶合，所得之溶液以開口直徑爲0.2微米之膜濾器過濾，以得到一組成...猶溶液。薄膜圖案（絕里麗）之形成前文製備之組成物溶液藉旋塗法施加於玻璃基板上直至厚度爲1.2微米，於1〇〇°C熱板上預先烘烤3.0分鐘以 -49 - (45) 1273352 形成塗膜。該塗膜係使用Nikon Corporation之 NSR1755i7A縮小投影步進器（NA = 0·50，λ=365 奈米）經由預定罩幕曝露於3，〇〇〇焦耳/米2下，於go 下於熱板上進行曝光後烘烤3.0分鐘。之後，所形成之塗膜根據搖擺式浸漬方法於2 5 C下使用2 · 3 8重量％氫氧化四甲基銨水溶液顯影1 · 5分鐘’於流動純水中淋洗，乾燥以於該基板上形成圖案。之後，該圖案於3 50 °C下於爐中加熱60分鐘，以形成厚度1·〇微米且線寬10微米之矩陣型圖案（絕緣膜）。 (1 )浮渣之生成（經由電子顯微鏡觀察）前文所得之圖案係經由S-4200 -電子顯微鏡（Hitachi High-Technologies Corporation)觀察。浮渣之生成係出示於表1中。 (2 )耐鹼性之評估上磨一形泰看前述圖案之玻璃基板浸漬於保持在25它溫度之1% NaOH水溶液中歷經20分鐘。當浸漬前之薄膜厚度以T1表示且浸漬後之薄膜厚度以11表示時，計算厚度比（tl/Tl) X 100(%)。結果出不於表1中。當此値係爲95至105 %時，可說耐鹼性係令人滿意。 (3 )耐溶劑性之評估上層形成有前述圖案之玻璃基板浸漬於二甲基亞硕與 -50- (46) 1273352 N-甲基吡咯烷酮（重量比爲70/30 )保持於25°C溫度之混合溶液中歷經20分鐘。當浸漬前之薄膜厚度以T2表示且 ^ 浸漬後之薄膜厚度以t2表示時，計算厚度比（t2/T2) X _ 100 ( % )。結果出示於表1中。當此値係爲95至105 %時，可說耐溶劑性令人滿意。 (4 )耐熱性之評估 . 具有圖·之玻璃基板上的薄膜圖案係藉刮勺刮除。春鲁 0.5克薄膜片使用 TGA-2950熱解重量分析器（TA Instruments Co.，Ltd·)於 10°C /分鐘之溫度升高速率下自 - 室溫加熱至320°C，於3 20°C下保持30分鐘，以測量加熱，後之重量減少。當此重量減量係爲加熱前重量之3%或較低時，可說耐熱性令人滿意。 (5 )平面化之評估前述1成物藉旋塗法施加於具有1微米厚鋁圖案一線鲁寬20微米且間隔80微米_之矽晶圓基板上，直至1.2微米厚度。之後，該塗膜於120°C下預先烘烤3.0分鐘，之後於350°C下進一步加熱60分鐘，以製得供平面化評估 · 使用而具有薄膜之基板。 β 此基板具有薄膜之表面的不均勻性係使用α -步階（ KLA-Tencor Co·，Ltd.)測量。最大高度差係出示於表1中。當此値係爲0.2微米或更小時，可說平坦化能力令人滿思 ° -51 - (47) 1273352 (6 )解析度之評估用以評估解析度之薄膜係依前述”薄膜圖案（絕緣膜 )之形成”所述方式形成，不同處係使用具有5·〇 X 5.0微米方孔之圖案罩幕作爲曝光步驟之圖案罩幕。此薄膜係經由S-4200電子顯微鏡觀察，以確認是否確實形成5·〇 X 5·〇微米方孔。當確實形成5.0 X 5.0微米方孔時，可說解析度係令人滿意。 (7 )亮度之半衰期〜....〜.. 製造供評估使用之有機EL面板以於1〇〇 Cd/m2{(紅 ·· 100+綠·· 200+藍·· 100) cd/m2+ 3x0.7 与 1〇〇 Cd/m2；[螢幕亮度及105 °C溫度下進行發光性能測試。螢幕亮度變成一半之前所經過之時間係出示於表1中。當此値係爲400高度或更長時，可說亮度之半衰期令人滿意。 (8 )黏著性之評估〆前文製備之組成物溶液係藉旋塗法施加於Giomatic Co·，Ltd.製造具有IT0薄膜（300毫米X300毫米正方，厚度1.1毫米，電阻10歐姆）之玻璃基板上，直至厚度爲 1.2微米，於100°C熱板上預先烘烤3.0分鐘，以形成塗膜。此塗膜使用Canon Corporation之PLA501F配向器以ghi 混合線完全曝露於3,000焦耳/米2之紫外線輻射下，於 1 00 °C熱板上進行曝光後烘烤3.0分鐘。之後，經曝光之 -52- (48) 1273352 薄膜於25°C下使用2· 38重量％氫氧化四甲基銨水溶液藉搖動浸漬法顯影1 · 5分鐘，於流動純水中淋洗，乾燥以於該基板上形成圖案。該基板於3 5 0 °C爐中加熱60分鐘，以形成1.0微米厚之固化薄膜。此固化薄膜之黏著性根據JIS K-5400- 1990藉8.5.3交叉裁切黏著性試驗測量。1 00個正方形中殘留之正方形數目係出示於表1中。 (9 )透明性之評估於個別 Corning 1 737 玻璃基板（Corning Co·，Ltd.) 上依前文”圖案（中間層絕緣膜）之形成，，的方式形成三種不同之圖案，不同處係曝光後烘烤溫度係個別變成2 2 0 °C 、260°C及300 °C。具有固化薄膜之玻璃基板的透光度係於400至800奈米波長下藉Hitachi, Ltd.之1 50-20雙光束分光光度計Double Beam spctrophotometer)測量。最小透光度係出示於表1中。當此値係爲9 5 %或更大時，透明性優越，當此値係爲80%或較大且低於95%時，透明性令人滿意，而當此値小於80%時，透明性無法令人滿意。 (、實施肩2 溶合400重量份數作爲成份（A1 )之前述溶液（a-2 )(對應於100重量份數之成份（A1 ) ) 、1.0重量份數作爲成份（A2 )之三氟甲磺酸根絡三苯基銃一其係輻射敏感性酸生成劑、0.5重量份數作爲敏化劑之9-羥甲基蒽、 -53- (49) 1273352 Ο · 02重量份數作爲酸擴散控制劑之三乙胺、3.0重量份數作爲脫水劑之原甲酸甲酯、及0.05重量份數作爲以聚矽酮爲主之界面活性劑的 SH28PA ( Toray Dow Corning Silicone Co·，Ltd·)，形成之溶液使用開口直徑爲〇·2微米之膜濾器過濾，以得到組成物溶液。此組成物溶液依實施例1之方式評估，不同處係曝光步驟中曝露於輻射之量係如表1般改變。結果係出示於表 1中0 實施例3 添加400重量份數作爲成份（A1 )之前述溶液（a-2 )(對應於100重量份數之成份（A1))及6.0重量份數作爲成份（A2)之N-( 2-硝基苄氧羰基）吡咯烷一其係輻射敏感性鹼生成劑、均勻混合且溶合，形成之溶液使用開口直徑爲0.2微米之膜濾器過瀘，以得到組成物溶液。此組成物溶液依實施例1之方式評估，不同處係曝光步驟中曝露於輻射之量係如表1般改變。結果係出示於表 1中。實施例4 均勻混合且溶合400重量份數作爲成份（A1 )之前述溶液（a-2)(對應於100重量份數之成份（A1 ) ) 、1.0 重量份數作爲成份（A2)之三氟甲磺酸根絡三苯基銃一其係輻射敏感性酸生成劑、0.5重量份數作爲敏化劑之9-羥 -54- (50) 1273352 甲基蒽、15重量份數/3 - (3,4 -環氧基環己基）乙基三甲氧石夕院（Chisso Corporation 之 Silaace S530)—其係爲石夕烷偶聯劑及0.05重量份數以聚矽酮爲主之界面活性劑 ' SH28P A ( Toray Dow Corning Silicone Co·，Ltd·)，形成之溶液使用開口直徑爲0.2微米之膜濾器過濾，以得到組成物溶液。 ^ 此組成物溶液依實施例1之方式評估，不同處係曝光，步驟中曝露於輻射之量係如表1般改變。結果係出示於表 · | 1中。

-55- 1273352 黏著性（數量） c<\ ON wo oo 100 亮度半衰期（h) 1_ 730 800 750 720 5.0 X 5.0 方孑L 形成形成形成形成平坦化能力（微米）〇〇 r-H 〇 ON Η ο τ—Η Ο oo τ—Η Ο 耐熱性 1_ 〇 0.6% 1 0.4% _1 r- ο 耐溶劑性 1_ 102% 102% 101% 101% 耐鹼性 i 1_ 101% 102% 101% 101% 浮渣生成壊璀摧壊曝光量 (J/m2) 3,000 2,500 5,000 ! 3,000 r-H X csi X m cn X 寸孽·|<二3

-56- (52) 1273352 實施例5 測量實施例1所得之圖案的透明性（最小透光度）。結果出示於表2中。表1中之部分結果亦出示於表2中。以與實施例1相同之方式評估透明性。實施例6 均勻混合且溶合400重量份數作爲成份（A1 )之前述 . 溶液（a-2)(對應於100重量份數之成份（A1 ) ) 、1.0 ## 重量份數作爲成份（A2)之三氟甲磺酸根絡三苯基銃一其係輻射敏感性酸生成劑、〇. 5重量份數作爲敏化劑之9 -羥，甲基蒽、0.02重量份數作爲酸擴散控制劑之9-羥甲基蒽及 _ 0.05重量份數以聚矽酮爲主之界面活性劑SH28PA (

Toray Dow Corning Silicone Co·，Ltd·)，形成之溶液使用開口直徑爲0 · 2微米之膜濾器過濾，以得到組成物溶液。此組成物溶液依實施例5之方式評估，不同處係曝光步驟中曝露於輻射之量係如表2般改變。結果係出示於表 2中。實施例7 製備實施例3之組成物溶液，依實施例5之方式評估 ’不同處係曝露於輻射之步驟中的曝光量係如表2般改變 ’於130°C下進行曝光後烘烤歷經3分鐘。結果出示於表 2中。 -57- (53) 1273352 對照合成例1 5重量份數2,2M禺氮基雙（2,4-二甲基戊腈）及200 " 重量份數二（乙二醇）甲基乙基醚進料至裝有冷卻管及攪 - 拌器之燒瓶中。之後，將25重量份數苯乙烯、20重量份數甲基丙烯酸、45重量份數甲基丙烯酸縮水甘油酯及1〇重量份數甲基丙烯酸[5.2.1·02’Ί癸烷-8-酯（技術領域中通 · 稱爲”曱基丙烯酸二環戊酯”）進料至該燒瓶內，燒瓶內部，以氮置換，開始溫和攪動。溶液溫度升高至70 °C ’於該鲁· 溫度下保持5小時，以得到聚合物溶液。所得之聚合物溶液之固體含量係爲30·6重量％。此者稱爲溶液（a-3)。 . 所製備之聚合物的重量平均分子量係爲6,000。 _ 對照例1 混合得自對照合成例1之溶液（a-3 )(對應於1〇〇重量份數聚合物）及30重量份數4,4、[1-[4-[1-[4-羥苯基 ]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚（1莫耳）與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯（2莫耳）之縮合物，溶解於二（乙二醇）乙基甲基醚中，成爲30重量％之固體含量。形成之溶液使用開口直徑0.2微米之膜濾器過濾，以得到組成物溶液 · 〇前文製備之組成物溶液藉旋塗法施加於玻璃基板上直至膜厚1.2微米，於9(TC下於熱板上預先烘烤2.0分鐘，以形成塗膜。該塗膜使用 Nikon Corporation 之 NSR1755i7A縮小投影步進器（ΝΑ = 0.50，λ =365奈米）經 -58- (54) 1273352 由預定罩幕曝露於輻射之後，於2 5它下使用〇 · 4重量％氫氧化四甲基銨水溶液藉搖動浸漬法顯影1分鐘，於流動純水中淋洗’乾燥’以於該晶圓上形成圖案。之後，使用 · ghi混合線以Canon Corporation之PLA501F配向器使該圖案曝露於3,000焦耳/米2之紫外線輻射，於22〇°c下於爐中加熱60分鐘，以形成厚度1 · 〇微之圖案（中間層絕緣 ’ 膜）。 . 自前述組成物形成之圖案依前述實施例之方式進行下列評估（1 )浮渣之生成，（2 )耐溶劑性，（3 )耐熱性，（4 )透明性，（5 )平坦化能力及（6 )解析度。結果 ^ 列於表2中。

-59- 1273352 55 τ 0 5.0x5.0 微米方孔形成形成形成形成平坦化能力（微米）〇〇 r-H 〇 On τ—i Ο 卜〇 r—H 〇最小透光度曝光後於 300〇C 下烘烤 ON v/") ON vr> ON S 曝光後於 260°C 下烘烤 Ό ON On 〇\ OO 曝光後於 220°C 下烘烤 OO Os as vn ON 耐熱性 0.5% 0.6% 0.4% 1 2.5 % 耐溶劑性 102% 102% 101% 103% 浮渣生成壊裢鹿裢曝光量 (J/m2) 3,000 I 2,500 5,000 1,200 X m VO X m 卜 X W ι-H xi pq u 冕陛諒=」36

-60- (56) 1273352 如前文所述，根據本發明，提供一種輻射敏感性組成物’用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜，其具有足以形成通孔或U形凹陷之解析度、優越之平坦化能力及高度對抗用以形成透明電極之光阻移除劑的性能，且防止雜質進入而防礙發光。自該組成物形成之本發明絕緣膜適用於有機EL顯示裝置，而具有該絕緣膜之本發明有機EL顯示裝置具有優越可信度。而且，本發明輻射敏感性組成物具有高度輻射敏感性及優越之顯影性，且適於形成供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜。自本發明輻射敏感性組成物形成之本發明中間層絕緣膜具有耐熱性、高透明性及優越之耐溶劑性。具有前述本發明中間層絕緣膜之本發明液晶顯示裝置使螢幕具有高亮度且具有優越之可信度。 -61 -

Claims

1273352 (1) 拾、申請專利範圍第92101510號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國95年10月24日修正 1 . 一種輻射敏感性組成物，其包含： (A 1 )至少一種選自由下式（丨）表示之矽烷化合物 (R】）。Si ( X ) 4.p ( 1 ) 其中R1係爲具有1至12個碳原子之不可水解有機基團， X係爲可水解基團，且p係爲〇至3之整數，其水解物及該水解物之縮合物的化合物；及（A2 )曝露於輻射時生成酸或鹼之化合物，及 (B )，其係用以形成供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜〇 2. 如申請專利範圍第1項之輻射敏感性組成物，其進一步包含一矽烷偶聯劑。 3. 如申請專利範圍第1或2項之輻射敏感性組成物，其進一步包含一脫水劑。 4. 一種輻射敏感性組成物，其包含： (A 1 )至少一種選自由下式（1 )表示之矽烷化合物 1273352 (2) (R1 ) pSi ( X ) 4.p ( 1 ) 其中R 1係爲具有1至1 2個碳原子之不可水解有機基團， X係爲可水解基團，且p係爲0至3之整數，其水解物及該水解物之縮合物的化合物；及 (A2)曝露於輻射時生成酸或鹼之化合物，及 (B )，其係用以形成供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜。 5. 如申請專利範圍第4項之輻射敏感性組成物，其進一步包含一矽烷偶聯劑。 6. —種供有機EL顯示裝置使用之絕緣膜，其係自如申請專利範圍第1至3項中任一項之輻射敏感性組成物形成。 7. —種有機EL顯示裝置，其具有如申請專利範圍第 6項之絕緣膜。 8. —種供液晶顯示裝置使用之中間層絕緣膜，其係自如申請專利範圍第4或5項之輻射敏感性組成物形成。 9 . 一種液晶顯示裝置，其具有如申請專利範圍第8項之中間層絕緣膜。